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1. 发明专利

JP2013193336A Polylactic acid molding with vapor deposition film and its production process 有权
标题翻译：具有蒸发沉积膜的聚酯酸成型及其生产工艺
公开(公告)号：JP2013193336A
公开(公告)日：2013-09-30
申请号：JP2012063241
申请日：2012-03-21
申请人： Toyo Seikan Co Ltd , 東洋製罐株式会社
发明人： ITO TAKURO , OZAWA SATOMI , KITO SATOSHI , YAMAZAKI KAZUHIKO
IPC分类号： B32B27/36 , B65D23/08 , B65D65/46 , C23C16/27
CPC分类号： B65D23/0807 , B05D1/62 , B05D7/04 , B05D7/50 , B05D2490/50 , B65D1/0215 , B65D23/02 , B65D65/466 , C08J7/123 , C08J2367/04 , C23C16/26 , C23C16/27 , C23C16/511 , Y02W90/12 , Y10T428/1379 , Y10T428/24975 , Y10T428/31786
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polylactic acid molding capable of fully exerting characteristics of a hydrocarbon based vapor deposition film, by forming the hydrocarbon based vapor deposition film with a series of consecutive plasma CVD (chemical vapor deposition) process without switch-over of reaction gasses, causing no thermal deformation or thermal deterioration of the polylactic acid substrate, and allowing a high adhesion to the polylactic acid substrate.SOLUTION: A polylactic acid molding consists of a polylactic acid substrate 1, and a hydrocarbon based vapor deposition film 3 formed on the substrate surface by the plasma CVD process. The polylactic acid substrate 1 exhibits a sharp X-ray diffraction peak of 1.22° or lower in the peak half value width that appears in a wide angle X-ray measurement of 10°-25°. The hydrocarbon based vapor deposition film 3 is formed on the surface of polylactic acid substrate 1 and has two layers of a high CHlayer 3a which is 40% or higher in CHratio per sum total of CH, CHand CH, and a low CHlayer 3b which is formed on the high CHlayer 3a and is 35% or lower in CHratio per sum total of CH, CHand CH.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供能够充分发挥烃类蒸镀膜的特性的聚乳酸成型体，通过用一系列连续的等离子体CVD（化学气相沉积）方法形成烃系蒸镀膜而不切换反应气体，不会引起聚乳酸基材的热变形或热劣化，并且能够对聚乳酸基材具有高粘附性。溶液：聚乳酸成型体由聚乳酸基材1和形成的烃系蒸镀膜3 通过等离子体CVD工艺在衬底表面上。聚乳酸基材1在10°-25°的广角X射线测定中出现峰值半值宽度中的锐度X射线衍射峰为1.22°以下。烃基蒸镀膜3形成在聚乳酸基板1的表面上，并且具有两层高CH层3a，其CHCH，CH和CH总和的CH比例为40％以上，低CH层3b为形成在高CH层3a上，并且CH / CH和CH总和的CH比例为35％以下。

3. 发明专利

JP2016519618A 付加的な単色放射線源を備えたＵＶ放射装置审中-公开
标题翻译：与另外的单色辐射源的UV辐射装置
公开(公告)号：JP2016519618A
公开(公告)日：2016-07-07
申请号：JP2016508034
申请日：2014-04-14
申请人：エリコンサーフェスソリューションズアーゲー、トリュープバッハ , エリコンサーフェスソリューションズアーゲー、トリュープバッハ
发明人：リューディギアシェーファー , リューディギアシェーファー , マルティンカスパー , マルティンカスパー
IPC分类号： B05D3/06 , B05D3/10 , B05D5/06 , B32B27/16
CPC分类号： C23C14/58 , B05D3/0209 , B05D3/067 , B05D7/02 , B05D7/53 , B05D7/57 , B05D2490/50
摘要：本発明は、その表面が少なくとも部分的にコーティングで覆われたコンポーネントに関し、当該コーティングは第1塗料層と第2塗料層の間に配置されたPVDコーティングを有し、当該第1塗料層は当該表面上に下塗り層を形成し、当該第2塗料層は当該PVDコーティング上に上塗り厚みを有する上塗り層を形成し、少なくとも当該上塗り層は紫外線硬化塗料を用いて作られている。当該PVDコーティングの境界面から始まって、当該上塗り厚みより小さい領域では、当該上塗り層は、この領域に隣接する当該上塗り層の部分よりも小さい程度の、紫外線により誘起される架橋を有する。本発明は、特にこのようなコンポーネントの製造方法に関する。
摘要翻译：本发明涉及一种具有在其表面上至少部分地覆盖有涂层的部件，所述涂层具有第一涂料层与第二涂层之间的放置PVD涂层，所述第一涂层是形成在表面上的底涂层，第二涂料层形成具有在PVD涂层的外涂层的厚度，至少所述外敷层使用紫外线固化性涂料制成的外覆层。从PVD涂层的边界表面开始，在比所述外涂层厚度，外涂层越小，比度邻近该区域中的外覆层的部分以下的区域，具有交联诱导的紫外线。本发明是更具体地涉及制造这种组件的方法。

