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    • 1. 发明专利
    • 半導体光触媒膜および酸化還元反応装置
    • 半导体光催化剂膜和氧化还原反应器
    • JP2016215159A
    • 2016-12-22
    • JP2015104978
    • 2015-05-22
    • 日本電信電話株式会社
    • 小野 陽子小松 武志谷保 芳孝渦巻 裕也中村 二朗
    • B01J27/24C01B3/04C01B13/02C01B31/18B01J35/02
    • 【課題】電極を形成せずに簡素な系で効率的な電荷分離を実現できる光触媒の半導体光触媒膜及び酸化還元反応装置の提供。 【解決手段】基板101と、基板101上に形成された第1の半導体薄膜102と、第1の半導体薄膜102の上面において一方向に渡って各々が平行に堆積される複数の山型半導体構造であって、第1の半導体薄膜102と同一の材料であり、一方向に対して垂直方向の断面が多角形である、山型半導体構造103−1〜Nと、山型半導体構造の、上面に接する第1の斜面に形成された金属薄膜104−1〜Nと、山型半導体構造の、上面に接する斜面であって、第1の斜面とは異なる第2の斜面に形成された第2の半導体薄膜105−1〜Nであって、水溶液302中において表面に光303が照射される、第2の半導体薄膜105−1〜Nと、を備える半導体光触媒膜100。 【選択図】図3
    • 提供一种半导体光催化剂膜和氧化还原反应器光催化剂电极可以实现以简单的系统中的高效的电荷分离而没有形成。 和基板101,第一半导体薄膜102,多个山形半导体结构的,每过一个方式被沉积在平行于形成在衬底101上的第一半导体膜102的上表面 一个是,相同的材料作为第一半导体薄膜102,相对于一多边形的垂直横截面,以沿一个方向,和山 - 半导体结构103-1〜N,山型半导体结构,所述上表面 金属薄膜104-1〜n的形成为与接触的第一倾斜表面上,山形的半导体结构,斜率,其与所述上表面接触,所述第二至形成在不同的第二斜率与第一倾斜面 的半导体薄膜105-1〜N,在水溶液中302中的表面上的光303被照射时,具有第二半导体薄膜105-1〜N,在半导体光催化剂膜100。 点域