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1. 发明专利

JP6492277B2 傾斜調整装置有权
公开(公告)号：JP6492277B2
公开(公告)日：2019-04-03
申请号：JP2014220490
申请日：2014-10-29
申请人：株式会社オーディオテクニカ
发明人：玉村明人 , 杉森孝司
IPC分类号： G11B7/09 , G11B7/22 , G11B7/12 , G11B7/08

2. 发明专利

JP2018018978A レーザ光源ユニットの固定具および固定構造有权
公开(公告)号：JP2018018978A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：JP2016148638
申请日：2016-07-28
申请人：株式会社オプトエレクトロニクス
发明人：小見聡 , 段志輝 , 久保渉
IPC分类号： G06K7/10 , G02B26/10 , G11B7/125 , G11B7/12 , G11B7/22 , G11B7/08 , H01S5/022
摘要：【課題】レーザ光源ユニットを装置にしっかりと固定することができ、かつ、装置の小型化を図ること。【解決手段】鍔部45a、45bの裏面47a、47bが載置面24a、24bに当接するように、レーザ光源ユニット40をモジュール筐体20に載置する。次に、固定具50(C型スペーサ54)を凹部22内に挿入し、鍔部45a、45bの表面46a、46bに凸部55a、55bを当接させる。このとき、H1よりH2が若干長いため、載置面21a、21bとベースプレート52の裏面53との間には、若干(例えば0.2mm)の隙間ができる。この状態で、ボルトX1、X2を、固定具50の貫通孔から通して、モジュール筐体20のネジ穴12c、12dに螺合させ、レーザ光源ユニット40とともに固定具50をモジュール筐体20に固定する。【選択図】図6

3. 发明专利

JP6176169B2 回折格子ホルダ有权
公开(公告)号：JP6176169B2
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：JP2014064814
申请日：2014-03-26
申请人：船井電機株式会社
发明人：末次正明
IPC分类号： G11B7/22 , G11B7/08 , G11B7/12

4. 发明专利

JP6095833B1 レーザ光源ユニットの固定具および固定構造有权
公开(公告)号：JP6095833B1
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：JP2016148638
申请日：2016-07-28
申请人：株式会社オプトエレクトロニクス
发明人：小見聡 , 段志輝 , 久保渉
IPC分类号： G06K7/10 , G02B26/10 , G11B7/125 , G11B7/12 , G11B7/22 , G11B7/08 , H01S5/022
摘要：【課題】レーザ光源ユニットを装置にしっかりと固定することができ、かつ、装置の小型化を図ること。【解決手段】鍔部45a、45bの裏面47a、47bが載置面24a、24bに当接するように、レーザ光源ユニット40をモジュール筐体20に載置する。次に、固定具50(C型スペーサ54)を凹部22内に挿入し、鍔部45a、45bの表面46a、46bに凸部55a、55bを当接させる。このとき、H1よりH2が若干長いため、載置面21a、21bとベースプレート52の裏面53との間には、若干(例えば0.2mm)の隙間ができる。この状態で、ボルトX1、X2を、固定具50の貫通孔から通して、モジュール筐体20のネジ穴12c、12dに螺合させ、レーザ光源ユニット40とともに固定具50をモジュール筐体20に固定する。【選択図】図6