4. 发明专利

JP6020239B2 成膜方法及び成膜装置有权
公开(公告)号：JP6020239B2
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：JP2013027972
申请日：2013-02-15
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：杉田吉平 , 橋本浩幸 , 原田宗生
IPC分类号： H01L21/3205 , H01L21/768 , H01L23/522 , H01L23/532 , H01L21/312
CPC分类号： H01L21/02118 , C23C16/4408 , C23C16/52 , H01L21/022 , H01L21/02271 , H01L21/02337 , H01L21/02359 , H01L21/76831 , H01L21/76898 , B05D1/36 , B05D1/60 , B05D2490/50 , C23C16/455

5. 发明专利

JP5794184B2 蒸着膜を備えたポリ乳酸成形体及びその製造方法有权
标题翻译：的聚乳酸成型品及其制造用的沉积膜其方法
公开(公告)号：JP5794184B2
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：JP2012063241
申请日：2012-03-21
申请人：東洋製罐株式会社
发明人：伊藤卓郎 , 小澤里美 , 鬼頭諭 , 山崎和彦
IPC分类号： C23C16/27 , B65D23/08 , B65D65/46 , B32B27/36
CPC分类号： B65D23/0807 , B65D1/0215 , B65D23/02 , C08J7/123 , C23C16/26 , C23C16/27 , C23C16/511 , B05D1/62 , B05D2490/50 , B05D7/04 , B05D7/50 , B65D65/466 , C08J2367/04 , Y02W90/12 , Y10T428/1379 , Y10T428/24975 , Y10T428/31786

6. 发明专利

JP2013524295A Pattern with gradient polymer film and method 有权
公开(公告)号：JP2013524295A
公开(公告)日：2013-06-17
申请号：JP2013504880
申请日：2010-10-22
申请人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
发明人：ブレイクコルブウィリアム , ベントンフリーマイケル , ユー．コルブブラント , フェイルー , エー．ウィートレイジョン
IPC分类号： G02B5/00 , F21S2/00 , F21V3/00 , G02B5/02 , G02B5/136
CPC分类号： G02B5/0263 , B05D3/067 , B05D2490/50 , B05D2490/60 , B29C41/24 , B29C2035/0827 , B29K2995/0018 , G02B1/04 , G02B5/0247 , G02F2001/133631 , Y10T428/249961 , Y10T428/2933
摘要：本開示は、広くは、パターン付き勾配ポリマーフィルム及びその製造方法に関し、より具体的には、その屈折率、ヘイズ、透過率、透明度又はこれらの組み合わせなどの光学特性に変化を含む領域を有するパターン付き勾配光学フィルムに関する。光学特性における変化は、フィルムの横断面にわたって、及び、フィルムの厚さ方向にわたって、生じさせ得る。

8. 发明专利

JP2016040608A パターン付き勾配ポリマーフィルム及び方法审中-公开
标题翻译：图案梯度聚合物薄膜和方法
公开(公告)号：JP2016040608A
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：JP2015197121
申请日：2015-10-02
申请人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
发明人：ウィリアムブレイクコルブ , マイケルベントンフリー , ブラントユー.コルブ , ルーフェイ , ジョンエー.ウィートレイ
IPC分类号： G02B5/136
CPC分类号： G02B5/0263 , B29C41/24 , G02B1/04 , G02B5/0247 , B05D2490/50 , B05D2490/60 , B05D3/067 , B29C2035/0827 , B29K2995/0018 , G02F2001/133631 , Y10T428/249961 , Y10T428/2933
摘要：【課題】屈折率、ヘイズ、透過率、透明度又はこれらの組み合わせなどの光学特性に変化を含む領域を有するパターン付き勾配光学フィルムを提供する。【解決手段】バインダー310と、複数のナノボイド320であって、その複数のナノボイド320の少なくとも60%が70nm以下のボイドのサイズを有するナノボイド320と、を備え、複数のナノボイド320の局所的体積分率が勾配ポリマーフィルムの横断面にわたって変化する。【選択図】図1A
摘要翻译：要解决的问题：提供具有包括光学性质变化（例如折射率，雾度，透射率或透明度或其组合）的区域的图案化梯度光学膜。溶液：梯度聚合物膜包括：粘合剂310; 和多个纳米空心320，其至少60％具有70nm或更小的空隙尺寸。多个纳米空心320的局部体积分数在梯度聚合物薄膜的横向平面上变化。选择的图示：图1A

