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1. 发明公开

KR1020170035779A 측벽 이미지 전사 스페이서들의 인시츄 증착을 수행하기 위한 시스템들 및 방법들 审中-实审
标题翻译：用于执行侧壁图像转移间隔物的原位沉积的系统和方法
公开(公告)号：KR1020170035779A
公开(公告)日：2017-03-31
申请号：KR1020160112389
申请日：2016-09-01
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 이재호 , 이창우 , 프리들필 , 슈미츠스테판 , 안사리나비드 , 고스마이클 , 선노엘
IPC分类号： H01L21/033 , H01L21/3065 , H01L21/308 , H01L21/28 , H01L21/311
CPC分类号： H01L21/31144 , H01J37/32366 , H01J2237/334 , H01L21/02164 , H01L21/02211 , H01L21/02271 , H01L21/02274 , H01L21/0332 , H01L21/0334 , H01L21/0337 , H01L21/28132 , H01L21/28141 , H01L21/283 , H01L21/3086 , H01L21/31116
摘要： 측벽이미지전사 (SIT: sidewall image transfer) 프로세스를수행하는방법은기판프로세싱챔버내에기판을배치하는단계로서, 기판은기판상에형성된맨드럴층을포함하는, 챔버내에기판을배치하는단계, 및복수의맨드럴들을형성하도록맨드럴층을에칭하는단계를포함한다. 방법은기판프로세싱챔버내에서기판을제거하지않고맨드럴층을에칭하는단계에이어서, 복수의맨드럴들의상부표면들, 복수의맨드럴들의측벽들, 및복수의맨드럴들의측벽들사이의기판의일부분들상에얇은스페이서층이형성되도록얇은스페이서층을증착하는단계, 얇은스페이서층을증착하는단계에이어서, 복수의맨드럴들의측벽들상에형성된얇은스페이서층만이남도록, 복수의맨드럴들의상부표면들및 복수의맨드럴들의측벽들사이의기판의일부분들로부터얇은스페이서층을제거하도록얇은스페이서층을에칭하는단계, 및복수의맨드럴들의상부표면들및 복수의맨드럴들의측벽들사이의기판의일부분들로부터얇은스페이서층을에칭하는단계에이어서, 복수의맨드럴들의측벽들상에형성된얇은스페이서층만이기판상에남도록, 기판으로부터복수의맨드럴들을제거하기위해복수의맨드럴들을에칭하는단계를더 포함한다.
摘要翻译：执行侧壁图像转移（SIT）工艺的方法包括将衬底布置在衬底处理室中，衬底包括形成在衬底上的心轴层，蚀刻心轴层以形成心轴。该基板处理室之间，然后在芯棒reolcheung提到的步骤不除去在所述衬底，所述多个心轴的顶表面的衬底的方法，所述多个心轴的侧壁，和所述多个心轴的侧壁沉积薄间隔层以在所述部分的薄的隔离层，以下沉积薄间隔层，只有一个薄隔离层保持在所述多个心轴，所述多个心轴的顶的侧壁上形成的步骤表面和所述多个所述多个心轴的心轴的称为薄的隔离层，以从所述多个心轴的侧壁之间的基片的部分除去的薄隔离层的工序中，和一顶表面和侧壁之间接着步骤称为从所述衬底的所述部分薄的隔离层，以在基片上只留下层是形成在所述多个心轴，从所述衬底中的多个心轴的侧壁上的薄的间隔物还包括称为多个心轴的步骤中除去。

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