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1. 实用新型

JP3202848U 塗布装置有权
标题翻译：的涂布设备
公开(公告)号：JP3202848U
公开(公告)日：2016-02-25
申请号：JP2015006318
申请日：2015-12-14
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：盧俊安 , 蔡苑鈴 , 陳炯雄 , 余俊璋 , 楊錦添
IPC分类号： B05C9/14 , B05C9/12
CPC分类号： G02F1/167 , C23C24/08
摘要：【課題】塗布装置の電場発生器により提供される電場による静電引力によって、スラリー又はインクが基板上に堆積される塗布装置を提供する。【解決手段】本考案の塗布装置10は、塗布器100及び電場発生器130を含む。塗布器100は、スラリー又はインクSLを収容し、出口102を有する。スラリー又はインクSLは、出口102を通って基板110上に塗布される。基板110は、出口102に隣接して配置され、塗布器100の出口102からのスラリー又はインクSLを載せ、湿潤フィルムWFを形成する。電場発生器130は、基板110の下に配置され、電場を提供し、従って、湿潤フィルムWFが電場の引力によって基板110上に緊密に堆積する。【選択図】図1
摘要翻译：阿通过静电引力通过由涂布装置的场发生器提供的电场，以提供浆料或油墨沉积在基材上的涂敷装置。本发明的涂布装置10包括涂抹器100和一个电场发生器130。施用器100容纳浆料或油墨SL，出口102。浆料或油墨SL通过出口102施加到衬底110。基底110被设置成邻近出口102，放置在浆料或油墨SL从施加器100的出口102，以形成湿膜WF。场发生器130位于基板110的下方，提供电场，因此，湿膜WF密切通过电场的吸引力沉积到衬底110上。点域1

2. 发明专利

JP6615920B2 誘電体セラミック組成物有权
公开(公告)号：JP6615920B2
公开(公告)日：2019-12-04
申请号：JP2018019030
申请日：2018-02-06
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：盧俊安 , 林鴻欽 , 陳炯雄 , 蔡苑鈴
IPC分类号： C04B35/443 , H01B3/12 , C04B35/495

3. 发明专利

JP2018145086A 誘電体セラミック組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2018145086A
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：JP2018019030
申请日：2018-02-06
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：盧俊安 , 林鴻欽 , 陳炯雄 , 蔡苑鈴
IPC分类号： C04B35/443 , H01B3/12 , C04B35/495
CPC分类号： C04B35/495 , C04B35/14 , C04B35/443 , C04B35/462 , C04B35/465 , C04B35/6261 , C04B35/6262 , C04B35/6264 , C04B35/64 , C04B2235/3206 , C04B2235/3217 , C04B2235/3222 , C04B2235/3234 , C04B2235/3236 , C04B2235/3239 , C04B2235/3251 , C04B2235/3255 , C04B2235/3284 , C04B2235/3418 , C04B2235/3445 , C04B2235/36 , C04B2235/6567 , C04B2235/72 , C04B2235/76 , C04B2235/762 , C04B2235/766 , C04B2235/767 , C04B2235/80
摘要：【課題】低誘電率かつマイクロ波周波数における誘電損失が小さい誘電体セラミック組成物を提供する。【解決手段】三方晶系二重三角ピラミッド型(trigonal ditrigonal pyramidal)結晶構造を有する第1の無機成分と、ヘクスオクタヘドロン型(hexoctahedral)結晶構造を有する第2の無機成分とを含み、前記三方晶系二重三角ピラミッド型結晶構造および前記ヘクスオクタヘドロン型結晶構造の固溶体部分が、前記第1の無機成分と前記第2の無機成分との間に形成されている。【選択図】図1

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