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1. 发明授权

KR102247844B1 가상 계측을 위한 케이블 전력 손실 결정 有权
公开(公告)号：KR102247844B1
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：KR1020150003289
申请日：2015-01-09
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 하워드아서엠. , 발코어주니어존씨.
IPC分类号： G01R31/317 , G01R11/25
摘要： 케이블손실을모델링하기위한방법이기술된다. 이방법은무선주파수 (RF) 생성기에서의역방향전력의측정치및 순방향전력의측정치를수신하는단계를포함한다. 이방법은상기임피던스매칭네트워크에전달된이론상전력을상기순방향전력과상기역방향전력간의차로서산출하는 (computing) 단계; RF 전력반사비를생성하도록상기순방향전력에대한상기역방향전력의비를계산하는단계를더 포함한다. 이방법은상기 RF 생성기의상기동작주파수에기초하여서상기 RF 케이블의케이블전력감쇠분율 (cable power attenuation fraction) 을식별하는단계; 상기 RF 전력반사비, 상기케이블전력감쇠분율및 상기이론상전력의함수로서케이블전력손실을계산하는단계를더 포함한다. 이방법은상기임피던스매칭네트워크에전달될실제전력 (actual power) 을상기이론상전력및 상기케이블전력손실에기초하여서계산하는단계; RF 신호를생성하도록상기계산된실제전력을상기 RF 생성기에전송하는단계를더 포함한다.

2. 发明授权

KR102223863B1 이중 제어 모드 有权
公开(公告)号：KR102223863B1
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：KR1020140031332
申请日：2014-03-17
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 발코어주니어존씨. , 린다커브래드포드제이.
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
摘要： 플라즈마시스템과연관된상태에기초한변수를사용하는시스템과방법이제공된다. 방법은플라즈마시스템과연관된상태가제1상태또는제2상태인지결정하는단계와, 상태가제1상태라판정시제1변수를결정하는단계를포함한다. 제1변수는통신매체에서측정치에기초하여결정된다. 방법은상태가제2상태라판정시제2변수를결정하는단계를더 포함한다. 제2변수는통신매체에서의측정치에기초하여결정된다. 방법은제2변수가제1임계치를초과여부를판정하고, 제2변수가제1임계치를초과한다판정시플라즈마챔버에공급되는전력을줄이는인스트럭션을제공하고, 제2변수가제1임계치미만이라판정시플라즈마챔버에공급되는전력을늘리는인스트럭션을제공한다.

3. 发明公开

KR1020170117311A RF 생성기의 복수의 상태들 동안 단계적 방식으로 임피던스 매칭 네트워크를 튜닝하기 위한 시스템들 및 방법들 审中-实审
标题翻译：用于在RF发生器的多个状态期间以逐步方式调谐阻抗匹配网络的系统和方法
公开(公告)号：KR1020170117311A
公开(公告)日：2017-10-23
申请号：KR1020170026504
申请日：2017-02-28
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 하워드아더엠. , 발코어주니어존씨. , 퐁앤드류 , 홉킨스데이비드
IPC分类号： H01J37/32 , H03H7/38 , G06F17/50 , G06F17/11
摘要： 상태각각동안단계적방식으로임피던스매칭네트워크를튜닝하기위한시스템들및 방법들이기술된다. 상태각각동안 RF (radio frequency) 의최적값들을바로달성하는것 그리고상태각각동안결합된가변커패시턴스의최적값을바로달성하는것 대신상태각각동안단계적방식으로임피던스매칭네트워크를튜닝함으로써, 튜닝된최적값들을사용한웨이퍼의프로세싱이실현가능해진다.
摘要翻译：描述了用于针对每个状态以步进方式调谐阻抗匹配网络的系统和方法。通过在每个状态期间以阶梯方式调谐阻抗匹配网络，而不是在每个状态期间直接实现RF（射频）的最佳值并立即实现每个状态期间的组合可变电容的最优值，晶圆的加工变得可行。

4. 发明公开

KR1020170103661A 보다 저 주파수 RF 생성기의 기간 동안 보다 고 주파수 RF 생성기를 향하여 반사된 전력을 감소시키고 그리고 반사된 전력을 감소시키도록 관계를 사용하기 위한 시스템들 및 방법들 审中-实审
标题翻译：使用关系降低朝向较高频率RF发生器的反射功率并减少较低频率RF发生器期间的反射功率的系统和方法
公开(公告)号：KR1020170103661A
公开(公告)日：2017-09-13
申请号：KR1020170025518
申请日：2017-02-27
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 하워드아더엠. , 발코어주니어존씨. , 퐁앤드류 , 홉킨스데이비드
IPC分类号： H01J37/32 , H04B1/04 , G05B17/02
摘要： 보다저 주파수 RF (radio frequency) 생성기의기간동안보다고 주파수 RF 생성기를향하여반사된전력을감소시키고그리고반사된전력을감소시키도록관계를사용하기위한시스템들및 방법들이개시된다. 보다저 주파수 RF 생성기의기간동안보다고 주파수 RF 생성기를튜닝함으로써, 보다고 주파수 RF 생성기를향하여반사된전력을감소시키기위해보다고 주파수 RF 생성기의정밀한제어가달성된다. 또한, 반사된전력을감소시키도록관계를사용함으로써, 웨이퍼의프로세싱동안시간이절약된다.
摘要翻译：公开了使用关系来降低朝向较高频率RF发生器的反射功率并降低较低频率射频（RF）发生器期间的反射功率的系统和方法。通过将高频RF发生器调谐为较低频率RF发生器的一段时间，实现对较高频率RF发生器的精确控制，以减小朝向较高频率RF发生器的反射功率。另外，通过使用这种关系来降低反射功率，在晶片处理期间节省了时间。

