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    • 1. 发明专利
    • 熱処理炉
    • JP2021183873A
    • 2021-12-02
    • JP2020088584
    • 2020-05-21
    • 光洋サーモシステム株式会社
    • 井津 隆司
    • F27D7/04F27D7/02F27B17/00
    • 【課題】熱処理炉において、比較的大きな基板であっても、全体として均等に熱処理することが可能となる。 【解決手段】熱処理炉10は、処理室12を内部に有する筐体11と、処理室12の右領域AR及び左領域ALそれぞれにおいてガスの還流を発生させるために設けられている還流発生機構15とを備える。左右の還流発生機構15それぞれは、後側から前側にガスを誘導するためのダクト21L(21R)と、ダクト21L(21R)内のガスを後側から前側に流すことで前記還流を発生させるためのファン22L(22R)と、ガスを加熱するヒータ23L(23R)と、21L(21R)、ガスを通過させて清浄化したガスを放出するフィルタ24L(24R)と、フィルタ24L(24R)を通過したガスの一部を処理室12の左右方向の中央側に誘導すると共に当該ガスの一部を後側に向かって放出するノズル25L(25R)とを備える。 【選択図】 図1
    • 3. 发明专利
    • 熱処理装置
    • JP2021156515A
    • 2021-10-07
    • JP2020058144
    • 2020-03-27
    • 光洋サーモシステム株式会社
    • 奥村 昌倫中谷 淳司
    • F27D7/06F27D7/02F27B9/04
    • 【課題】過熱水蒸気によって被処理物の熱処理を行う熱処理装置の構造の複雑化を防止できるとともに、被処理物の熱処理が行われる熱処理室内において雰囲気の淀みが発生してしまうことを抑制することができる、熱処理装置を提供する。 【解決手段】熱処理装置1は、熱処理室11と水蒸気供給部13と水蒸気排出部15とを備える。熱処理室11は、被処理物10が搬入される入口31と被処理物10が搬出される出口32とが設けられ、入口31から出口32に向かって搬送される被処理物10の熱処理が行われる。水蒸気供給部13は、熱処理室11における加熱領域HRに設けられて、熱処理室11内に過熱水蒸気を供給する。水蒸気排出部15は、熱処理室11において、水蒸気供給部13に対して入口31側と出口32側とにそれぞれ設けられ、熱処理室11内の過熱水蒸気を熱処理室11の外部へ排出する。 【選択図】 図1