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2. 发明专利

JP2018122156A コリメータおよびエネルギーデグレーダ审中-公开
公开(公告)号：JP2018122156A
公开(公告)日：2018-08-09
申请号：JP2018089790
申请日：2018-05-08
申请人：メビオン・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド
发明人：ゲリット・タウンセンド・ズワート , マーク・アール・ジョーンズ , ジェームス・クーレイ
IPC分类号： G21K5/04 , G21K3/00 , G21K1/02 , H05H7/12 , H05H7/10 , H05H13/02 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1043 , A61N5/1042 , A61N5/1045 , A61N5/1048 , A61N5/1077 , A61N5/1081 , A61N5/1083 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/046 , G21K1/10 , H05H13/02 , H05H2007/004 , H05H2007/007 , H05H2007/122
摘要：【課題】本開示は、一般的に、コリメータおよびエネルギーデグレーダなどの、粒子ビーム走査システムの要素に関する。【解決手段】粒子治療システムは、粒子ビームを出力する粒子加速器と、粒子ビームを照射ターゲットの少なくとも一部にわたって走査させる粒子加速器用の走査システムとを備える。走査システムは粒子ビームを粒子ビームの方向に対してある角度を成す2次元内で走査するように構成される。構造体が縁を画成する。構造体は、構造体の少なくとも一部が粒子ビームの少なくとも一部と照射ターゲットとの間にあるように照射ターゲットに対して2次元内で移動するように制御可能である。構造体は、粒子ビームの透過を抑制する材料を含む。【選択図】図10

3. 发明专利

JP2015181552A 荷電粒子線治療装置、及び荷電粒子線の飛程調整方法有权
标题翻译：充电颗粒束治疗装置和充电粒子束范围调整方法
公开(公告)号：JP2015181552A
公开(公告)日：2015-10-22
申请号：JP2014058515
申请日：2014-03-20
申请人：住友重機械工業株式会社
发明人：岩永慎二
IPC分类号： G21K5/04 , G21K1/093 , A61N5/10
CPC分类号： H01J37/304 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , H01J37/1472 , H01J37/3007 , H05H13/04 , H05H7/12 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , A61N5/1048 , G21K5/04 , H01J2237/1504 , H01J2237/152 , H01J2237/30472 , H05H2007/004 , H05H2007/122
摘要：【課題】荷電粒子線を照射する層を切り替えるときの切り替え時間を短縮し、荷電粒子線治療の時間を短縮することを目的とする。【解決手段】制御部130は、荷電粒子線を照射する被照射体の層を切り替えるときに、デグレーダ18を制御することによって荷電粒子線のエネルギーを低下させると共に、電磁石電源27と電磁石25との間に直列に接続された半導体50の抵抗を上げる。半導体50は、電磁石25への電流を減少させるときに必要なタイミングで抵抗を高くして負荷時定数を大きくできるため、電流の低下に要する時間を短縮することができる。すなわち、荷電粒子線を照射する層を切り替えるときの切り替え時間を短縮し、荷電粒子線治療の時間を短縮することができる。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：通过缩短切换被照射的带电粒子束的层所需的切换时间来缩短带电粒子束的治疗时间。解决方案：控制单元130，当切换被照射物体的层时带电粒子束通过控制降解器18来降低带电粒子束的能量，并且增加串联连接在电磁体电源27和电磁体25之间的半导体50的电阻。半导体50在减少一个电流到电磁体25并且可以增加负载时间常数，使得可以缩短电流减少所需的时间。即，缩短用带电粒子束照射的层切换所需的切换时间，能够缩短带电粒子束治疗时间。

