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1. 发明专利

JP6950787B2 パターン形成装置有权
公开(公告)号：JP6950787B2
公开(公告)日：2021-10-13
申请号：JP2020112892
申请日：2020-06-30
申请人：株式会社ニコン
发明人：小宮山弘樹 , 加藤正紀 , 鈴木智也 , 奈良圭
IPC分类号： G03F7/24 , H01L21/68 , G03F7/20

2. 发明专利

JP6824083B2 クロック発生装置、クロック発生方法、および、画像記録装置有权
公开(公告)号：JP6824083B2
公开(公告)日：2021-02-03
申请号：JP2017055731
申请日：2017-03-22
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：濱岸俊光
IPC分类号： G03F7/24 , B41J2/44

3. 发明专利

JP2020190753A パターン形成装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020190753A
公开(公告)日：2020-11-26
申请号：JP2020135831
申请日：2020-08-11
申请人：株式会社ニコン
发明人：加藤正紀 , 木内徹
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68 , G03F7/24
摘要：【課題】演算負荷を抑制しつつ、精度よく円筒部材の位置を捉えて、円筒部材の曲面にある被処理物体に処理を施すことができるパターン形成装置を提供する。【解決手段】パターン形成装置は、中心線から所定半径の位置に環状に形成されたエンコーダ計測用の目盛を有し、回転ドラムと共に中心線の回りに回転するスケール部と、回転ドラムの外周面のうちのシート基板が巻き付けられる範囲内の周方向の第1特定位置で、シート基板にパターンを形成する第1のパターン形成部と、回転ドラムの外周面のうちのシート基板が巻き付けられる範囲内であって、第1特定位置から周方向に所定角度だけ離れた第2特定位置で、シート基板にパターンを形成する第2のパターン形成部と、回転ドラムの回転角度位置を計測する為に、中心線から見て、第1特定位置と第2特定位置との周方向における中間位置と同じ方位に、スケール部と対向するように配置されて、スケール部の目盛を読み取る第1のエンコーダヘッドと、を備える。【選択図】図14

4. 发明专利

JP6791316B2 デバイス製造方法有权
公开(公告)号：JP6791316B2
公开(公告)日：2020-11-25
申请号：JP2019133300
申请日：2019-07-19
申请人：株式会社ニコン
发明人：渡辺智行 , 鬼頭義昭 , 加藤正紀
IPC分类号： G03F7/24 , H01L21/027 , H01L21/68 , H05K3/00 , G03F9/00

5. 发明专利

JP2020126242A 基板処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020126242A
公开(公告)日：2020-08-20
申请号：JP2020038174
申请日：2020-03-05
申请人：株式会社ニコン
发明人：林田洋祐 , 加藤正紀 , 鬼頭義昭 , 堀正和
IPC分类号： G03F7/24
摘要：【課題】搬送中のシート基板への描画に際し、基板の読み取り装置とドラムとの相対的位置の誤差を検出する。【解決手段】回転ドラムDRの周方向に関して特定方位と異なる第1方位であって、且つ軸線の方向に関して基準マークを検出可能に配置された第1検出領域を有する第1マーク検出部により、第1検出領域内に現れる基準マークと基板マークとの相対的位置関係に関する第1の位置情報を計測する段階と、回転ドラムの周方向に関して基板Pの搬送方向において第1方位の下流側の第2方位であって、且つ軸線の方向に関して基準マークを検出可能に配置された第2検出領域を有する第2マーク検出部により、第1マーク検出部で先に検出された基準マークと基板マークの相対的位置関係に関する第2の位置情報を計測する段階と、を含み、第1と第2の位置情報との変化により、前記外周面上での基板の滑り、又は伸縮を検出する。【選択図】図1

6. 发明专利

JP6702487B2 パターン形成装置有权
公开(公告)号：JP6702487B2
公开(公告)日：2020-06-03
申请号：JP2019107624
申请日：2019-06-10
申请人：株式会社ニコン
发明人：堀正和 , 鬼頭義昭 , 倉重貴広
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/677 , H05K3/00 , G03F7/24

7. 发明专利

JP6690697B2 基板処理装置及びデバイス製造方法有权
公开(公告)号：JP6690697B2
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：JP2018237782
申请日：2018-12-19
申请人：株式会社ニコン
发明人：鈴木智也
IPC分类号： G03F7/20 , H05K3/00 , G03F7/24

8. 发明专利

JP2020508476A 板状の材料を露光するための露光装置および方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020508476A
公开(公告)日：2020-03-19
申请号：JP2019528556
申请日：2017-11-27
申请人：フリントグループジャーマニーゲーエムベーハー
发明人：フランクボイクゼン
IPC分类号： G03F7/24 , B41C1/00 , G03F7/20
摘要：本発明は、板状の材料(2)を露光するための露光装置(1)に関する。板状の材料(2)は、第1の側(3)と、第1の側(3)とは反対側の第2の側(4)とを有している。露光装置(1)は、第1の露光ユニット(10)と搬送ユニット(30)とを有しており、第1の露光ユニット(10)は、光源を備えた少なくとも1つの区分を有しており、1つの軸線(14)を中心として回転可能に形成されており、第1の露光ユニット(10)と搬送ユニット(30)とは、第1の位置(11)では、露光ユニット(10)に板状の材料(2)の第1の側(3)を露光のために供給し、第2の位置(12)では、露光ユニット(10)に板状の材料(2)の第2の側(4)を露光のために供給するように、構成されている。本発明のさらなる態様は、板状の材料を露光するための方法と、方法のうちの1つにより板状の材料から製作された印刷版とに関する。

9. 发明专利

JP6648798B2 パターン描画装置有权
公开(公告)号：JP6648798B2
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：JP2018192822
申请日：2018-10-11
申请人：株式会社ニコン
发明人：鈴木智也 , 奈良圭 , 加藤正紀 , 渡辺智行 , 鬼頭義昭 , 堀正和 , 林田洋祐 , 小宮山弘樹
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/24

10. 发明专利

JP2020021079A パターン描画装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020021079A
公开(公告)日：2020-02-06
申请号：JP2019160827
申请日：2019-09-04
申请人：株式会社ニコン
发明人：林田洋祐 , 堀正和 , 加藤正紀 , 鬼頭義昭
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , B41J2/47 , B41J25/304 , G02B26/12 , H05K3/00 , G03F7/24
摘要：【課題】基板に所定のパターンを描画するパターン描画装置を提供する。【解決手段】パターン描画装置EXは、基板の幅方向に延びた中心軸を有する円筒状の外周面を有し、外周面に倣って基板の一部を支持して基板を長尺方向に搬送する回転ドラム22と、中心軸が延びる方向と同じ主走査方向に沿って、回転ドラムで支持される基板上で直線的に走査することによって、複数の領域の各々にパターンを描画する複数の描画ユニットU1〜6と、複数の描画ユニットを回転又は並進移動可能に支持される定盤208と、定盤を中心軸と垂直な軸線の回りに回転させると共に、中心軸が延びる方向に並進移動させる駆動部212A,Bと、回転ドラムの外周面で支持される基板が中心軸の延びる方向に位置変化することを検出する検出部204と、を備え、検出部によって検出される位置誤差に応じて、定盤を並進移動、又は回転させるように駆動部を制御する。【選択図】図16

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