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1. 发明专利

JP2017102267A 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物审中-公开
公开(公告)号：JP2017102267A
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：JP2015235249
申请日：2015-12-01
申请人： JSR株式会社
发明人：木下奈津子 , 生井準人
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , C08F20/16 , G03F7/004
摘要：【課題】LWR性能、解像性、焦点深度、PEB温度依存性及び欠陥抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む第1構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生剤を含有し、上記感放射線性酸発生剤が下記式(I)で表されるアニオンを有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(I)中、R 1 は、有橋環状構造を含む炭素数5〜40の2価の有機基である。R 2 は、単結合又は炭素数1〜20の2価の有機基である。R 3 及びR 4 は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のフッ素化アルキル基である。nは、1〜4の整数である。nが2以上の場合、複数のR 3 は同一でも異なっていてもよく、複数のR 4 は同一でも異なっていてもよい。【選択図】なし

2. 发明专利

JP6959527B2 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び酸拡散制御剤有权
公开(公告)号：JP6959527B2
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：JP2017561573
申请日：2016-12-26
申请人： JSR株式会社
发明人：木下奈津子
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/004

3. 发明专利

JP6561731B2 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物有权
公开(公告)号：JP6561731B2
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：JP2015192244
申请日：2015-09-29
申请人： JSR株式会社
发明人：木下奈津子
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/38 , G03F7/004

4. 发明专利

JPWO2017122528A1 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び酸拡散制御剤审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017122528A1
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：JP2016088799
申请日：2016-12-26
申请人： JSR株式会社
发明人：木下奈津子
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D235/02 , C07D235/18 , C08F220/16 , C08F220/28 , C08F2220/281 , C08F2220/283 , C08F2800/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38
摘要：本発明は、酸解離性基を含む第1構造単位を有する第1重合体と、感放射線性酸発生体と、放射線の照射により分子内で構造が変化して塩形成を行いうる第1化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物である。上記第1化合物は、放射線の照射により塩基性が変化する化合物であることが好ましい。上記第1化合物は、放射線の照射により酸を発生する化合物であることが好ましい。上記第1化合物は下記式(1)で表されることが好ましい。下記式(1)中、Ar 1 は、少なくとも1個の窒素原子を環構成原子として含む置換若しくは非置換の環員数4〜30のヘテロアレーンジイル基である。

5. 发明专利

JP2020008842A 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び重合体組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2020008842A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：JP2019099793
申请日：2019-05-28
申请人： JSR株式会社
发明人：白谷宗大 , 木下奈津子 , 丸山研
IPC分类号： G03F7/20 , C08F220/30 , G03F7/039
摘要：【課題】感度を維持しつつ、欠陥抑制性及びLWR性能に優れる感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び重合体成分の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、フェノール性水酸基を含む第1構造単位及び酸解離性基を含む第2構造単位を有する重合体成分と、感放射線性酸発生体とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、上記重合体成分が下記式(A)を満たすことを特徴とする。下記式(A)中、X1は、示差屈折計で検出される上記重合体成分のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)溶出曲線の全面積に対して累積面積が1%となる保持時間までに溶出された画分に含まれる上記重合体成分を構成する全構造単位に対する第1構造単位の含有割合の値(モル%)である。X2は、上記重合体成分を構成する全構造単位に対する第1構造単位の含有割合の値(モル%)である。【選択図】なし

6. 发明专利

JPWO2017122697A1 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017122697A1
公开(公告)日：2018-12-06
申请号：JP2017000681
申请日：2017-01-11
申请人： JSR株式会社
发明人：木下奈津子 , 錦織克聡 , 古市康太
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , C07C309/14 , C07D295/15 , C07D295/088 , C07D205/04 , C07D309/06 , C07D211/44 , C07D235/08 , G03F7/20 , G03F7/004
CPC分类号： C07C309/69 , C07C2601/02 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07D205/04 , C07D291/02 , C07D291/06 , C07D295/084 , C07D295/088 , C07D295/15 , C07D309/06 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/20
摘要：本発明は、第1酸解離性基を含む第1構造単位を有する第1重合体と、感放射線性酸発生体と、下記式(1)で表される化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、nは、1又は2である。nが1の場合、R 1 は水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。nが2の場合、R 1 は炭素数1〜20の2価の有機基である。R 2 は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。Eは、下記式(i)で表される基である。R 2 とEとは互いに合わせられ、これらが結合する窒素原子と共に構成される環員数3〜20の環構造を表してもよい。下記式(i)中、Xは、炭素数1〜20の2価の有機基である。R 3 は、酸の作用により解離してスルホ基を生じる第2酸解離性基である。

