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1. 发明专利

JP5801932B2 ターボ機械の金属部品およびドナーライナーの気相アルミ被覆プロセスならびにそのようなライナーを含むターボ機械翼有权
标题翻译：气相铝化的金属部件和施主衬涡轮机的过程和涡轮机叶片，包括这种衬垫
公开(公告)号：JP5801932B2
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：JP2014127030
申请日：2014-06-20
申请人：スネクマ
发明人：ルシー・ランシオー , マキシム・カルラン
IPC分类号： C23C16/12 , F02C7/00 , F01D25/00 , F02C7/18 , C23C10/48 , F01D9/02
CPC分类号： C23C10/48 , C23C10/08 , C23C16/045 , C23C16/12 , C23C16/4488 , F01D5/189 , F01D5/288 , F01D9/065 , F05D2230/313 , F05D2230/314 , F05D2300/121 , Y02T50/67 , Y10T428/265 , Y10T428/31678

2. 发明专利

JP2014208997A ターボ機械の金属部品およびドナーライナーの気相アルミ被覆プロセスならびにそのようなライナーを含むターボ機械翼有权
标题翻译：金属组分和涡旋木质素配合物的蒸气相酸化过程和包括这种内衬的涡轮叶片
公开(公告)号：JP2014208997A
公开(公告)日：2014-11-06
申请号：JP2014127030
申请日：2014-06-20
申请人：スネクマ , Snecma
发明人： LANCIAUX LUCIE , CARLIN MAXIME
IPC分类号： F01D9/02 , C23C10/48 , C23C16/12 , F01D25/00 , F02C7/00 , F02C7/18
CPC分类号： C23C10/48 , C23C10/08 , C23C16/045 , C23C16/12 , C23C16/4488 , F01D5/189 , F01D5/288 , F01D9/065 , F05D2230/313 , F05D2230/314 , F05D2300/121 , Y02T50/67 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
摘要：【課題】特にライナーを組み込むノズル案内翼に適用され、表面全体にわたる十分な厚さの内部空洞壁のコーティングを得ることを可能にする。【解決手段】金属ターボ機械部品の高温酸化保護用の気相堆積によるアルミ被覆プロセスに関し、前記部品1は空洞を含み、金属構成要素9が前記部品の開口部5から導入されて組み立てられる。このプロセスに従って、ハロゲンとアルミニウムを含む金属ドナーの間の反応によってハロゲン化物が形成され、次いで、ハロゲン化物はキャリアガスによって運ばれて前記金属部品に接触し、金属構成要素9はプロセスの実施の前に最初にアルミニウムドナーとして働くためにアルミニウムで表面富化にされている。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了获得在表面上具有足够厚度的内腔壁的涂层，特别应用于特别是结合有衬垫的喷嘴引导刀片。解决方案：在通过气相沉积进行镀铝的方法中保护金属涡轮机组件的高温氧化，组件1包括空腔，并且金属组分元件9从要组装的组件的开口部分5引入。根据该方法，通过卤素和包括铝在内的金属供体之间的反应形成卤化物，然后卤化物由载气携带以与金属组分接触，并且由于金属组分元素9首先作为铝供体在执行该过程之前，表面被铝富集。

3. 发明专利

JP5612255B2 ターボ機械の金属部品およびドナーライナーの気相アルミ被覆プロセスならびにそのようなライナーを含むターボ機械翼有权
标题翻译：气相铝化的金属部件和施主衬涡轮机的过程和涡轮机叶片，包括这种衬垫
公开(公告)号：JP5612255B2
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：JP2008256007
申请日：2008-10-01
申请人：スネクマ
发明人：ルシー・ランシオー , マキシム・カルラン
IPC分类号： C23C16/12 , C23C14/14 , C23C28/02 , F01D5/18 , F01D5/28 , F01D9/02 , F02C7/00 , F02C7/18
CPC分类号： C23C10/48 , C23C10/08 , C23C16/045 , C23C16/12 , C23C16/4488 , F01D5/189 , F01D5/288 , F01D9/065 , F05D2230/313 , F05D2230/314 , F05D2300/121 , Y02T50/67 , Y10T428/265 , Y10T428/31678

