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1. 发明专利

JP2007242165A Master medium for perpendicular magnetic transfer, perpendicular magnetic transfer method, perpendicular magnetic recording medium and perpendicular magnetic recorder 审中-公开
标题翻译：普通磁性传输的主介质，全磁性传输方法，全磁磁记录介质和普通磁记录仪
公开(公告)号：JP2007242165A
公开(公告)日：2007-09-20
申请号：JP2006064732
申请日：2006-03-09
申请人： Fujifilm Corp , Fujitsu Ltd , 富士フイルム株式会社 , 富士通株式会社
发明人： ICHIKAWA KENJI , USA TOSHIHIRO , NIITSUMA KAZUHIRO , YASUNAGA TADASHI , KURODA SUMIO , MARUYAMA TSUGIHITO
IPC分类号： G11B5/86
CPC分类号： G11B5/865 , B82Y10/00 , G11B5/743 , G11B5/82
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress a phenomenon inherent to perpendicular magnetic recording by ensuring a stable signal C/N ratio over the entire surface of a transfer medium.
SOLUTION: A master medium for perpendicular magnetic transfer is provided in which a plurality of projection-shaped magnetic layer patterns corresponding to information to be transferred to a magnetic recording medium to be transferred are formed on the surface of a disk-shaped substrate. The ratio L/S of width L of the projection-shaped magnetic layer pattern in the circumferential direction thereof to an interval S between the projection-shaped magnetic layer patterns in the circumferential direction thereof is defined as L/S
摘要翻译：要解决的问题：通过确保转印介质的整个表面上的稳定的信号C / N比来抑制垂直磁记录固有的现象。解决方案：提供用于垂直磁转移的主介质，其中在盘状基板的表面上形成有多个与待传送的磁记录介质传送的信息对应的突出形状的磁性层图案。突起状磁性层图案的圆周方向的宽度L与突出形状的磁性层图案的周向的间隔S的比率L / S定义为L / S <1。结果，可以对垂直磁记录介质执行令人满意的磁转移。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP2012185880A Method and system for drawing electron beam, method of manufacturing imprint mold, and method of manufacturing magnetic disk medium 审中-公开
标题翻译：用于绘制电子束的方法和系统，制造印模的方法和制造磁盘的方法
公开(公告)号：JP2012185880A
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：JP2011047691
申请日：2011-03-04
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： CHAI SATOSHI , IZAWA SEIICHI , USA TOSHIHIRO
IPC分类号： G11B5/84 , G03F7/20 , G11B5/855 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the accuracy of a drawing position in the circumferential direction of each pattern when a fine pattern formed by alternately disposing a groove pattern and a servo pattern in the circumferential direction is drawn by electron beam scanning.SOLUTION: When part of data signals of a drawing data signal group are left undrawn, which is for drawing the groove pattern in a predetermined area just prior to start of drawing the servo pattern in a predetermined area in drawing the pattern in a master disk by scanning electron beams while rotating a rotary stage, the part of the data signals are discarded and the pattern drawing based on the drawing data signal group in a predetermined area is started.