7. 发明专利

JP2017067966A 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物审中-公开
公开(公告)号：JP2017067966A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2015192244
申请日：2015-09-29
申请人： JSR株式会社
发明人：木下奈津子
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/38 , G03F7/004
摘要：【課題】LWR性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、欠陥抑制性及び保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む第1構造単位を有する重合体、感放射線性酸発生体、及び窒素原子及び−COO − を含むアニオンと感放射線性カチオンとを有する酸拡散制御剤を含有し、上記アニオンにおける上記−COO − が炭素原子に結合しており、この炭素原子がさらに二重結合で他の原子と結合している感放射線性樹脂組成物である。上記酸拡散制御剤のアニオンにおいて、上記−COO − と結合している炭素原子が、芳香環又はカルボニル基を構成していることが好ましい。上記酸拡散制御剤は下記式(1)で表されることが好ましい。下記式(1)中、R 1 及びR 2 は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。L 1 は、炭素数1〜40の2価の有機基である。【選択図】なし

8. 发明专利

JP2016177256A 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生体及び化合物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，形成抗蚀剂图案的方法，辐射敏感酸发生器和化合物
公开(公告)号：JP2016177256A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：JP2015239776
申请日：2015-12-08
申请人： JSR株式会社
发明人：木下奈津子 , 大▲崎▼ 仁視
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , C08F20/10 , C07C381/14 , C07C327/60 , C07C309/22 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/004
摘要：【課題】解像性及びLWR性能に優れる感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジストパターン形成方法並びに感放射線性酸発生体及び化合物を提供する。【解決手段】本発明の感放射線性樹脂組成物は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び下記式(1)で表される部分構造を含むアニオンを有する感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、Xは、酸素原子又は硫黄原子である。*は、上記アニオンにおける上記部分構造以外の部分に結合する部位を示す。本発明のレジストパターン形成方法は、レジスト膜を形成する工程、上記レジスト膜を露光する工程、及び上記露光されたレジスト膜を現像する工程を備え、上記レジスト膜を当該感放射線性樹脂組成物により形成するレジストパターン形成方法である。本発明の感放射線性酸発生体は、下記式(1)で表される部分構造を含むアニオンを有する感放射線性酸発生体である。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供分辨率和LWR性能优异的辐射敏感性树脂组合物，使用该组合物形成抗蚀剂图案的方法，辐射敏感性酸产生剂和化合物。解决方案：将辐射敏感性树脂组合物本发明包括具有包含酸解离基团的结构单元的聚合物和具有由下式（1）表示的部分结构的阴离子的辐射敏感性酸产生剂。在式（1）中，X表示氧原子或硫原子; 和*表示除了上述部分结构之外偶联到阴离子中的部分的位点。本发明的形成抗蚀剂图案的方法包括形成抗蚀剂膜的步骤，使抗蚀剂膜曝光的步骤和曝光的抗蚀剂膜的显影步骤，其中抗蚀剂膜由上述辐射 - 敏感树脂组合物。本发明的辐射敏感性酸产生剂具有包含下述式（1）所示的部分结构的阴离子。选择图：无

9. 发明专利

JP2020204765A 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020204765A
公开(公告)日：2020-12-24
申请号：JP2020074996
申请日：2020-04-20
申请人： JSR株式会社
发明人：錦織克聡 , 丸山研 , 笠原一樹 , 古川剛 , 木下奈津子
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/039
摘要：【課題】高感度、良好なLWR性能、かつプロセス余裕度が広い感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】フェノール性水酸基を含む第1構造単位、式(1)で表される基を含む第2構造単位及び酸解離性基を含む第3構造単位を有する重合体と、感放射線性酸発生体と、式(2)の化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法。【選択図】なし

10. 发明专利

JP6720514B2 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6720514B2
公开(公告)日：2020-07-08
申请号：JP2015235249
申请日：2015-12-01
申请人： JSR株式会社
发明人：木下奈津子 , 生井準人
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , C08F20/16 , G03F7/004

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