5. 发明专利

JPWO2014199504A1 光情報記録再生装置、及び調整方法审中-公开
标题翻译：光学信息记录和再现装置，并且调整方法
公开(公告)号：JPWO2014199504A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015522361
申请日：2013-06-14
申请人：日立コンシューマエレクトロニクス株式会社
发明人：真弓長吉 , 拓星沢 , 和良山崎 , 誠保坂
IPC分类号： G11B7/0065 , G03H1/02 , G03H1/26 , G11B7/08 , G11B7/135 , G11B7/22
CPC分类号： G11B7/1353 , G03H1/0465 , G11B7/0065 , G11B7/1359 , G11B7/1362 , G11B7/1374 , G11B7/1378 , G11B7/13927 , G11B7/1398
摘要：記録時、再生時に部品の位置ずれ、角度ずれが生じた場合、参照光の光束径が変化し、光情報記録媒体の記録に寄与しない余分な露光が増えたり、参照光と信号光が干渉せずに適切な記録が出来ず、ホログラム再生像のSNRが劣化するという課題がある。光情報記録媒体に信号光と参照光を照射してホログラムを形成することで情報を記録し、ホログラムに参照光を照射することで情報を再生する光情報記録再生装置であって、レーザ光源からのレーザ光を信号光と参照光に分岐する分岐素子と、前記信号光に2次元情報を付加する空間光変調部と、光情報記録媒体に信号光を照射する対物レンズと、参照光を照射したときに光情報記録媒体からの回折光を検出する光検出部と、前記レーザ光源と前記分岐素子との間に配置され、前記レーザ光の光軸を調整する光軸調整部と、を備える光情報記録再生装置を提供する。
摘要翻译：在录制过程中，在再现期间该部件移位的位置，如果发生角度偏差，参考光的光束直径被改变时，或增加额外的曝光无助于光信息记录介质的记录，参考光束和信号光干涉不能适当记录没有，有一个问题，即全息图的信噪比再现图像劣化。通过照射信号光束和参考光束的光信息通过形成全息图记录介质记录的信息，光学信息记录和用于通过照射参考光束到全息图再现信息再现装置中，激光光源分支元件的辐射用于分支的激光束分成一信号光束和参考光束，空间光调制器，用于在信号光添加二维信息，用于将信号光照射到所述光学信息记录介质的物镜，所述参考光束设置有一个光检测器，用于从上述光学信息检测所述衍射光记录介质时，设置在所述激光光源和所述分束器之间，所述光轴调整单元用于调整所述激光束的光轴上，该是提供一种光学信息记录和再现设备。

6. 发明专利

JP2016190418A 原盤の製造方法、光学体、光学部材、および表示装置审中-公开
标题翻译：制造原始板，光学体，光学构件和显示装置的方法
公开(公告)号：JP2016190418A
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：JP2015071846
申请日：2015-03-31
申请人：デクセリアルズ株式会社
发明人：梶谷俊一
IPC分类号： G11B7/135 , G11B7/22 , G11B5/84 , B29C59/02 , B29C33/38
CPC分类号： B29C33/38 , B29C59/02 , G02B1/111 , G02B5/02
摘要：【課題】回折光が抑制された光学体をより大面積で製造可能な原盤を提供する。【解決手段】円筒または円柱形状の基材を含む原盤本体の外周面に、所定の範囲で周期性を有しない制御信号により変調されたレーザを照射することで、凹凸の平均周期が可視光波長以下であるミクロ凹凸構造を前記原盤本体の周方向および軸方向にランダムに形成するステップと、前記原盤本体の外周面上にエッチングレジスト層を形成するステップと、前記エッチングレジスト層に対して、凹凸の平均周期が可視光波長より大きいマクロ凹凸構造を形成するステップと、前記エッチングレジスト層および前記原盤本体をエッチングすることで、前記基材の外周面上に前記ミクロ凹凸構造と、前記マクロ凹凸構造とを重畳して形成するステップと、を含む原盤の製造方法。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在较大面积上制造具有抑制衍射光的光学体的原版。提供一种制造原版的方法，其包括：照射外周面的步骤包括具有通过在预定范围内没有周期性的控制信号调制的激光的圆柱形或柱状衬底的原始板体，以便随机地形成具有等于或小于可见光波长的平均周期的粗糙结构在原版主体的外周面的圆周方向和轴方向上的光; 在原版主体的外周面上形成抗蚀剂层的工序; 形成具有比抗蚀剂层中可见光波长大的平均凹凸强度的宏观结构的步骤; 并且蚀刻抗蚀剂层和原版本体以形成微凹凸结构，并且宏观结构重叠在基片的外圆周表面上。图1

