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    • 6. 发明专利
    • 光電変換装置及びその製造方法
    • 光电转换装置及其制造方法
    • JP2015220258A
    • 2015-12-07
    • JP2014100785
    • 2014-05-14
    • キヤノン株式会社
    • 遠藤 信之廣田 克範荻野 拓海楠川 将司田村 清一
    • H01L27/146
    • H01L27/14689H01L27/14609H01L27/14616H01L27/1463H01L27/14636H01L27/14643H01L31/02H01L31/02005H01L31/0264H01L27/1462
    • 【課題】 センサ特性の優れた光電変換装置を提供する。 【解決手段】 光電変換装置は、画素回路部と周辺回路部とを備える。前記画素回路部は、第1導電型の不純物を含む第1半導体領域と、前記第1導電型の不純物によって前記第1半導体領域の中に形成された第2半導体領域と、第2導電型の不純物によって前記第2半導体領域の中に形成された第3半導体領域と、前記第3半導体領域の上に形成されたコンタクトプラグと、を含む。前記第1導電型の不純物の濃度から前記第2導電型の不純物の濃度を差し引いた前記第1導電型の不純物のネットの濃度が、前記第2半導体領域において前記第1半導体領域および前記第3半導体領域よりも高く、かつ、前記第2半導体領域および前記第3半導体領域において、前記第2導電型の不純物の最大濃度位置と前記コンタクトプラグとの距離が、前記第1導電型の不純物の最大濃度位置と前記コンタクトプラグとの距離以下である。 【選択図】 図2
    • 要解决的问题:提供具有优异传感器特性的光电转换装置。解决方案:光电转换装置包括像素电路单元和外围电路单元。 像素电路单元包括:第一半导体区域,包括第一导电类型的杂质;通过第一导电类型的杂质形成在第一半导体区域中的第二半导体区域;通过杂质形成在第二半导体区域中的第三半导体区域 的第二导电类型,以及形成在第三半导体区域上的接触塞。 在第二半导体区域中,通过从第一导电类型的杂质的浓度减去第二导电类型的杂质的浓度而获得的第一导电类型的杂质的净浓度高于第一半导体区域,并且 第三半导体区域。 在第二半导体区域和第三半导体区域中,第二导电类型的杂质的最大浓度位置与接触插塞之间的距离不大于第一导电类型的杂质的最大浓度位置与 接触插头。