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1. 发明专利

JP2015052769A 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物有权
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，形成耐蚀图案的方法，聚合物和化合物
公开(公告)号：JP2015052769A
公开(公告)日：2015-03-19
申请号：JP2013186818
申请日：2013-09-09
申请人： Jsr株式会社 , Jsr Corp , Jsr株式会社
发明人： SHIRATANI MOTOHIRO , KAWAKAMI TAKANORI , NISHINO KOTA , HOSHIKO KENJI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F24/00 , H01L21/027
摘要：【課題】LWR性能及び解像性に優れる感放射線性樹脂組成物の提供。【解決手段】式(1)で表される構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。式(1)中、R1は、環員数3〜20の環構造と下記式(a)で表される基とを含む炭素数6〜30の置換メタンジイル基である。R4は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。下記式(a)中、Rf1及びRf2は、それぞれ独立して、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のフッ素化アルキル基である。但し、Rf1及びRf2のうちの少なくともいずれかはフッ素化アルキル基である。RAは、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。*は、R1を構成する炭素原子への結合部位を示す。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供LWR（线宽粗糙度）性能和分辨率优异的辐射敏感性树脂组合物。解决方案：辐射敏感性树脂组合物包含具有由式（1）表示的结构单元的聚合物和辐射敏感酸发生器。式（1）中，R表示碳原子数为6〜30的取代甲烷二基，包括具有3〜20个成员的环状结构和下述式（a）表示的基团。 R表示氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基。式（a）中，Rand Reach独立地表示碳原子数为1〜5的烷基或碳原子数为1〜5的氟代烷基，然而，兰德R 1为氟代烷基中的至少1种。 R表示氢原子或碳原子数为1〜20的一价有机基团; 和*表示与构成R的碳原子的偶联位置。

2. 发明专利

JP2015025880A レジストパターン形成方法及び保護膜形成用組成物有权
标题翻译：电阻形成方法和保护膜形成组合物
公开(公告)号：JP2015025880A
公开(公告)日：2015-02-05
申请号：JP2013154047
申请日：2013-07-24
申请人： Jsr株式会社 , Jsr Corp , Jsr株式会社
发明人： NISHINO KOTA , KAWAKAMI TAKANORI , SHIRATANI MOTOHIRO , HOSHIKO KENJI , INUKAI KOJI
IPC分类号： G03F7/11 , C08F226/06 , C08F232/08 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要：【課題】ナノエッジラフネスを改善することができ、感度も十分満足すると共に、アウトガスの発生も抑制可能な新規のレジストパターン形成方法の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、感放射線性樹脂組成物でレジスト膜を形成する工程、保護膜形成用組成物で上記レジスト膜上に保護膜を積層する工程、上記保護膜が積層されたレジスト膜を露光する工程、及び上記露光されたレジスト膜を現像する工程を有し、上記保護膜形成用組成物が、[A]下記式(i−1)で表される構造単位及び下記式(i−2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を有する重合体、及び[B]有機溶媒を含有するレジストパターン形成方法である。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够提高纳米边缘粗糙度并能够在充分满足灵敏度的同时抑制排气的发生的新型抗蚀剂图案形成方法。解决方案：本发明是抗蚀剂图案形成方法，包括以下步骤：具有辐射敏感性树脂组合物的抗蚀剂膜; 用保护膜形成组合物在抗蚀剂膜上层压保护膜; 使其上层叠有保护膜的抗蚀剂膜曝光; 并显影曝光的抗蚀剂膜。保护膜形成组合物含有[A]含有选自式（i-1）表示的结构单元和式（i-2）所示结构单元中的至少一种的聚合物，[B] 有机溶剂。

3. 发明专利

JP2010128432A Radiation-sensitive composition 有权
标题翻译：辐射敏感组合物
公开(公告)号：JP2010128432A
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：JP2008306143
申请日：2008-12-01
申请人： Jsr Corp , Jsr株式会社
发明人： SHIMIZU MAKOTO , MARUYAMA KEN , NISHINO KOTA , SHIMIZU DAISUKE
IPC分类号： G03F7/039 , C07C69/007 , C07C69/712 , C09K3/00 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive composition that can be suitably used in the formation of a chemically amplified positive resist film. SOLUTION: The radiation-sensitive composition includes (a) a compound, represented by general formula (1), and (b) a radiation-sensitive acid generator represented by M + Z - . COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：待解决的问题：提供可适用于形成化学放大的正性抗蚀剂膜的辐射敏感性组合物。解决方案：辐射敏感性组合物包括（a）由通式（1）表示的化合物和（b）由M + Z 表示的辐射敏感性酸产生剂 - 。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2013213999A Photoresist composition, resist pattern formation method, and polymer 有权
标题翻译：光电组合物，电阻图案形成方法和聚合物
公开(公告)号：JP2013213999A
公开(公告)日：2013-10-17
申请号：JP2012085054
申请日：2012-04-03
申请人： Jsr Corp , Jsr株式会社
发明人： FUJISAWA TOMOHISA , NII NORIYUKI , NISHINO KOTA , SUGI RYUJI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F24/00 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoresist composition excellent in sensitivity and resolution and sufficiently suppressing the nano edge roughness of film surface of an obtained pattern, and a resist pattern formation method using the photoresist composition.SOLUTION: A photoresist composition contains [A] a polymer having a structural unit (I) expressed by formula (1), and [B] an acid generator. In the formula (1), it is preferable that Rand Rare not bonded to each other.
摘要翻译：要解决的问题：提供灵敏度和分辨率优异的光致抗蚀剂组合物，并且充分抑制所获得的图案的膜表面的纳米边缘粗糙度，以及使用光致抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案形成方法。解决方案：光致抗蚀剂组合物含有[A] 具有由式（1）表示的结构单元（I）的聚合物和[B]酸产生剂。在式（1）中，优选Rand Rare不彼此结合。

5. 发明专利

JP2011201810A Radiation-sensitive composition and sulfonimide compound 有权
标题翻译：辐射敏感组合物和磺酰亚胺化合物
公开(公告)号：JP2011201810A
公开(公告)日：2011-10-13
申请号：JP2010070606
申请日：2010-03-25
申请人： Jsr Corp , Jsr株式会社
发明人： NISHINO KOTA , MARUYAMA KEN
IPC分类号： C07C381/12 , C07C303/34 , C08F12/22 , C08F20/10 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive composition which effectively sensitizes (extremely) far ultraviolet rays such as KrF excimer laser, ArF excimer laser, or EUV, X-rays such as synchrotron radiations, and electron beams, has excellent sensitivity, and can form chemical amplification type positive resist films capable of high precisely and stably forming fine patterns.SOLUTION: The radiation-sensitive composition comprises a sulfonimide compound represented by general formula (1) (wherein, Mis a monovalent onium cation; Y is carbonyl, or the like; Rand Rare each independently a 1 to 12C straight chain or branched alkyl or the like), an acid-dissociating group-containing compound, and a solvent.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供对KrF准分子激光，ArF准分子激光或EUV等有效地使（紫外线）远紫外线敏感的放射线敏感性组合物，同步辐射等X射线和电子束，具有极好的灵敏度，并且可以形成能够高精度且稳定地形成精细图案的化学放大型正性抗蚀剂膜。解决方案：辐射敏感性组合物包含由通式（1）表示的磺酰亚胺化合物（其中，一价鎓阳离子，Y为羰基，等等; Rand Rare各自独立地为1至12C直链或支链烷基等），含酸解离基团的化合物和溶剂。

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