5. 发明专利

JP2017501799A コリメータおよびエネルギーデグレーダ有权
标题翻译：准直器和降能
公开(公告)号：JP2017501799A
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：JP2016541203
申请日：2014-12-19
申请人：メビオン・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド
发明人：ゲリット・タウンセンド・ズワート , マーク・アール・ジョーンズ
IPC分类号： A61N5/10 , G21K1/00 , G21K1/02 , G21K1/093 , G21K3/00 , G21K5/04 , H05H13/02
CPC分类号： A61N5/1043 , A61N5/1042 , A61N5/1045 , A61N5/1077 , A61N5/1083 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/046 , G21K1/10 , H05H13/02 , H05H2007/004 , H05H2007/007 , H05H2007/122
摘要：粒子治療システムは、粒子ビームを出力する粒子加速器と、粒子ビームを照射ターゲットの少なくとも一部にわたって走査させる粒子加速器用の走査システムとを備える。走査システムは粒子ビームを粒子ビームの方向に対してある角度を成す2次元内で走査するように構成される。構造体が縁を画成する。構造体は、構造体の少なくとも一部が粒子ビームの少なくとも一部と照射ターゲットとの間にあるように照射ターゲットに対して2次元内で移動するように制御可能である。構造体は、粒子ビームの透過を抑制する材料を含む。
摘要翻译：粒子线治疗系统包括：用于输出一个粒子束的粒子加速器，以及用于粒子加速器的扫描系统，用于横过所述照射目标的至少一部分扫描所述粒子束。扫描系统，被配置成一角度粒子束粒子束的方向在两个维度进行扫描。结构定义的边缘。结构可以被控制在一个二维移动相对于所述照射目标，使得至少所述结构的一部分之间至少一部分照射目标粒子束。结构包括抑制所述粒子束的渗透的材料。

6. 发明专利

JP6017486B2 荷電粒子線治療装置、及び荷電粒子線の飛程調整方法有权
标题翻译：带电粒子射线治疗装置，和带电粒子束的调整方法的投影范围
公开(公告)号：JP6017486B2
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：JP2014058515
申请日：2014-03-20
申请人：住友重機械工業株式会社
发明人：岩永慎二
IPC分类号： G21K5/04 , G21K1/093 , A61N5/10
CPC分类号： H01J37/304 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , H01J37/1472 , H01J37/3007 , H05H13/04 , H05H7/12 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , A61N5/1048 , G21K5/04 , H01J2237/1504 , H01J2237/152 , H01J2237/30472 , H05H2007/004 , H05H2007/122

7. 发明专利

JP2018110133A 粒子ビームの強度の制御审中-公开
公开(公告)号：JP2018110133A
公开(公告)日：2018-07-12
申请号：JP2018072427
申请日：2018-04-04
申请人：メビオン・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド
发明人：ケネス・ピー・ガル , ゲリット・タウンゼント・ズワート , ヤン・ファン・デル・ラーン , アダム・シー・モルツァン , チャールズ・ディー・オニール・サード , トーマス・シー・ソブジンスキー , ジェームズ・クーリー
IPC分类号： H05H1/24 , G21K5/04 , H05H7/12 , A61N5/10 , H05H13/02
CPC分类号： H05H7/02 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , H05H7/12 , H05H13/02 , H05H2007/082 , H05H2007/122
摘要：【課題】粒子治療システムで使用される陽子またはイオンビームなどの、粒子ビームの強度の制御を提供する。【解決手段】一例において、シンクロサイクロトロンは、電離プラズマのパルスを空洞に送り込むための粒子源と、高周波(RF)電圧を空洞に印加してプラズマ柱から粒子を外部に加速するための電圧源と、空洞から粒子ビームを受けて粒子加速器から出力するための引き出しチャネルとを備える。粒子源は、粒子ビームの強度を制御するために電離プラズマのパルス幅を制御するように構成される。この例示的なシンクロサイクロトロンは、以下の特徴のうちの1つまたは複数を、単独で、または組み合わせて含み得る。【選択図】図17

