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3. 发明专利

JP2018528471A UV放射が照射される液状の媒質を基板に塗布するための装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018528471A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2018510748
申请日：2016-08-24
申请人：ズースマイクロテクフォトマスクエクイップメントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフト , Suss MicroTec Photomask Equipment GmbH & Co. KG
发明人：イェアクドゥーダ , ウーヴェディーツェ
IPC分类号： H01L21/304 , G03F1/82
CPC分类号： B08B3/10 , B05B1/04 , B08B3/08 , B08B7/0057 , G03F1/82 , H01L21/67051 , H01L21/6715
摘要：本願では、UV放射が照射される液状の媒質を基板に塗布するための装置を開示し、当該装置は、細長いチャンバと、チャンバに向かう方向に開いている少なくとも1つの供給口と、当該少なくとも1つの供給口とは反対側にある、チャンバの長さにわたって延在するスリット形の排出口とを有するハウジング、チャンバ内を長手方向に通って延在する、少なくとも部分的にUV放射に対して透過性である管部材であって、当該管部材とチャンバの壁との間に、排出口の中心と交差するチャンバの長手方向中心平面を基準として対称的である流れ空間が形成されるように、かつ、当該管部材がハウジングのスリット形の排出口内まで延在して、長手方向に延在する2つの排出スリットを当該管部材とハウジングとの間に形成するように、チャンバ内に配置された管部材、および流れ空間の方向にUV放射を排出口に通してハウジングから外部へ放出するように管部材内に配置された少なくとも1つのUV放射源を備えている。本装置は、少なくとも1つの供給口と隣り合った領域から流れ空間の流れ横断面が排出スリットに向かって減少していくことを特徴とする。かかる構成によって使用時には、液体が排出スリットの方向に流れるときに液体の加速が生じ、これにより流れの一様化がなされる。排出スリットの領域には、ハウジングの外部に液体の一様なカーテンが形成されることができ、これを基板上に塗布することができる。さらに、流れ横断面が上述のように減少していくことにより、UV放射を液体中に一様に入射させることもできる。

4. 发明专利

JP2018528470A UV放射が照射される液状の媒質を基板に塗布するための装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018528470A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2018510747
申请日：2016-08-24
申请人：ズースマイクロテクフォトマスクエクイップメントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフト , Suss MicroTec Photomask Equipment GmbH & Co. KG
发明人：ペータードレス , ウーヴェディーツェ , ペーターグラービッツ
IPC分类号： G03F7/16 , H01L21/304 , G03F1/82
CPC分类号： B08B3/10 , B08B7/0057 , B08B2203/005 , H01L21/67051 , H01L21/67115
摘要：本願では、UV放射が照射される液状の媒質を基板に塗布するための装置を開示し、当該装置は、細長いチャンバと、チャンバに向かう方向に開いている少なくとも1つの供給口と、当該少なくとも1つの供給口とは反対側にある、チャンバの長さにわたって延在するスリット形の排出口とを有するハウジング、チャンバ内を長手方向に通って延在する、少なくとも部分的にUV放射に対して透過性である管部材であって、当該管部材とチャンバの壁との間に、排出口の中心と交差するチャンバの長手方向中心平面を基準として対称的である流れ空間が形成されるように、かつ、当該管部材がハウジングのスリット形の排出口内まで延在して、長手方向に延在する2つの排出スリットを当該管部材とハウジングとの間に形成するように、チャンバ内に配置された管部材、および流れ空間の方向にUV放射を排出口に通してハウジングから外部へ放出するように管部材内に配置された少なくとも1つのUV放射源を備えている。本装置は、管部材の第1の部分を通じて第1の波長領域のUV放射を流れ空間内へ放出させ、かつ、当該管部材の第2の部分を通じてハウジングの排出口を通過するように第2の波長領域のUV放射を放出させ、かつオプションとして、流れ空間の、排出スリットと隣り合った端部領域へ放出させる手段がさらに設けられていることを特徴とする。第1の波長領域と第2の波長領域とは異なり、両部分のうち少なくとも一方について、各部分を通じて放出される放射出力の最大20%、有利には最大5%が、他方の波長領域に由来するものであることが適用される。

5. 发明专利

JP2017214053A 化粧室の床を自動的に清掃するシステム及び方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017214053A
公开(公告)日：2017-12-07
申请号：JP2017042414
申请日：2017-03-07
申请人：ザ・ボーイング・カンパニー , The Boeing Company
发明人：ジェンセン, チャールズシー.
IPC分类号： B08B1/00 , B08B5/04 , B08B7/04 , E03D5/00 , A47K17/00 , B64D11/02
CPC分类号： E03D9/002 , A47L7/0004 , A47L9/1409 , B08B1/006 , B08B1/02 , B08B3/041 , B08B3/08 , B08B7/0057 , B64D11/02 , B64F5/0018
摘要：【課題】民間航空機内の化粧室の床等の床を自動的に清掃するシステム及び方法を提供する。【解決手段】自浄式床アセンブリ200は、起動システム204に動作可能に連結された可動床202を含みうる。清掃システム206は、可動床202の一方の端部に位置づけされる。任意選択的に、清掃システム206は、可動床202の下に位置づけされうる。清掃システム206は、可動床202の一部の上、可動床の対向端部に位置づけされうる、あるいは構成要素を、可動床に沿った端部、下部、上部等の様々な箇所に含みうる。【選択図】図4

