基本信息:
- 专利标题： 化合物
- 专利标题（英）：Compound
- 专利标题（中）：复合
- 申请号：JP2015241623 申请日：2015-12-10
- 公开(公告)号：JP2016084350A 公开(公告)日：2016-05-19
- 发明人： 高木 大地 , 塩野 大寿 , 内海 義之 , 海保 貴昭
- 申请人： 東京応化工業株式会社
- 申请人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 代理人： 棚井 澄雄; 志賀 正武; 松本 将尚; 宮本 龍; 飯田 雅人
- 主分类号： C08F22/38
- IPC分类号： C08F22/38 ; C07C233/92 ; C07D307/33 ; C07D309/30 ; C07D327/04 ; C07C233/91
摘要：
【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】一般式(1)で表される化合物。式(1)中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。R 1 は硫黄原子又は酸素原子である。R 2 は単結合又は2価の連結基である。Y 1 は多環式基を有する脂肪族炭化水素基(該脂肪族炭化水素基は、その炭素原子又は水素原子が置換基で置換されていてもよい)である。 [化1] 【選択図】なし
摘要（中）：
要解决的问题：提供灵敏度，分辨率，平版印刷特性和耐蚀刻性优异的抗蚀剂组合物用的化合物和使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案形成方法。溶液：该化合物由通式 公式1）。 在式（1）中，R为氢原子，1-5C烷基或1-5C卤代烷基; R是硫原子或氧原子; 单键或二价连接基团; Y是具有多环基团的脂肪族烃基（脂肪族烃基中的碳原子或氢原子可以被取代基取代）。选择的图：无
公开/授权文献:
- JP6170990B2 化合物 公开/授权日：2017-07-26