摘要翻译：要解决的问题：当通过电子束扫描来绘制通过在圆周方向上交替地设置凹槽图案和伺服图案而形成的精细图案时，提高每个图案的圆周方向上的绘图位置的精度。解决方案：当绘图数据信号组的数据信号的一部分未被拉出时，其用于在将图形绘制之前的预定区域中绘制伺服图案之前的预定区域中绘制凹槽图案在旋转旋转台的同时扫描电子束的主盘，部分数据信号被丢弃，并且基于在预定区域中的绘制数据信号组的图案绘制开始。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2011186418A Chemical amplification resist composition, and mold preparation method and resist film using the same 有权
标题翻译：化学放大抗蚀剂组合物，以及使用其的模具制备方法和耐蚀膜
公开(公告)号：JP2011186418A
公开(公告)日：2011-09-22
申请号：JP2010142062
申请日：2010-06-22
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： FUJIMORI TORU , SHIRAKAWA KOJI , USA TOSHIHIRO , SUGIYAMA KENJI , ITO TAKAYUKI , TSUBAKI HIDEAKI , NISHIMAKI KATSUHIRO , HIRANO SHUJI , TAKAHASHI HIDETOMO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/10 , G03F7/004 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： C08F20/50 , B29C33/38 , B29C2033/426 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0017 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chemical amplification resist composition to be used for the preparation of a mold, capable of forming a pattern excellent not only in sensitivity and resolution, but also in the line width roughness (LWR) performance, in preparation of a mold. SOLUTION: The chemical amplification resist composition contains a resin which is decomposed by an action of a specified acid to increase the solubility with an alkali developing solution, and a mold preparation method and a resist film each using the composition are also disclosed. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种用于制备模具的化学增幅抗蚀剂组合物，其能够形成不仅在灵敏度和分辨率以及线宽粗糙度（LWR）性能方面都优异的图案，在准备模具。解决方案：化学增幅抗蚀剂组合物含有通过特定酸的作用分解以提高与碱性显影液的溶解度的树脂，并且还公开了使用该组合物的模具制备方法和抗蚀剂膜。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2009175402A Electron beam drawing method, fine pattern drawing system and concavo-convex pattern carrier 审中-公开
标题翻译：电子束绘图方法，精细图案绘图系统和CONCAVO-CONVEX图案载体
公开(公告)号：JP2009175402A
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：JP2008013532
申请日：2008-01-24
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KOMATSU KAZUNORI , USA TOSHIHIRO
IPC分类号： G03F7/20 , G01Q10/04 , G11B5/65 , G11B5/84 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G11B5/855 , G11B7/261 , H01J37/3056 , H01J37/3174 , H01J2237/31735
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To draw a servo pattern and a groove pattern in a fine pattern of a discrete track media with a given dose at a high speed with high accuracy. SOLUTION: A fine pattern including a servo pattern 12 comprising servo elements 13 and a groove pattern 15 separating adjacent data tracks in a groove state, is drawn by scanning an electron beam EB on a substrate 10 coated with a resist 11. The drawing process includes: drawing the servo pattern 12 by scanning the electron beam to fill servo elements 13 of a plurality of tracks each by each by deflected in X-Y directions and reciprocal oscillation in a radial direction, while the substrate is rotated in one direction; followed by configuring the groove pattern 15 as an arrangement of a plurality of groove elements 16 prepared by dividing the pattern at a predetermined angle, and drawing the groove pattern 15 by greatly deflecting the electron beam in a circumference direction so as to sequentially scan the groove elements 16 of a plurality of tracks. Thus, a plurality of tracks are drawn in a single rotation of the substrate. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：以高精度高速给出给定剂量的离散轨道介质的精细图案的伺服图案和凹槽图案。解决方案：通过在涂覆有抗蚀剂11的基板10上扫描电子束EB来描绘包括伺服模式12的伺服模式12的精细图案，该伺服模式12包括沟槽状态的相邻数据磁道分离的伺服单元13和沟槽图案15。绘制过程包括：通过扫描电子束来绘制伺服图案12，以在基板沿一个方向旋转的同时在XY方向上偏转并在径向方向上往复振动地填充多个轨道的伺服单元13; 然后将凹槽图案15配置为通过以预定角度分割图案而制备的多个凹槽元件16的布置，并且通过在圆周方向上大大偏转电子束来绘制凹槽图案15，以便顺序扫描凹槽多个轨道的元件16。因此，在基板的单次旋转中画出多个轨迹。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2009163850A Electron beam drawing method, minute pattern drawing system, and concavo-convex pattern carrier 审中-公开
标题翻译：电子束绘图方法，分钟图形绘图系统和CONCAVO-CONVEX图案载体
公开(公告)号：JP2009163850A
公开(公告)日：2009-07-23
