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1. 发明专利

JP2021178812A 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021178812A
公开(公告)日：2021-11-18
申请号：JP2021055289
申请日：2021-03-29
申请人：住友化学株式会社
发明人：小室勝洋 , 西谷暢彦 , 市川幸司
IPC分类号： C09K3/00 , C07D327/04 , C07D321/10 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , C07D307/00
摘要：【課題】良好なフォーカスマージン(DOF)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物を提供する。【解決手段】例えば、式(I−8)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。【選択図】なし

2. 发明专利

JP6902831B2 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物有权
公开(公告)号：JP6902831B2
公开(公告)日：2021-07-14
申请号：JP2016123069
申请日：2016-06-21
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：新井雅俊 , 福村友貴 , 高山寿一 , 神園喬 , 矢萩真人
IPC分类号： G03F7/039 , C07C381/12 , C07D327/04 , C07J1/00 , C08F220/26 , C08F212/14 , G03F7/004

3. 发明专利

JP2020528924A 1,3−ジ置換ケテン類化合物及びその使用审中-公开
公开(公告)号：JP2020528924A
公开(公告)日：2020-10-01
申请号：JP2020506217
申请日：2018-06-29
申请人： ▲広▼州必▲貝▼特医▲薬▼技▲術▼有限公司 , GUANGZHOU BEBETTER MEDICINE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：蔡雄 , ▲錢▼▲長▼庚 , 叶春▲強▼ , 何其捷
IPC分类号： C07D307/78 , C07D307/79 , C07D307/83 , C07D307/80 , A61K31/343 , C07D333/52 , C07D333/56 , C07D333/62 , A61K31/423 , C07D491/048 , A61K31/192 , C07D495/04 , A61K31/428 , A61K31/4365 , C07D277/62 , C07D317/54 , A61K31/36 , C07D327/04 , C07D327/06 , A61K31/39 , A61P3/06 , A61P3/10 , A61P29/00 , A61P13/12 , A61P9/00 , A61P25/00 , A61P43/00 , A61P1/16 , A61P3/04 , A61P9/10 , C07C323/22 , C07D263/56
摘要：本発明は、式(I)で表される構造を有する1,3−ジ置換ケテン類化合物及びその使用に関する。このような化合物は主にPPARαを活性化させ、PPPAδ及びPPPAγに対してもアゴニスト活性を有する。非アルコール性脂肪性肝疾患、特に非アルコール性肝炎のようなPPARの制御異常に関連する各種疾患の治療に使用可能であり、糖尿病、肥満症、線維化疾患、心血管疾患(心不全及びアテローム性動脈硬化などを含む)、腎臓疾患(慢性腎臓疾患及び腎不全などを含む)、脳変性疾患(アルツハイマー病などを含む)などを治療するための潜在力もあり、大きな利用価値がある。【化1】

5. 发明专利

JP6197037B2 新規なフェニルナフトール誘導体有权
公开(公告)号：JP6197037B2
公开(公告)日：2017-09-13
申请号：JP2015525166
申请日：2014-06-25
申请人：株式会社トクヤマ
发明人：和泉忍 , 寺西一浩
IPC分类号： C07C43/23 , C07C41/18 , C07D311/94 , C07D317/70 , C07D327/04 , B01J31/02 , C07C39/23
CPC分类号： C07C39/23 , C07C41/18 , C07C43/23 , C07D311/94 , C07D317/70 , C07D327/04 , C07C2601/16 , C07C2601/18 , C07C2603/94

6. 发明专利

JP6183199B2 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び化合物有权
公开(公告)号：JP6183199B2
公开(公告)日：2017-08-23
申请号：JP2013258740
申请日：2013-12-13
申请人： JSR株式会社
发明人：生井準人
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/32 , C08F220/28 , C08F220/22 , C07D319/06 , C07D309/32 , C07D307/33 , C07D307/00 , C07D493/18 , C07D327/04 , C07D295/22 , C07D295/08 , G03F7/004

8. 发明专利

JP5972748B2 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法有权
公开(公告)号：JP5972748B2
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：JP2012229815
申请日：2012-10-17
申请人：住友化学株式会社
发明人：市川幸司 , 落合光良 , 山下裕子
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C07C381/12 , C09K3/00 , H01L21/027 , C07D327/04

9. 发明专利

JP2016084350A 化合物有权
标题翻译：复合
公开(公告)号：JP2016084350A
公开(公告)日：2016-05-19
申请号：JP2015241623
申请日：2015-12-10
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：高木大地 , 塩野大寿 , 内海義之 , 海保貴昭
IPC分类号： C08F22/38 , C07C233/92 , C07D307/33 , C07D309/30 , C07D327/04 , C07C233/91
摘要：【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】一般式(1)で表される化合物。式(1)中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。R 1 は硫黄原子又は酸素原子である。R 2 は単結合又は2価の連結基である。Y 1 は多環式基を有する脂肪族炭化水素基(該脂肪族炭化水素基は、その炭素原子又は水素原子が置換基で置換されていてもよい)である。 [化1] 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供灵敏度，分辨率，平版印刷特性和耐蚀刻性优异的抗蚀剂组合物用的化合物和使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案形成方法。溶液：该化合物由通式公式1）。在式（1）中，R为氢原子，1-5C烷基或1-5C卤代烷基; R是硫原子或氧原子; 单键或二价连接基团; Y是具有多环基团的脂肪族烃基（脂肪族烃基中的碳原子或氢原子可以被取代基取代）。选择的图：无

10. 发明专利

JP5638106B2 新規な化合物および酸発生剤有权
标题翻译：新颖的化合物和酸产生剂
公开(公告)号：JP5638106B2
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：JP2013098712
申请日：2013-05-08
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：晃也川上 , 晃也川上 , 内海　義之 , 義之内海 , 慎一秀坂 , 慎一秀坂 , 夏子円山 , 夏子円山
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C309/10 , C07C309/13 , C07C309/19 , C07C311/48 , C07C311/53 , C07C317/04 , C07C317/10 , C07D213/79 , C07D285/00 , C07D327/04 , C07D493/18 , C09K3/00 , G03F7/004

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