8. 发明专利

JP2015532507A 粒子ビームの強度の制御有权
标题翻译：粒子束的强度的控制
公开(公告)号：JP2015532507A
公开(公告)日：2015-11-09
申请号：JP2015534721
申请日：2013-09-27
申请人：メビオン・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド
发明人：ケネス・ピー・ガル , ゲリット・タウンゼント・ズワート , ヤン・ファン・デル・ラーン , アダム・シー・モルツァン , チャールズ・ディー・オニール・サード , トーマス・シー・ソブジンスキー , ジェームズ・クーリー
IPC分类号： H05H13/02 , A61N5/10 , G21K5/04
CPC分类号： H05H7/02 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , H05H7/12 , H05H13/02 , H05H2007/082 , H05H2007/122
摘要：一例において、シンクロサイクロトロンは、電離プラズマのパルスを空洞に送り込むための粒子源と、高周波(RF)電圧を空洞に印加してプラズマ柱から粒子を外部に加速するための電圧源と、空洞から粒子ビームを受けて粒子加速器から出力するための引き出しチャネルとを備える。粒子源は、粒子ビームの強度を制御するために電離プラズマのパルス幅を制御するように構成される。この例示的なシンクロサイクロトロンは、以下の特徴のうちの1つまたは複数を、単独で、または組み合わせて含み得る。
摘要翻译：在一个示例中，同步回旋加速器，粒子源，用于在腔中供给离子化等离子体的脉冲，以及用于从该等离子体柱射频粒子加速到外部电压源（RF）电压从腔施加到腔体中，所述颗粒并从粒子加速器用于输出的引出信道接收的光束。粒子源被布置成控制所述离子化等离子体的脉冲宽度，以控制所述粒子束的强度。该示例性同步回旋加速器，一个或多个以下特征可包括单独或组合使用。

9. 发明专利

JP2015065102A 円形加速器审中-公开
标题翻译：圆形加速器
公开(公告)号：JP2015065102A
公开(公告)日：2015-04-09
申请号：JP2013199133
申请日：2013-09-26
申请人：株式会社日立製作所
发明人：原重充 , 野田文章 , 青木孝道
IPC分类号： H05H13/00
CPC分类号： H05H13/02 , H05H13/005 , H05H2007/025 , H05H2007/122
摘要：【課題】荷電粒子を加速する円形加速器において、荷電粒子ビームの出射エネルギーを容易に変えることができ、荷電粒子ビームの軌道を偏向する磁場と高周波加速電極部の加速周波数の変更が不要な円形加速器を提供することにある。【解決手段】円形加速器100が、荷電粒子ビームを加速するための高周波電場を印加する電極2と、荷電粒子ビームを偏向する電磁石装置12と、電極2に直流電界を印加する直流電源装置6を備えることによって、本発明は上記課題を解決する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种加速带电粒子的循环加速器，其能够容易地改变带电粒子束的输出能量，并且不需要改变偏转带电粒子束的轨道的磁场，并且用于改变高频加速电极部分的加速度频率。循环加速器100包括：施加用于加速带电粒子束的高频电场的电极2; 使带电粒子束偏转的电磁体装置12; 以及向电极2施加直流电场的直流电源装置6。

10. 发明专利

JP2014102990A Cyclotron 审中-公开
标题翻译： CYCLOTRON
公开(公告)号：JP2014102990A
公开(公告)日：2014-06-05
申请号：JP2012254346
申请日：2012-11-20
申请人： Sumitomo Heavy Ind Ltd , 住友重機械工業株式会社
发明人： MITSUMOTO TOSHINORI
IPC分类号： H05H13/00
CPC分类号： H05H13/005 , H05H2007/122
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cyclotron capable of improving beam efficiency.SOLUTION: A cyclotron 1 according to the present invention comprises: a hollow yoke 3; an upper pole 6 and a lower pole 7 arranged in the yoke 3; an ion source 2 for generating ions; a buncher 8 at least one part of which enters into the yoke 3 and that adjusts density of ion beam R fed from the ion source 2 in a traveling direction; and an inflector 9 for deviating the ion beam R passing through the buncher 8 and making it incident on a median plane M.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够提高射束效率的回旋加速器。解决方案：根据本发明的回旋加速器1包括：中空轭3; 布置在轭3中的上极6和下极7; 用于产生离子的离子源2; 一个聚束器8，其至少一部分进入磁轭3，并调节从离子源2沿行进方向馈送的离子束R的密度; 以及偏转器9，用于使通过分束器8的离子束R偏离并使其入射在中间平面M上。

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