申请号：JP2008002736
申请日：2008-01-10
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： USA TOSHIHIRO , KOMATSU KAZUNORI
IPC分类号： G11B5/84 , G03F7/20 , G11B5/65 , G11B5/82 , H01J37/305 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately draw a servo pattern and a groove pattern in a minute pattern of a discrete track medium at high speed with a fixed exposure. SOLUTION: When a substrate 10, onto which a resist 11 is applied, is scanned with an electron beam EB and drawing of the minute pattern for forming in a discrete track medium provided with the servo pattern 12 by a servo element 13 and the groove pattern 15 separating adjacent data track in a groove shape is performed while a rotation stage 41 is rotated, the speeds of rotation of the substrate 10 are changed between drawing of the servo pattern 12 and drawing of the groove pattern 15 in the same track, and a second speed of rotation during drawing of the groove pattern is made higher than a first speed of rotation during drawing of the servo pattern. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：以固定曝光高速精确地在离散轨道介质的微小图案中精确绘制伺服图案和凹槽图案。解决方案：当使用电子束EB扫描其上施加有抗蚀剂11的基板10并且通过伺服元件13在具有伺服图案12的离散轨道介质中绘制用于形成的微小图案时，以及在旋转台41旋转的同时执行将相邻的数据轨道分隔成槽形状的槽图案15，在相同的轨道中在伺服图案12的绘制和凹槽图案15的拉制之间改变基板10的旋转速度并且在绘制凹槽图案期间的第二旋转速度被制成高于在绘制伺服图案期间的第一旋转速度。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2009134788A Electron beam drawing method, fine pattern drawing system, uneven pattern carrier, and magnetic disk medium 审中-公开
标题翻译：电子束绘图方法，精细图案绘制系统，未图案图案载体和磁盘介质
公开(公告)号：JP2009134788A
公开(公告)日：2009-06-18
申请号：JP2007308366
申请日：2007-11-29
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KOMATSU KAZUNORI , USA TOSHIHIRO
IPC分类号： G11B5/84 , G01Q10/04 , G03F7/20 , G11B5/65 , G11B5/82 , G11B5/855 , G11B5/86
CPC分类号： G11B5/82 , B82Y10/00 , G11B5/743 , G11B5/855 , G11B5/865
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To allow drawing at high accuracy and at a high-speed with a constant amount of radiation rays over the entire substrate by simply and precisely performing the control in response to a radial position in the drawing of a fine pattern to be formed on a magnetic disk medium at inner and outer circumferences. SOLUTION: When performing the drawing so that the shape of an element 13 of the fine pattern 12 is completely filled by scanning an electron beam EB on the substrate 10 applied with a resist 11, the rotational speed of a rotation stage 41 is controlled so as to be fast in the drawing on an inner circumferential track and slow in the drawing on an outer circumferential track in inversely proportional to the radius of the drawing position. A drawing control signal of the electron beam is generated based on a drawing clock signal generated in association with the rotation of the rotation stage 41, and the number of clocks of the drawing clock signal in one rotation of the rotation stage is maintained at a constant value for each track irrespective of the radius of the drawing position. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：通过简单和精确地执行响应于图中的径向位置的精细的控制，允许以高精度和高速绘制在整个基板上的恒定量的辐射线在内周和外周在磁盘介质上形成的图案。解决方案：当通过在施加有抗蚀剂11的基板10上扫描电子束EB来完成精细图案12的元件13的形状的完成填充时，旋转台41的旋转速度为被控制成在内周轨道上在图中快速，并且在外周轨迹上的图中减速，与拉伸位置的半径成反比。基于与旋转台41的旋转相关联地产生的绘制时钟信号产生电子束的绘图控制信号，并且旋转台的一次旋转中的绘制时钟信号的时钟数保持恒定不管绘制位置的半径如何，每个轨迹的值。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2009026438A Imprinting mold structure, manufacturing method of magnetic recording medium and magnetic recording medium 审中-公开
标题翻译：注塑模具结构，磁记录介质和磁记录介质的制造方法
公开(公告)号：JP2009026438A
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：JP2008159991
申请日：2008-06-19
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ICHIKAWA KENJI , USA TOSHIHIRO
IPC分类号： G11B5/855 , B81C99/00 , H01L21/027
CPC分类号： G11B5/82 , G11B5/855
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic recording medium wherein fluidity of resin by an imprinting process and workability after etching of a magnetic recording medium can be made uniform.