5. 发明公开

KR1020170103657A 매칭 네트워크 모델의 파라미터들을 결정하도록 하나 이상의 픽스처들 및 효율을 사용하기 위한 시스템들 및 방법들 审中-实审
标题翻译：使用一个或多个夹具和效率来确定匹配网络模型的参数的系统和方法
公开(公告)号：KR1020170103657A
公开(公告)日：2017-09-13
申请号：KR1020170025209
申请日：2017-02-27
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 하워드아더엠. , 발코어주니어존씨.
IPC分类号： H01J37/32 , H03H7/38
摘要： 매칭네트워크모델의고정된파라미터들을결정하도록복수의하나이상의픽스처들및 효율을사용하기위한시스템들및 방법들이기술된다. 네트워크분석기를사용하여측정되는효율의값과매칭네트워크모델을사용하여결정되는예측된효율의값이비교된다. 고정된파라미터들이매칭네트워크모델에할당되는지를결정하도록비교가행해진다.
摘要翻译：描述了使用多个一个或多个夹具和效率来确定匹配网络模型的固定参数的系统和方法。将使用网络分析仪测量的效率值与使用匹配网络模型确定的预测效率值进行比较。进行比较以确定固定参数是否被分配给匹配网络模型。

6. 发明公开

KR1020160048003A 플라즈마 프로세싱 시스템에서 RF 전력 보상을 위한 시스템, 방법 및 장치 审中-实审
标题翻译：用于等离子体处理系统中RF功率补偿的系统，方法和装置
公开(公告)号：KR1020160048003A
公开(公告)日：2016-05-03
申请号：KR1020150146881
申请日：2015-10-21
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 발코어주니어존씨. , 포볼리헨리
IPC分类号： H01J37/32 , G06F17/50 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32165 , H01J37/32174 , H01J37/32183 , H01J37/32926
摘要： 플라즈마프로세싱시스템들및 방법들은플라즈마프로세싱챔버및 RF 송신경로를포함한다. 플라즈마프로세싱챔버는정전척을포함한다. RF 송신경로는하나이상의 RF 생성기들, RF 생성기에커플링된매칭회로및 매칭회로를정전척에커플링하는 RF 피드를포함한다. 시스템은또한플라즈마프로세싱챔버와 RF 생성기사이에커플링된 RF 귀환경로를포함한다. 플라즈마프로세싱시스템제어기는플라즈마프로세싱챔버및 RF 송신경로에커플링된다. 제어기는복수의플라즈마프로세싱설정사항들을포함하는적어도하나의플라즈마프로세싱레시피를위한레시피로직및 플라즈마프로세싱설정사항들중 적어도하나를조정하기위한 RF 전력보상로직을포함한다.
摘要翻译：等离子体处理系统和方法包括等离子体处理室和射频（RF）传输路径。等离子体处理室包括静电卡盘。 RF传输路径包括一个或多个RF发生器，耦合RF发生器的匹配电路和将匹配电路耦合到静电卡盘的RF馈送。该系统还包括耦合在等离子体处理室和RF发生器之间的RF返回路径。等离子体处理系统控制器耦合到等离子体处理室和RF传输路径。控制器包括用于至少一个包括多个等离子体处理设置的等离子体处理配置的配方逻辑和用于调整等离子体处理设置中的至少一个的RF功率补偿逻辑。

7. 发明公开

KR1020140113602A 모델링을 사용하여서 플라즈마 시스템과 연관된 이온 에너지 결정 审中-实审
标题翻译：使用建模来确定与等离子体系相关的离子能量
公开(公告)号：KR1020140113602A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：KR1020140031275
申请日：2014-03-17
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 발코어주니어존씨. , 린다커브래드포드제이.
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01J37/32174 , H01J37/321 , H01L21/02046 , H01L21/02274 , H01L21/3065 , H01L21/67213
摘要： Systems and methods for determining ion energy are described. One of the methods includes detecting output of a generator to identify a generator output complex voltage and current (V&I). The generator is coupled to an impedance matching circuit and the impedance matching circuit is coupled to an electrostatic chuck (ESC). The method further includes the following operations of: determining, from the generator output complex V&I, a projected complex V&I at a point along a path between output units of a model of the impedance matching circuit and a model of the ESC. The operation of determining of the projected complex V&I is performed using a model for at least part of the path. The method includes the following operations of applying the projected complex V&I as an input to a function mapping the projected complex V&I to a wafer bias value, and determining the ion energy from the wafer bias value.
摘要翻译：描述了用于确定离子能量的系统和方法。其中一种方法包括检测发电机的输出以识别发电机输出复合电压和电流（V＆I）。发电机耦合到阻抗匹配电路，并且阻抗匹配电路耦合到静电卡盘（ESC）。该方法还包括以下操作：从发生器输出复合体V＆I，确定在阻抗匹配电路的模型的输出单元与ESC的模型之间的路径上的点处的投影复合体V＆I。使用至少部分路径的模型来执行确定投影复合V＆I的操作。该方法包括将投影的复合V＆I作为输入应用于将投影的复合V＆I映射到晶片偏置值的函数以及从晶片偏置值确定离子能量的以下操作。

