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    • 1. 发明专利
    • セラミック体の製造方法
    • JP2018199287A
    • 2018-12-20
    • JP2017105559
    • 2017-05-29
    • DIC株式会社
    • 宍倉 朋子生熊 崇人加藤 愼治
    • B33Y10/00B28B1/30
    • 【課題】本発明が解決しようとする課題は、高純度なセラミック体の製造方法を提供すること、及び、ベーマイトゾルやバインダー成分を必須とすることなくかつ乾燥工程を必須とすることもなく、前記セラミック体の製造方法に適用可能である高純度で高濃度なセラミック粒子分散体を提供することにある。 【解決手段】溶媒(A)と反応性官能基で修飾されたセラミック粒子(B)とを含有するインクX液と、前記反応性官能基で修飾されたセラミック粒子(B)と架橋反応を起こす化合物(C)を必須成分とするインクY液を、同時に又は別々に、支持体に層毎又は一度に供給し混合することにより硬化させる工程(I)を含み、前記溶媒(A)が、20℃における蒸気圧が1500Pa以下であり、かつ、前記セラミック粒子(B)又は前記化合物(C)のいずれとも反応性を有しない溶媒である、セラミック体の製造方法により前記課題を解決する。 【選択図】なし