SOLUTION: In an imprinting mold structure provided with a first rugged pattern corresponding to a servo region and a second rugged pattern corresponding to a data region, the ratio L/S of a width L in the circumferential direction of a projecting part corresponding to a non-magnetic part formed in a preamble region to a width S in the circumferential direction of a recessed part corresponding to a magnetic part formed in the preamble region in the first rugged pattern is different according to the distance R between a center of the imprinting mold structure and a center of a pattern unit constituted of the projecting part and the recessed part in the first rugged pattern.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种磁记录介质，其中通过印刷工艺的树脂流动性和蚀刻磁记录介质后的可加工性可以均匀。解决方案：在具有对应于伺服区域的第一粗糙图案和对应于数据区域的第二凹凸图案的压印模具结构中，突出部分的圆周方向上的宽度L的比率L / S对应形成在前导区域中的与形成在第一粗糙图案中的前导区域中的磁性部分相对应的凹部的圆周方向上的宽度S的非磁性部分根据第一凹凸图案的中心之间的距离R而不同压印模具结构和由第一凹凸图案中的突出部和凹部构成的图案单元的中心。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2008064957A Electron beam drawing apparatus and method for compensating deviation of electron beam 有权
标题翻译：电子束绘图装置和用于补偿电子束偏移的方法
公开(公告)号：JP2008064957A
公开(公告)日：2008-03-21
申请号：JP2006241466
申请日：2006-09-06
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： USA TOSHIHIRO , KOMATSU KAZUNORI
IPC分类号： G03F7/20 , G11B5/84 , G11B5/86 , H01J37/147 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/1472 , H01J37/3045 , H01J37/3174 , H01J2237/30461 , Y10S430/143
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam drawing apparatus capable of compensating the deviation of a drawing position by an electron beam caused by a mechanical error, misalignment of an optical axis, optical distortion or the like, and performing a highly precise drawing. SOLUTION: In the electron beam drawing apparatus, an output signal from a deflection amplifier 46Y and a signal, corresponding to an angle deviation from a deflection amplifier 46X, are outputted to change the deflection direction of an electron beam (to rotate), in order to compensate for the angle deviation between a linear movement direction of the rotation stage and the deflection direction of an actual electron beam, when the electron beam is deflected by a first command signal DO(Y) from a first commanding device 42 that deflects the electron beam. An electron beam is made to scan so as to produce a solid image of an element constituting a desired pattern. A second command signal MO(X), MO(Y) from the first commanding device 42 is converted into a second command signal MO(X)', MO(Y)' by a conversion table of a compensation circuit 52 and makes the commanded position of the electron beam coincide with the actual scanning position. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种电子束描绘装置，其能够通过由机械误差，光轴的未对准，光学变形等引起的电子束来补偿绘图位置的偏差，并且执行高度的精确绘图。解决方案：在电子束绘制装置中，输出来自偏转放大器46Y的输出信号和与偏转放大器46X的角度偏差相对应的信号，以改变电子束的偏转方向（旋转）为了补偿当电子束被第一命令信号DO（Y）从第一命令装置42偏转时，旋转台的线性运动方向与实际电子束的偏转方向之间的角度偏差，偏转电子束。使电子束扫描，以产生构成所需图案的元件的实心图像。来自第一命令装置42的第二命令信号MO（X），MO（Y）通过补偿电路52的转换表转换为第二命令信号MO（X）'，MO（Y）'，并使命令电子束的位置与实际扫描位置一致。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2014198353A パターン配列用基板およびパターン配列板の製造方法审中-公开
