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热词
    • 1. 发明专利
    • ケトン化合物の製造方法
    • 酮酮化合物生产工艺
    • JP2016079134A
    • 2016-05-16
    • JP2014212951
    • 2014-10-17
    • 富士フイルムファインケミカルズ株式会社
    • 石川 勇次長山 誉劉 杜楊 志勇
    • C07C49/78C07C49/786C07C49/807C07C47/232C07D213/50C07H17/08C07C45/30
    • 【課題】アルコールをケトンに酸化するCorey−Kim酸化反応において、反応後のスルフィド処理を不要とする、工業的に有用なケトン化合物製造方法の提供。 【解決手段】三級アミンおよびハロゲン化剤存在下、下式(I)で表されるスルフィド化合物を用い、下式(II)で表されるアルコール化合物を下式(III)で表されるケトン化合物に導く反応において、下式(I)で表されるスルフィド化合物の使用量が下式(II)で表されるアルコール化合物に対し0.3〜0.95モル当量であるケトン化合物の製造方法。 [R1はC1〜18のアルキル基;R2はC2〜18のアルキル基、又はアリール基] [R3はH、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基;R4はアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基;R3とR4が結合して環を形成しても良い] 【選択図】なし
    • 要解决的问题:提供工业上有用的酮化合物生产方法,其不需要在用于将醇氧化成酮的Corey-Kim氧化反应中,反应后的硫化物处理。解决方案:提供酮化合物生产方法 其中,在叔胺存在下,使用下式(I)表示的硫化物化合物,在下式(II)表示的醇化合物与下式(III)表示的酮化合物的反应中, 卤化剂,由下式(I)表示的硫化物相对于下式(II)表示的醇化合物的使用量为0.3〜0.95摩尔当量。 [R1是C1至18烷基; R2为C2〜18烷基或芳基。 [R3为H,烷基,烯基,芳基或杂环残基; R4表示烷基,烯基,芳基或杂环残基; 并且R3和R4可以键合在一起并形成环。]。选择的图:无
    • 2. 发明专利
    • 新規なトリアジン化合物、それを用いた紫外線吸収剤および樹脂組成物
    • 新型三嗪化合物,超紫外线吸收剂和使用其的树脂组合物
    • JP2015196650A
    • 2015-11-09
    • JP2014073993
    • 2014-03-31
    • 富士フイルムファインケミカルズ株式会社
    • グエン チュン タン
    • C09K3/00C07D251/16
    • 【課題】本発明の目的は、高分子材料、塗料、繊維、表面コーティング材、化粧品素材および写真用材料等の分野で紫外線吸収剤として有用なトリアジン化合物を提供することにある。 【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物。 式中、Rはアルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ホルミル基、カルボキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホン酸基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環残基、またはハロゲン原子を表す。これらの置換基は更に置換されてもよい。 【選択図】なし
    • 要解决的问题:提供在聚合材料,涂层,纤维,表面涂层材料,化妆品原料和摄影材料等领域中用作紫外线吸收剂的三嗪化合物。 由通式(I)表示的化合物。 (I)中,R表示烷基,芳基,羟基,烷氧基,芳氧基,杂环氧基,烷基羰基氧基,芳基羰基氧基,氨基甲酰氧基,甲酰基,羧基 基团,烷基羰基,芳基羰基,烷氧基羰基,芳氧基羰基,氰基,硝基,氨基,脲基,氨基甲酰基,氨磺酰基,磺基,烷硫基, 芳硫基,杂环硫基,烷基磺酰基,芳基磺酰基,杂环残基或卤素原子。 这些取代基可进一步被取代。