8. 发明授权

KR102236641B1 플라즈마 시스템 내의 모델의 세그먼트화 有权
公开(公告)号：KR102236641B1
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：KR1020140055591
申请日：2014-05-09
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 발코어주니어존씨. , 하월드아서엠.
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46
摘要： 임피던스매칭모델을세그먼트화 (segmenting) 하기위한시스템들및 방법들이설명된다. 방법들중 하나는상기임피던스매칭모델을수신하는단계를포함한다. 상기임피던스매칭모델은임피던스매칭회로를표현하고, 상기임피던스매칭회로는무선주파수 (RF) 케이블을통해서 RF 생성기에접속되고 RF 전송라인을통해서플라즈마챔버에접속된다. 이방법은상기임피던스매칭모델을제 1 세트의 2 개이상의모듈들로세그먼트화하는단계를더 포함한다. 모듈각각은직렬회로및 션트회로 (shunt circuit) 를포함한다. 상기션트회로는상기직렬회로에접속된다. 상기모듈들중 제 1 모듈의직렬회로는케이블모델에접속되고, 상기모듈들중 제 2 모듈의직렬회로는 RF 전송모델에접속된다. 상기제 1 모듈의직렬회로는상기제 2 모듈의직렬회로에접속되고상기제 1 모듈의션트회로는상기제 2 모듈의직렬회로에접속된다. 상기제 2 모듈의션트회로는상기 RF 전송모델에접속된다.

9. 发明公开

KR1020170103660A 단계적 방식으로 임피던스 매칭 네트워크를 튜닝하기 위한 시스템들 및 방법들 审中-实审
标题翻译：用于以逐步方式调谐阻抗匹配网络的系统和方法
公开(公告)号：KR1020170103660A
公开(公告)日：2017-09-13
申请号：KR1020170025504
申请日：2017-02-27
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 하워드아더엠. , 발코어주니어존씨. , 퐁앤드류 , 홉킨스데이비드
IPC分类号： H01J37/32 , H03H7/38
摘要： 단계적방식으로임피던스매칭네트워크를튜닝하기위한시스템들및 방법들이기술된다. RF (radio frequency) 의최적값들및 결합된가변커패시턴스를바로달성하는대신단계적방식으로임피던스매칭네트워크를튜닝함으로써, 튜닝된최적값들을사용한웨이퍼의프로세싱이실현가능해진다.
摘要翻译：描述了以逐步方式调谐阻抗匹配网络的系统和方法。通过逐步调谐阻抗匹配网络而不是直接获得RF（射频）和组合可变电容的最佳值，使用调谐的最佳值来处理晶片变得可行。

10. 发明公开

KR1020150122605A 소프트 펄싱 审中-实审
标题翻译：软脉冲
公开(公告)号：KR1020150122605A
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：KR1020150057037
申请日：2015-04-23
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 발코어주니어존씨.
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/3065 , H01L21/02 , H03H7/38
摘要： 소프트펄싱을위한시스템들및 방법들이기술된다. 시스템들중 하나는제 1 상태동안마스터 RF 신호의제 1 부분을생성하고제 2 상태동안마스터신호의제 2 부분을생성하기위한마스터 RF 생성기를포함한다. 마스터 RF 신호는사인형신호이다. 시스템은수정된 RF 신호를생성하기위해마스터 RF 신호를수정하도록 RF 케이블을통해마스터 RF 생성기에커플링된임피던스매칭회로및 RF 송신선을통해임피던스매칭회로에커플링된플라스마챔버를더 포함한다. 플라스마챔버는수정된 RF 신호에기초하여플라스마를생성하기위해사용된다. 제 1 부분의통계적측정치는양의기울기또는음의기울기를갖는다.
摘要翻译：公开了用于软脉冲的系统和方法。一个系统包括主RF发生器，用于在第一状态期间产生主RF信号的第一部分，以及在第二状态期间产生主信号的第二部分。主RF信号是正弦信号。该系统还包括阻抗匹配电路，其通过RF电缆与主RF发生器耦合，用于校正主RF信号以产生经校正的RF信号; 以及通过RF透射线与阻抗匹配电路耦合的等离子体室。等离子体室用于基于校正的RF信号产生等离子体。第一部分的统计测量值具有正斜率或负斜率。

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