标题翻译：用于形成花岗岩板的基板，以及用于生产图案的板材的方法
公开(公告)号：JP2014198353A
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：JP2013074156
申请日：2013-03-29
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： ICHIKAWA KENJI , USA TOSHIHIRO
IPC分类号： B82B1/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , H01L21/027
摘要：【課題】長距離規則性を保ちながら、基板上における親和点の密度を低くして、パターン配列板を効率的に製造する。【解決手段】ミクロドメインを形成する第1材料と親和的な親和点30を一例として次のように配列する。第1方向に2dのピッチで親和点30が繰り返し配置される第1ラインL1と、第1方向に2dのピッチで親和点30が繰り返し配置されるとともに第1ラインL1に対しd?√3離れて平行に配置され、第1ラインL1を形成する各親和点30に対し第1方向に対し60?をなす第2方向に2d離れた位置に親和点30が配置される第2ラインL2と、からなるバンド状配列領域BAを複数配列する。複数のバンド状配列領域BAは、5d/2?√3以上のピッチで互いに平行に、かつ、各親和点30がピッチdの連続した三角格子の格子点上に位置するように配列する。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：有效地制造图案阵列板，使得基板上的亲和点的密度降低，同时保持长距离的规则性。解决方案：对于形成微区域的第一材料具有亲和力的亲和点30 如下列举了一个例子。排列多个带状阵列区域BA。每个带状阵列区域BA包括：第一线L1，其上以第二方向以2d的间距重复设置亲和点30; 以及在第一方向上以2d的间距重复设置相关性点30的第二线L2，并且与第一线L1平行设置，同时留下d×√3之间的间隔，使得亲和点 30在与第一线路L1上的亲和点30相对的第二方向上的距离处设置在第二线路L2上，第二方向与第一方向形成60°的角度。相邻的带状阵列区域BA以等于或大于5d / 2×√3的间距彼此平行排列，使得亲和品位30位于相互间隔开的连续三角形格子的每个格点处 d。

10. 发明专利

JP2011048864A Electron-beam lithography method and mold 审中-公开
标题翻译：电子束光刻法和模具
公开(公告)号：JP2011048864A
公开(公告)日：2011-03-10
申请号：JP2009193865
申请日：2009-08-25
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： USA TOSHIHIRO , CHAI SATOSHI , TAKANO YUKIO
IPC分类号： G11B5/84 , G03F7/20 , G11B5/855
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0017 , H01J2237/30477 , H01J2237/3175
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To precisely draw various kinds of concave and convex patterns different in pattern size, by ensuring precision of the drawing positions of the respective patterns. SOLUTION: When micropatterns to be formed on the recording medium of a DTM or BPM are drawn on the master 10 of a mold, to which a resist 11 is applied, by scanning the master with electron beams EB using an electron-beam lithography apparatus, at least two micropatterns among first concave and convex patterns made of servo patterns 12 for a medium and groove patterns 15 between data trucks, second concave and convex patterns made of annular positioning marks 17 and product identification marks 19 for traceability which are annularly pattern-formed along the circumference, and third concave and convex patterns made of point-shaped positioning marks 18 in transfer are drawn with the electron beams continuously on one master within an identical vacuum chamber 43. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：通过确保各图案的绘制位置的精度，精确地绘制图案尺寸不同的各种凹凸图案。解决方案：当要形成在DTM或BPM的记录介质上的微图案被绘制在模具的主体10上时，通过用电子束EB扫描主体，使用电子束光刻设备，在由数字卡车之间的介质和凹槽图案15的伺服图案12构成的第一凹凸图案和凸形图案中的至少两个微图案，环形定位标记17制成的第二凹凸图案和用于可追溯性的产品识别标记19，沿着圆周形成图案，并且在相同的真空室43内，电子束连续地在一个母板上被拉伸而由转印中的点状定位标记18制成的第三凹凸图案。（C）2011年， JPO＆INPIT

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