9. 发明专利

JP2015516872A 低屈折率材料のための保護コーティング审中-公开
标题翻译：保护性涂层用于低折射率材料
公开(公告)号：JP2015516872A
公开(公告)日：2015-06-18
申请号：JP2015503365
申请日：2013-03-19
申请人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー , スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
发明人：エル．スタイナーマイケル , エル．スタイナーマイケル , ディー．コッジオウィリアム , ディー．コッジオウィリアム , ジェイ．ルードマントーマス , ジェイ．ルードマントーマス , エル．レクセイセンエミリー , エル．レクセイセンエミリー , アール．ダドリーウィリアム , アール．ダドリーウィリアム , ジェイ．マックマンスティーブン , ジェイ．マックマンスティーブン , エル．ルーグセッガーマイケル , エル．ルーグセッガーマイケル
IPC分类号： B05D1/36 , B05D1/30 , B05D7/24 , B32B27/20 , G02B1/11
CPC分类号： B05D5/06 , B05D1/26 , B05D1/305 , B05D7/5423 , B05D7/5483 , B05D7/5823 , B05D7/5883 , B05D2490/50 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/0242 , G02B5/0247 , Y10T428/249981 , Y10T428/249986
摘要：本開示は、低屈折率材料のための保護コーティング、及び保護された低屈折率材料の調製プロセスを記載する。保護コーティングは一部が、低屈折率材料の孔に浸透して、孔の密封保護をもたらし、保護された低屈折率材料の特性に勾配を形成することにより、構成を強化することができる。本開示は更に、保護された低屈折率材料、及び低屈折率材料の上に配置された分散層を有する、分散低屈折率光学素子をもたらす。
摘要翻译：本公开描述的保护性涂层，以及用于制备受保护的低折射率材料为低折射率材料的方法。一些保护性涂层可渗入低折射率材料的孔中，致使密封护孔，通过在受保护的低折射率材料的性质形成的梯度，所以能够加强结构。本公开还低折射率材料被保护，并在低折射率材料的分布设置的层，导致在分散低折射率光学元件。

10. 发明专利

JP2014170764A Film formation method and film formation device 有权
标题翻译：电影形成方法和胶片形成装置
公开(公告)号：JP2014170764A
公开(公告)日：2014-09-18
申请号：JP2013027972
申请日：2013-02-15
申请人： Tokyo Electron Ltd , 東京エレクトロン株式会社
发明人： SUGITA KIPPEI , HASHIMOTO HIROYUKI , HARADA MUNEO
IPC分类号： H01L21/312 , H01L21/3205 , H01L21/768 , H01L23/522 , H01L23/532
CPC分类号： H01L21/02118 , B05D1/36 , B05D1/60 , B05D2490/50 , C23C16/4408 , C23C16/455 , C23C16/52 , H01L21/022 , H01L21/02271 , H01L21/02337 , H01L21/02359 , H01L21/76831 , H01L21/76898
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film formation method capable of being applied for embedding a recessed part with a high aspect ratio and further capable of providing an insulation film also having barrier properties and made of a polymer thin film.SOLUTION: A film formation method for forming an insulation film 140 made of a polymer thin film, on a surface of a subject 2 to be processed in a processing chamber 26 having been subjected to vacuum drawing, includes: a first step of supplying first raw material gas including an acid anhydride and second raw material gas including a diamine to form the insulation film 140; and a second step of, after the first step, stopping the supply of the second raw material gas and supplying the first raw material gas to reform the insulation film 140, thereby imparting a barrier function. Thus, the method can be applied for embedding a recessed part with a high aspect ratio and further can form an insulation film also having barrier properties and made of a polymer thin film.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够用于嵌入具有高纵横比的凹部的成膜方法，并且还能够提供也具有阻隔性并由聚合物薄膜制成的绝缘膜。溶液：成膜在经受真空拉拔的处理室26中待处理对象2的表面上形成由聚合物薄膜制成的绝缘膜140的方法包括：第一步骤，将包含酸的第一原料气体酸酐和包括二胺的第二原料气体，以形成绝缘膜140; 以及第二步骤，在第一步骤之后停止供应第二原料气体并供应第一原料气体以重整绝缘膜140，从而赋予屏障功能。因此，该方法可以用于嵌入具有高纵横比的凹部，并且还可以形成也具有阻隔性并由聚合物薄膜制成的绝缘膜。

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