7. 发明专利

JP2016138743A 放射源の出力密度分布を測定するための装置有权
标题翻译：用于测量辐射源功率密度分布的装置
公开(公告)号：JP2016138743A
公开(公告)日：2016-08-04
申请号：JP2014171653
申请日：2014-08-26
申请人：イェノプティックオプティカルシステムズゲーエムベーハー
发明人：トービアスグナウシュ , マイクパニッツ , ラルフミュラー , マルクヒメル
IPC分类号： G11B7/22 , G01J1/02
CPC分类号： G01J1/4257 , G01J1/0407 , G01J1/429
摘要：【課題】高出力放射源の出力密度分布を測定するための装置を提供する。【解決手段】放射源の出力密度分布を測定するための装置1であって、次の特徴、即ち、放射方向SRに光ビームLを放射するように設計された放射源と、放射方向において放射源の下流に配置された、且つx方向及びy方向に広がりを有する基板2であって、基板が、第1の領域3及び少なくとも1つの更なる第2の領域4を有し、第1の領域が、基板に当たる光ビームをゼロ次回折及び少なくとも1つの一次回折に分離するように設計された回折構造を含む基板2と、放射方向において基板の下流に配置された、且つ基板を透過する一次回折の強度を測定するように、及びそこから出力密度分布を導き出すように設計された検出ユニット8と、を含む。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于测量高功率辐射源的功率密度分布的装置。解决方案：用于测量辐射源的功率密度分布的装置1包括：设计成在辐射中辐射光束L的辐射源方向SR; 在辐射方向SR的下游设置在x方向和y方向上延伸的基板2具有第一区域3和至少一个另外的第二区域4，并且包括设计成的衍射结构第一区域3将击中基板2的光束L分离成零级衍射和至少一个一级衍射; 以及检测单元8，其设置在辐射方向SR上的基板2的下游，并且被设计成测量透射基板2的一次衍射的强度并且从其导出功率密度分布。图1

8. 发明专利

JP5923132B2 レーザ加工装置用の偏光状態変換素子有权
标题翻译：对于激光加工装置偏振转换元件
公开(公告)号：JP5923132B2
公开(公告)日：2016-05-24
申请号：JP2014093920
申请日：2014-04-30
申请人：住友電気工業株式会社 , 住友電工ハードメタル株式会社
发明人：亀田信治 , 矢島国光 , 岩本博実
IPC分类号： G02B5/30 , G11B7/135 , G11B7/22 , G11B7/08 , B23K26/00
CPC分类号： B23K26/00 , G02B5/30 , G11B7/08 , G11B7/135 , G11B7/22

9. 发明专利

JP5901951B2 複合光学部材、複合光学部材の製造方法、並びに照明機器及び電子機器有权
标题翻译：复合光学部件，一种制造复合光学元件以及照明和电子设备的方法，
公开(公告)号：JP5901951B2
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：JP2011259621
申请日：2011-11-28
申请人：シャープ株式会社
发明人：舩木毅 , 小川勝
IPC分类号： G11B7/085 , G11B7/22 , G02B5/04 , G02B7/02 , G02F1/13357 , F21S2/00 , F21Y115/10 , G02B7/00

10. 发明专利

JP5897538B2 柔軟性にすぐれたカチオン硬化性樹脂組成物有权
标题翻译：具有优异的柔韧性的可阳离子固化的树脂组合物
公开(公告)号：JP5897538B2
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：JP2013269151
申请日：2013-12-26
申请人：協立化学産業株式会社
发明人：伝法佳知 , 木野祐次 , 熊倉昌義
IPC分类号： C08L9/06 , C08L25/10 , C08K5/1525 , C08G59/34 , C08G65/18 , C09J109/06 , C09J125/10 , C09J133/06 , C09J153/00 , C09J11/06 , G11B7/22 , G11B7/08 , C08L63/08

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