5. 发明专利

JP2009091658A Method of aluminization in vapor phase on hollow metal part of turbomachine 有权
标题翻译：蒸汽相中的氧化方法在涡轮机的中空金属部分
公开(公告)号：JP2009091658A
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：JP2008256003
申请日：2008-10-01
申请人： Snecma , スネクマ
发明人： CARLIN MAXIME , LANCIAUX LUCIE , LE HENANFF PHILIPPE
IPC分类号： C23C16/12 , C23C30/00 , F01D5/28 , F01D25/00 , F02C7/00
CPC分类号： C23C16/4488 , C23C10/06 , C23C10/08 , C23C16/045 , C23C16/12 , F01D5/18 , F01D5/288 , F01D9/041 , F01D9/065 , F05D2230/90 , F05D2300/121 , Y02T50/676
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a coating of an internal cavity wall with a sufficient thickness over an entire surface. SOLUTION: Disclosed is a method of aluminization by deposit in the vapor phase for protection against oxidation at high temperature of a metal part of a turbomachine. The part includes a cavity with an opening that can be accessed from the outside. A halide is formed by reaction between a halogen and a metal donor containing aluminum, then the halide is transported by a carrier gas to come into contact with the metal part, the metal donor being placed at least partly in the cavity. The metal donor is in the form of a pellet obtained by hot sintering under pressure of a mixture of metal powder. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：在整个表面上获得具有足够厚度的内腔壁的涂层。解决方案：公开了一种通过在气相中沉积来防止在涡轮机的金属部分的高温下的氧化的铝化的方法。该部分包括具有可以从外部访问的开口的空腔。通过卤素和含有铝的金属供体之间的反应形成卤化物，然后卤化物通过载气输送以与金属部分接触，金属供体至少部分地放置在空腔中。金属供体是通过在金属粉末的混合物的压力下热烧结获得的颗粒的形式。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2008174842A Thin film forming method using atomic layer deposition method 有权
标题翻译：薄膜形成方法使用原子层沉积法
公开(公告)号：JP2008174842A
公开(公告)日：2008-07-31
申请号：JP2008068427
申请日：2008-03-17
申请人： Samsung Electronics Co Ltd , 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd.
发明人： KIN EIKAN , PARK YOUNG-WOOK , LIM JAE-SOON , CHOI SUNG-JE , LEE SANG-IN
IPC分类号： C23C16/12 , C23C16/44 , C23C16/34 , C23C16/40 , H01L21/205 , H01L21/285 , H01L21/316
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film forming method capable of producing a stoichiometrically excellent film by inhibiting formation of undesirable impurities in an atomic layer deposition method.
SOLUTION: The thin film forming method using the atomic layer deposition method includes the steps of: injecting a first reactant containing a metallic element and a ligand in a reaction chamber and chemisorbing the first reactant on a substrate; purging the reaction chamber by an inert gas to remove the physisorbed first reactant; injecting a second reactant not containing a hydroxyl group in the reaction chamber so that oxygen of the second reactant and the metallic element are bound together by a chemical reaction of the first and second reactants, and the chemisorbed first reactant becomes a metal-oxygen atomic layer by separating the ligand from the first reactant; purging the reaction chamber by the inert gas to remove the physisorbed second reactant; and injecting a third reactant in the reaction chamber so that oxygen which is a constituting element of the third reactant and the metallic element are bound together by a chemical reaction of the remainder of the chemisorbed first reactant and the third reactant, and consequently forming a metal-oxide film in an atomic layer by making the remainder of the chemisorbed first reactant a metal-oxygen atomic layer by separating the ligand from the first reactant, with the generation of hydroxyl group held in an suppressed state.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：待解决的问题：提供能够通过在原子层沉积法中抑制不期望的杂质的形成而产生化学计量优异的薄膜的薄膜形成方法。解决方案：使用原子层沉积方法的薄膜形成方法包括以下步骤：在反应室中注入含有金属元素和配体的第一反应物，并在基底上化学吸收第一反应物; 通过惰性气体吹扫反应室以除去物理吸附的第一反应物; 在反应室中注入不含羟基的第二反应物，使得第二反应物和金属元素的氧通过第一和第二反应物的化学反应而结合在一起，并且化学吸附的第一反应物变成金属 - 氧原子层通过将配体与第一反应物分离; 通过惰性气体吹扫反应室以除去物理吸附的第二反应物; 以及在反应室中注入第三反应物，使得作为第三反应物的构成元素的氧和金属元素通过化学吸附的第一反应物和第三反应物的其余部分的化学反应而结合在一起，并因此形成金属通过将配体与第一反应物分离，使化学吸附的第一反应物的其余部分成为金属 - 氧原子层，产生羟基保持在抑制状态，从而在原子层中形成氧化物膜。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2008095179A Method and device for coating base body 审中-公开
标题翻译：用于涂布基体的方法和装置
公开(公告)号：JP2008095179A
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：JP2007182981
申请日：2007-07-12
申请人： Sulzer Metco Ag , ズルツァー・メットコ・アクチェンゲゼルシャフトSulzer Metco AG
发明人： BEELE WOLFRAM , LOCH MICHAEL , POCHET LOUIS F , MEYER BEAT
IPC分类号： C23C16/12 , F01D5/28 , F01D25/00 , F02C7/00
CPC分类号： C23C16/4488 , C23C16/045 , Y02T50/67
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and a device for uniformly coating a base body having at least one inner passage, e.g., the inside of a turbine with a heat resistant substance.
SOLUTION: In the method and device, regarding a base body installed in a reaction space 21 of a reaction vessel 2, e.g., the inside of a turbine, aluminum-based process gas fed from an external feed source 7 is passed through an inside generator 4, so as to increase its reactivity, and the gas whose reactivity is increased is passed through at an adjusted flow rate per passage, thus the inside of the object 10 is chemically vapor-deposited with aluminum from a vapor phase, so as to be uniformly coated therewith.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于均匀涂覆具有至少一个内部通道（例如，具有耐热物质的涡轮机内部）的基体的方法和装置。解决方案：在该方法和装置中，关于安装在反应容器2的反应空间21（例如，涡轮机内部）的基体，从外部进料源7供给的基于铝的工艺气体通过内部发生器4，以增加其反应性，反应性增加的气体以每通道调整的流量通过，因此，物体10的内部从气相用铝化学气相沉积，因此以使其均匀地涂覆。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP3476876B2 Method of depositing silicon and oxygen-containing coating 失效
公开(公告)号：JP3476876B2
公开(公告)日：2003-12-10
申请号：JP27354193
申请日：1993-11-01
申请人：ダウ・コ−ニング・コ−ポレ−ション
发明人：スティーブンバランスデビッド , ノートンエクステインマリー
IPC分类号： C23C16/22 , C23C16/12 , C23C16/27 , C23C16/40 , C23C16/42 , C23C16/511 , H01L21/316
CPC分类号： C23C16/401

