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1. 发明专利

JP2021087982A レーザー加工装置の調整方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021087982A
公开(公告)日：2021-06-10
申请号：JP2019220511
申请日：2019-12-05
申请人：株式会社ディスコ
发明人：一宮佑希
IPC分类号： H01L21/301 , B23K26/035
摘要：【課題】集光器の中心と、空間光変調器から発せられるレーザー光線の中心とを調整して適切に一致させることができるレーザー加工装置の調整方法を提供する。【解決手段】検査板10の上面10aにレーザー光線LB1の第一の集光点P1を位置付けて照射して撮像手段47により撮像し、表示手段50に表示された第一の集光点P1のX座標及びY座標位置を求め、Z軸調整手段45Aによって検査板10の上面10aにレーザー光線LB1の第二の集光点P2を位置付けて照射して撮像手段47により撮像し、表示手段50に表示された第二の集光点P2のX座標及びY座標位置を求め、第一の集光点P1のX座標及びY座標位置と、第二の集光点P2のX座標及びY座標位置とが一致するように空間光変調器43の光軸の位置を調整することにより、空間光変調器43の光軸を集光器45の中心に一致させるレーザー加工装置の調整方法。【選択図】図2

2. 发明专利

JP6846605B2 ファイバ結合装置有权
公开(公告)号：JP6846605B2
公开(公告)日：2021-03-24
申请号：JP2018505829
申请日：2017-03-07
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：長安同慶 , 西村仁志 , 龍堂誠 , 王静波 , 竹中義彰 , 江泉清隆 , 山口秀明 , 石川諒 , 西尾正敏
IPC分类号： B23K26/064 , H01S3/23 , H01S3/02 , H01S3/10 , B23K26/035

3. 发明专利

JP2021037540A レーザー加工装置の光軸確認方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021037540A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：JP2019162457
申请日：2019-09-05
申请人：株式会社ディスコ
发明人：能丸圭司
IPC分类号： B23K26/082 , B23K26/035
摘要：【課題】複数の光学素子から鉛直方向に沿って反射されるレーザービームの光軸が加工進行方向と平行な同一の平面上に存在するか否かを定量的に判断することができること。【解決手段】レーザー加工装置の光軸確認方法は、撮像ユニットをX軸方向に移動可能に配設する撮像ユニット配設ステップST1と、第二のミラーを取り除き、第一のミラーによって反射されたレーザービームを受光可能な撮像ユニットでレーザービームを撮像する第一撮像ステップST2と、第二のミラーを取り付けて、第三のミラーによって反射されたレーザービームを受光可能な撮像ユニットでレーザービームを撮像する第二撮像ステップST3と、撮像画像と撮像画像内に形成された基準線に基づいて、第一のミラーによって反射されたレーザービームの光軸と第三のミラーによって反射されたレーザービームの光軸とが同じXZ平面内に存在するかを判定する判定ステップST4と、を有する。【選択図】図5

4. 发明专利

JP2021037539A 光軸調整ジグおよびレーザー加工装置の光軸確認方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021037539A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：JP2019162456
申请日：2019-09-05
申请人：株式会社ディスコ
发明人：能丸圭司
IPC分类号： B23K26/00 , B23K26/70 , B23K26/035
摘要：【課題】レーザービームの光軸が被加工物に対して垂直であるか否かを定量的に判断することができること。【解決手段】光軸調整ジグは、上面421および下面422に反射膜が形成された平行平板42と、平行平板42より下方に配設され、レーザービームを撮像可能な撮像ユニット43と、を含み、平行平板42は、レーザービームの波長に対して透過性を有する素材からなり、平行平板42を介してレーザービームを撮像ユニット43に入射し、撮像ユニット43で撮像したレーザービームのビーム形状に基づいてレーザービームの光軸の傾きを検出することが可能である。【選択図】図4

