会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 3. 发明专利
    • トランスリッチ−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法
    • JP6118010B1
    • 2017-04-19
    • JP2017505880
    • 2016-12-09
    • 三井化学株式会社
    • 中川 亜弥▲浜▼田 哲也
    • C07C211/18C07B61/00C07C209/68
    • トランスリッチ−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法は、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンに、アルカリ金属化合物およびXDAを配合して加熱することにより、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンを、シス体およびトランス体の総和に対するトランス体の含有割合が70質量%を超過するように、異性化させる工程と、異性化させる工程の後に、異性化された1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンを蒸留により精製する工程とを含む。アルカリ金属化合物は、アルカリ金属水素化物、アルカリ金属アミド、および、アルキルアルカリ金属からなる群から選択される少なくとも一種の化合物である。異性化させる工程において、XDAの配合割合は、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン100molに対して、0.01mol以上4mol未満であり、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン1分子と、XDA1分子とから生成する二量体と、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン2分子と、XDA1分子とから生成する三量体とが生成され、二量体の含有割合は、二量体および三量体の総和に対して、5質量%以上75質量%未満である。