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1. 发明公开

KR1020090082308A 글라스 부재 용착 치구 및 이를 이용하는 글라스 용착시스템 无效
标题翻译：用于焊接玻璃构件和玻璃焊接系统
公开(公告)号：KR1020090082308A
公开(公告)日：2009-07-30
申请号：KR1020087000788
申请日：2007-07-23
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 타케우치,키요시 , 이와사키,야스쿠니
IPC分类号： C03B23/20
CPC分类号： C03B23/20 , C03B23/203
摘要： A glass member fusing device comprises a base member (1) having a major surface on which glass members (10, 11) are placed in a predetermined area (15), positioning members (5) so fitted to the base member (1) that they are in contact with the outer surfaces of the glass members (10, 11) and they position the glass members (10, 11) in the predetermined area (15), and a pressing structure so installed on the base member (1) as to press the glass members (10, 11) against the major surface of the base member (1) and separate from the glass members (10, 11). The positioning members (5) are so fitted that a laser beam can be applied to all around the outer surfaces of the glass members (10, 11) without intercepting the laser beam by the positioning member (5).
摘要翻译：玻璃构件定影装置包括具有主表面的基部构件（1），玻璃构件（10,11）放置在预定区域（15）中，定位构件（5）安装到基座构件（1）上，它们与玻璃构件（10,11）的外表面接触，并将玻璃构件（10,11）定位在预定区域（15）中，并且将按压结构安装在基座构件（1）上，如将玻璃构件（10,11）压靠在基部构件（1）的主表面上并与玻璃构件（10,11）分离。定位构件（5）被安装成使得激光束可以被施加到玻璃构件（10,11）的外表面周围，而不会被定位构件（5）遮挡激光束。

2. 发明公开

KR1020080042172A 마그네트론 스퍼터링용 자석 구조체 및 캐소드전극 유닛과마그네트론 스퍼터링 장치 有权
标题翻译：磁控溅射和阴极电极单元和磁控溅射设备的磁结构
公开(公告)号：KR1020080042172A
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：KR1020087008163
申请日：2006-08-23
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 콘도,타카히코 , 호리,타카노부 , 이와사키,야스쿠니 , 요네야마,노부오
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/3452
摘要： A magnet structure or the like in which the labor required for designing a magnet is lessened when a tunnel plasma confinement leakage field is formed in good balance on a target surface based on a four-way magnetic field formed by magnetic interaction among a plurality of magnets. The magnet structure (110) comprises inner/outer magnets (10, 13) forming a first line of magnetic force reaching a target surface (20A) and arranged on the rear side of the target (20) while differentiated in the orientation of magnetic moment, intermediate magnets (11, 12) forming a second line of magnetic force offsetting the width direction component of flux density by the first line of magnetic force and arranged on the rear side of the target (20) between the inner/outer magnets (10, 13) while differentiated in the orientation of magnetic moment, and a magnetic member (24) arranged on the rear side of the target (20) so as to guide the second line of magnetic force exiting the end face of one of the intermediate magnets (11, 12) to the end face of the other of the intermediate magnets (11, 12), wherein the magnetic member (24) forms a line of magnetic force reaching the midway in the thickness direction of the target (20) between the magnetic member (24) and the inner magnet (10) or the outer magnet (13).
摘要翻译：基于由多个磁体之间的磁性相互作用形成的四通磁场，在目标表面上形成隧道等离子体限制泄漏场时，减少设计磁体所需的劳动力的磁体结构等。。磁体结构（110）包括内/外磁体（10,13），其形成到达目标表面（20A）的第一磁力线，并且布置在目标（20）的后侧，同时以磁矩方向不同，形成第二磁力线的中间磁体（11,12），其通过第一磁力线抵消磁通密度的宽度方向分量，并布置在内/外磁体（10）之间的目标（20）的后侧，13），并且磁性构件（24）布置在所述靶（20）的后侧，以引导离开所述中间磁体的一个的端面的所述第二磁力线（11,12）连接到另一个中间磁体（11,12）的端面，其中磁性构件（24）形成到目标（20）的厚度方向中间的磁力线磁性构件（24）和内部磁体（10）或外磁体（13）。

3. 发明授权

KR100998635B1 마그네트론 스퍼터링용 자석 구조체 및 캐소드전극 유닛과마그네트론 스퍼터링 장치 有权
标题翻译：磁控溅射和阴极电极单元和磁控溅射设备的磁结构
公开(公告)号：KR100998635B1
公开(公告)日：2010-12-07
申请号：KR1020087008163
申请日：2006-08-23
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 콘도,타카히코 , 호리,타카노부 , 이와사키,야스쿠니 , 요네야마,노부오
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/3452
摘要： 복수의 자석 간 자기상호작용에 의한 4방향 자계에 기초하여, 타깃 표면에 터널 형상 플라즈마 구속 누설자계를 밸런스 좋게 형성하는 때의 자석설계 수고경감을 도모한 자석 구조체 등을 제공한다. 자석 구조체(110)는, 타깃 표면(20A)에 도달하는 제1 자력선을 형성하고 타깃(20)의 후면측에 자기모멘트의 방향을 다르게 하여 배치된 내, 외부자석(10),(13)과, 제1 자력선에 의한 자속밀도의 폭방향 성분을 상쇄하는 제2 자력선을 만들고 내, 외부자석(10),(13)과의 사이의 타깃(20)의 후면측에 자기모멘트의 방향을 다르게 하여 배치된 중간자석(11),(12)과, 중간자석(11),(12)의 일측 단면에서 나온 제2 자력선이 중간자석(11),(12)의 타측 단면으로 들어가도록 제2 자력선을 안내하기 위하여 타깃(20)의 후면측에 배치된 자성부재(24)를 구비하고, 자성부재(24)는 내부자석(10) 또는 외부자석(13)과의 사이에서 타깃(20)의 두께방향의 도중까지 도달하는 자력선을 형성하여 이루어진다.
타깃, 자석 구조체, 내부자석, 외부자석, 중간자석, 자성부재