5. 发明专利

JP2020165837A 除染装置および方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020165837A
公开(公告)日：2020-10-08
申请号：JP2019067240
申请日：2019-03-29
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：本田翔也 , 渡邉優 , 奥田剛久 , 下鍋典昭 , 橋川雄樹
IPC分类号： G21F9/00 , G01T1/169 , B23K26/36 , B23K26/035 , B23K26/16 , B23K26/00 , B23K26/142 , G21F9/28
摘要：【課題】除染装置および方法において、除染作業の作業性の向上を図る。【解決手段】除染対象面002を移動自在な移動台車11と、移動台車11に搭載されて移動方向Mにおける前方側の除染対象面002に向けてレーザLを照射するレーザ照射装置12と、除染対象面002におけるレーザLの照射領域にアシストガスGを供給するアシストガス供給装置13とを備える。【選択図】図1

6. 发明专利

JP2020104168A 光学調整装置および光学調整方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020104168A
公开(公告)日：2020-07-09
申请号：JP2018248077
申请日：2018-12-28
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：武智洋平 , 横山潤
IPC分类号： B23K26/035 , B23K26/70
摘要：【課題】出力差の大きな複数のレーザ光や光の光軸・焦点の位置合わせを高精度かつ素早く行えるようにする。【解決手段】第1のスリット2とピンホール3とを有する調整プレート1と、前記調整プレート1を移動させる調整機構4〜7と、光パワー検出器10と、を備える。【選択図】図4

7. 发明专利

JP6685806B2 レーザ加工方法およびレーザ加工装置有权
公开(公告)号：JP6685806B2
公开(公告)日：2020-04-22
申请号：JP2016075050
申请日：2016-04-04
申请人：三菱重工業株式会社
发明人：妻鹿雅彦 , 月元晃司 , 谷川秀次 , 小室裕貴
IPC分类号： B23K26/035 , B23K26/00 , G01B11/00 , G01B11/26 , B23K26/02

8. 发明专利

JP6630763B2 レーザ加工機におけるノズル芯出し装置及びノズル芯出し方法有权
公开(公告)号：JP6630763B2
公开(公告)日：2020-01-15
申请号：JP2018044107
申请日：2018-03-12
申请人：株式会社アマダホールディングス
发明人：山梨貴昭 , 舟木厚司
IPC分类号： B23K26/04 , B23K26/00 , B23K26/082 , B23K26/035

9. 发明专利

JPWO2018101184A1 調芯方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018101184A1
公开(公告)日：2019-10-24
申请号：JP2017042313
申请日：2017-11-27
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：石川諒 , 龍堂誠 , 長安同慶 , 西村仁志 , 王静波 , 西尾正敏 , 山口秀明 , 竹中義彰 , 江泉清隆
IPC分类号： B23K26/064 , B23K26/00 , B23K26/067 , H01S3/10 , G02B6/32 , G02B6/42 , B23K26/035
摘要：レーザ発振器と光ファイバの入射端面との間に、レーザビーム(300)を集光する集光レンズが配置されている。レーザビーム(300)を複数のビーム(303,304)に分岐する。レーザビーム(304)のパワーを測定し、この値が最大となるよう、また、レーザビーム(303)のFFPを測定し、得られたBPPが最小となるよう、各々の場合で集光レンズの位置を調整する。調整後の位置をそれぞれ第1及び第2のレンズ位置として記憶する。集光レンズをこれらの位置の間で移動させてレーザビーム(303)のFFPを測定し、得られたBPPが所定値以下となるよう集光レンズの位置を調整する。

10. 发明专利

JP6486239B2 ウエーハの加工方法有权
公开(公告)号：JP6486239B2
公开(公告)日：2019-03-20
申请号：JP2015160848
申请日：2015-08-18
申请人：株式会社ディスコ
发明人：平田和也 , 西野曜子
IPC分类号： B23K26/53 , B23K26/00 , B23K26/035 , H01L21/301

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