10. 发明专利

JP2003213428A VAPOR COATING METHOD, AND GAS DISTRIBUTOR FOR VAPOR COATING CONTAINER 审中-公开
公开(公告)号：JP2003213428A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：JP2002367427
申请日：2002-12-19
申请人： GEN ELECTRIC
发明人： WHEAT GARY E , BROWN TERRI K , SCHMIDT RICHARD L , COVE EDWARD J
IPC分类号： F01D5/28 , C23C10/06 , C23C16/00 , C23C16/12 , C23C16/44 , C23C16/448 , C23C16/455 , F02C7/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas distributor 10 for introducing a carrier gas when coating a metal. SOLUTION: The gas distributor 10 comprises a gas inlet 14 and a gas outlet head 18. A plurality of gas outlets 30 from which a gas flow exits as a gas stream 50 are arranged by spacing along the peripheral surface of the gas outlet head 18. Gas deflectors 34 arranged near the gas outlets 30 initially direct the gas stream 50 exiting the gas outlet 30 in a centripetal path. This gas distributor 10 is used for a vapor coating apparatus 100. The apparatus 100 includes a coating container 110 a holder 128 for arranging each article 132 to be coated within the container 110 and below the gas outlet head 18 and a holder 140 for arranging a source of metallic coating within the container 110 and below the gas outlet head 18. COPYRIGHT: (C)2003,JPO

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