6. 发明专利

JP5765504B1 光照射装置有权
公开(公告)号：JP5765504B1
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：JP2015509648
申请日：2014-09-09
申请人：ウシオ電機株式会社
发明人：羽生智行
IPC分类号： H01L21/304 , H05K3/00 , H01L21/027
CPC分类号： B08B7/0057 , H01L21/67115 , H01L21/6719 , G03F7/42
摘要：本発明は、被処理物を高い処理効率で均一に処理することのできる光照射装置を提供することを目的とするものである。本発明の光照射装置は、被処理物を配置する被処理物支持台と、被処理物の被処理面に対して真空紫外線を照射する紫外線ランプと、被処理物と紫外線ランプとの間に配置された、紫外線ランプからの真空紫外線を透過する光透過窓部材とを備え、被処理物の被処理面と光透過窓部材との間に形成される間隙の距離が1mm以下とされており、当該間隙に、当該被処理面に沿うように一方向に向けて処理ガスを供給するガス供給手段が設けられており、前記被処理物支持台における、前記処理ガスの供給方向に伸び、被処理物が位置しない領域に、遮風部材が配設されていることを特徴とする。
摘要翻译：本发明的目的在于提供一种能够以高处理效率均匀地处理待处理的对象的光照射装置。中，待处理的物体支撑基座放置对象，本发明的光照射装置进行处理，紫外灯照射真空紫外线的对象的治疗表面，物体和紫外线灯之间布置，并且将被处理的透光窗部件，其从紫外线灯发射的真空紫外线光，并且表面之间形成的间隙的距离，并且所述工件的所述透光窗构件是1mm以下到间隙中，并且所述气体供给装置，用于在沿着所述表面提供的一个方向上供应处理气体待处理的在处理对象物支承台，在处理气体的进给方向延伸，所述在处理对象不位于的区域中，其中，所述空气屏蔽构件设置。

7. 发明专利

JP2015120129A 光照射装置有权
标题翻译：光放大器
公开(公告)号：JP2015120129A
公开(公告)日：2015-07-02
申请号：JP2013266564
申请日：2013-12-25
申请人：ウシオ電機株式会社
发明人：廣瀬賢一
IPC分类号： H01L21/3065 , H05K3/26 , H01L21/304 , H01L21/027 , B08B7/00
CPC分类号： H01L21/67115 , B08B5/00 , B08B7/0057 , G03F7/0002 , H01L21/6719 , H05K3/0055 , H01L21/31138
摘要：【課題】被処理物の被処理面の全面にわたって均一に処理を行うことができる光照射装置を提供する。【解決手段】被処理物が内部に配置される処理室と、前記被処理物に対して真空紫外線を出射する紫外線出射ランプと、前記処理室内に活性種源を含む処理用ガスを供給するガス供給手段とを備えた光照射装置であって、前記処理室における被処理物配置領域の両側に、当該処理室に処理用ガスを供給するためのガス供給口および当該処理室内のガスを排出するガス排出口が設けられることによって、当該処理室内に当該ガス供給口から当該ガス排出口に向かって処理用ガスが流通するガス流路が形成されており、前記ガス供給口におけるガス量の、前記ガス排出口における到達度が、60〜95%に制御されることを特徴とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够均匀地处理被处理物体的整个目标处理表面的光辐射装置。解决方案：一种光辐射装置，包括：处理室，其中设置有被处理物体; 向被处理物发射真空紫外线的紫外线发射灯; 以及将包括活性源的处理气体供给到处理室中的气体供给装置。在该光辐射装置中，在处理室内的处理物体配置区域的两侧设置有用于向处理室供给处理气体的气体供给口和排出处理室内的气体的排气口。由此，在处理室内形成有从气体供给口向处理气体向排气口循环的气体导管。气体供给口内的气体到达排气口的程度被控制在60〜95％。

8. 发明专利

JP5190215B2 Method of cleaning a turbo molecular pump 有权
公开(公告)号：JP5190215B2
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：JP2007092380
申请日：2007-03-30
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：栄一菅原 , 剛守屋
IPC分类号： F04D19/04
CPC分类号： B08B7/00 , B08B5/02 , B08B7/0057 , B08B9/00 , F04D19/042 , F04D29/701 , F05D2260/607

9. 发明专利

JP4790970B2 Mitigation of radiation-induced surface contamination 有权
公开(公告)号：JP4790970B2
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：JP2002553187
申请日：2000-12-21
申请人：イーユーヴィーリミテッドリアビリティコーポレーション
发明人：エイチスタレンリチャード , イークレバノフレオナルド
IPC分类号： H01L21/027 , B01J19/12 , B08B7/00 , G03F1/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70883 , B08B7/0057 , G03F7/70925

10. 发明专利

JPWO2009022429A1 基板洗浄装置および基板洗浄方法有权
公开(公告)号：JPWO2009022429A1
公开(公告)日：2010-11-11
申请号：JP2009528017
申请日：2007-08-16
申请人：旭硝子株式会社
发明人：生田　順亮 , 順亮生田
IPC分类号： B08B7/00 , B08B3/08 , B08B3/10 , H01L21/304
CPC分类号： B08B7/0035 , B08B7/0057
摘要：基板の洗浄面におけるUV光の強度の増加、ならびにそれによるオゾンO3濃度および励起状態の酸素原子O(1D)濃度および活性酸素濃度の増加により、基板の洗浄面から有機系、金属系の異物を効果的に除去する基板洗浄方法ならびに基板洗浄装置を提供。UV光照射を用いる基板の洗浄方法であって、基板の洗浄をおこなう側の面(以下、洗浄面という)およびその近傍を含む第2の空間は、前記UV光の照射によりオゾン、励起状態の酸素原子、および活性酸素種のうち少なくともいずれか1種を発生するガス若しくは液からなる雰囲気とし、前記基板の他方の側の面(以下、照射面という)を含む第1の空間は、前記UV光の吸収が低いガスからなる雰囲気とし、前記UV光を、第1の空間を通して前記基板の照射面に入射させ、基板内を透過させて洗浄面に照射することを特徴とする基板の洗浄方法。

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