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2. 发明专利

JP2016138743A 放射源の出力密度分布を測定するための装置有权
标题翻译：用于测量辐射源功率密度分布的装置
公开(公告)号：JP2016138743A
公开(公告)日：2016-08-04
申请号：JP2014171653
申请日：2014-08-26
申请人：イェノプティックオプティカルシステムズゲーエムベーハー
发明人：トービアスグナウシュ , マイクパニッツ , ラルフミュラー , マルクヒメル
IPC分类号： G11B7/22 , G01J1/02
CPC分类号： G01J1/4257 , G01J1/0407 , G01J1/429
摘要：【課題】高出力放射源の出力密度分布を測定するための装置を提供する。【解決手段】放射源の出力密度分布を測定するための装置1であって、次の特徴、即ち、放射方向SRに光ビームLを放射するように設計された放射源と、放射方向において放射源の下流に配置された、且つx方向及びy方向に広がりを有する基板2であって、基板が、第1の領域3及び少なくとも1つの更なる第2の領域4を有し、第1の領域が、基板に当たる光ビームをゼロ次回折及び少なくとも1つの一次回折に分離するように設計された回折構造を含む基板2と、放射方向において基板の下流に配置された、且つ基板を透過する一次回折の強度を測定するように、及びそこから出力密度分布を導き出すように設計された検出ユニット8と、を含む。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于测量高功率辐射源的功率密度分布的装置。解决方案：用于测量辐射源的功率密度分布的装置1包括：设计成在辐射中辐射光束L的辐射源方向SR; 在辐射方向SR的下游设置在x方向和y方向上延伸的基板2具有第一区域3和至少一个另外的第二区域4，并且包括设计成的衍射结构第一区域3将击中基板2的光束L分离成零级衍射和至少一个一级衍射; 以及检测单元8，其设置在辐射方向SR上的基板2的下游，并且被设计成测量透射基板2的一次衍射的强度并且从其导出功率密度分布。图1

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