4. 发明授权

KR100998634B1 마그네트론 스퍼터링 장치용 자석 구조체 및 캐소드전극유닛과 마그네트론 스퍼터링 장치 失效
标题翻译：磁控溅射系统的磁体结构，阴极电极单元和磁控溅射系统
公开(公告)号：KR100998634B1
公开(公告)日：2010-12-07
申请号：KR1020087008372
申请日：2006-11-02
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 콘도,타카히코 , 호리,타카노부 , 이와사키,야스쿠니 , 요네야마,노부오
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3407 , H01J37/3405 , H01J37/3461
摘要： 간단한 구동기구에 의해 타깃 표면 상의 자력선 분포를 바꾸어 타깃의 넓은 침식(wide erosion)화를 도모하도록 한 자석 구조체 등을 제공한다. 자석 구조체(110)는, 타깃(20)의 표면(20A)에 도달하는 주자력선을 형성하도록 타깃(20)의 뒷면(20b) 측에 배치된 주자석(10, 13)과, 주자력선에 의한 자속밀도 분포를 바꾸는 보정자력선을 형성하도록 타깃(20)의 뒷면(20B) 측에 배치된 보정자석(11)과, 타깃(20)의 뒷면(20B) 측에 배치된 보정자력선의 자로(21A, 21B, 24)와, 자로(21A, 21B, 24)의 내부를 관통하는 보정자력선의 강도를 변경 가능한 자계보정수단(12, 14)을 구비하여 구성된다.
타깃, 넓은 침식, 자석 구조체, 주자석, 보정자석, 자계보정수단

5. 发明公开

KR1020080042182A 마그네트론 스퍼터링 장치용 자석 구조체 및 캐소드전극유닛과 마그네트론 스퍼터링 장치 失效
标题翻译：磁控溅射系统的磁体结构，阴极电极单元和磁控溅射系统
公开(公告)号：KR1020080042182A
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：KR1020087008372
申请日：2006-11-02
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 콘도,타카히코 , 호리,타카노부 , 이와사키,야스쿠니 , 요네야마,노부오
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3407 , H01J37/3405 , H01J37/3461
摘要： A magnet structure arranged to achieve wide erosion of a target by varying distribution of the line of magnetic force on the surface of the target by a simple drive mechanism. A magnet structure (110) comprises main magnets (10, 13) arranged on a rear surface (20B) side of a target (20) to form main line of magnetic force reaching a target front surface (20A), a correction magnet (11) arranged on the rear surface (20B) side of the target (20) to form correction line of magnetic force for varying distribution of flux density by the main line of magnetic force, magnetic paths (21A, 21B, 24) of correction line of magnetic force arranged on the rear surface (20B) side of the target (20), and magnetic field correction means (12, 14) which can alter the intensity of correction line of magnetic force penetrating the interior of the magnetic paths (21A, 21B, 24).
摘要翻译：一种磁体结构，其通过简单的驱动机构改变目标表面上的磁力线的分布，从而实现目标的广泛的侵蚀。磁体结构（110）包括设置在目标（20）的后表面（20B）侧的主磁体（10,13），以形成到达目标前表面（20A）的磁力线，校正磁体（11））配置在目标（20）的背面（20B）侧，形成用于通过磁力线的磁通密度分布变化的磁力校正线，修正线的修正线的磁路（21A，21B，24）布置在目标（20）的后表面（20B）侧的磁力和磁场校正装置（12,14），其可以改变穿过磁路（21A，21B）内部的磁力校正线的强度，24）。

6. 发明公开

KR1020080038271A 진공처리용 챔버 无效
标题翻译：真空处理室
公开(公告)号：KR1020080038271A
公开(公告)日：2008-05-06
申请号：KR1020077019717
申请日：2006-07-21
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 이와사키,야스쿠니 , 후쿠다,오시미츠 , 미야자키,오사무
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/44
CPC分类号： C23C14/564 , B01J3/006
摘要： A chamber for vacuum treatment enabling the simplification of the arrangement structure of a flow passage for cooling. The chamber for vacuum treatment comprises a plurality of wall members (1, 2, 3, 4, 11, 12, 13). Parts of the surfaces of the wall members (1, 2, 3, 4, 11, 12, 13) form bonded surfaces, and the plurality of wall members (1, 2, 3, 4, 11, 12, 13) are bonded to each other through bonding parts (10) formed by bonding airtight the bonded surfaces to each other to form a chamber body (100). At least parts of the bonding parts (10) are the bonding parts (10) with built-in spaces in which clearances (30, 31) extending along the bonded surfaces are formed in the bonded surfaces, and the peripheries of the bonded surfaces are bonded airtight to each other by welding.
摘要翻译：用于真空处理的室，能够简化用于冷却的流动通道的布置结构。用于真空处理的室包括多个壁构件（1,2,3,4,11,12,13）。壁构件（1，2，3，4，11，12，13）的表面的一部分形成接合表面，并且多个壁构件（1,2,3,4,11,12,13）被接合通过将粘合表面彼此密封形成的接合部分（10）彼此形成，以形成室主体（100）。接合部（10）的至少一部分是具有内置空间的接合部（10），其中，在接合面上形成有沿接合面延伸的间隙（30,31），接合面的周边通过焊接彼此密封。

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