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1. 发明专利

JP2014122418A Substrate with multilayer coating film and production method thereof 有权
标题翻译：具有多层涂膜的基板及其制造方法
公开(公告)号：JP2014122418A
公开(公告)日：2014-07-03
申请号：JP2013236213
申请日：2013-11-14
申请人： Gunma Prefecture , 群馬県 , Riverstone Kogyo Kk , リバストン工業株式会社
发明人： YAMAMOTO RYOICHI , ISHIDA KAZUNARI , KAWAI TAKASHI , ISHIKAWA TETSUYA , ISHIKAWA KOICHI
IPC分类号： C23C4/12 , B32B18/00 , C23C4/10 , H01L21/3065
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of a substrate with a multilayer coating film capable of forming a coating film excellent in plasma resistance without generating a crack on a brittle substrate.SOLUTION: A production method of a substrate with a multilayer coating film includes a first coating film formation step for forming a first coating film on the surface of a brittle substrate by performing plasma spray by using first base powder mainly composed of ceramic particles, and a second coating film formation step for forming a second coating film on the surface of the first coating film by performing flame spray by using slurry formed by dispersing second base powder mainly composed of ceramic particles into an organic solvent.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有能够形成耐等离子体性优异的涂膜的多层涂膜的基板的制造方法，而不会在脆性基板上产生裂纹。本发明提供一种具有多层涂膜的基板的制造方法包括第一涂膜形成步骤，用于通过使用主要由陶瓷颗粒组成的第一基础粉末进行等离子体喷涂，在脆性基材的表面上形成第一涂膜;以及第二涂膜形成步骤，用于在第一涂膜上形成第二涂膜通过使用通过将主要由陶瓷颗粒构成的第二基础粉末分散在有机溶剂中而形成的浆料进行火焰喷涂来形成第一涂膜的表面。

2. 发明专利

JP2014198898A 皮膜付き基材およびその製造方法有权
标题翻译：涂层基材及其生产方法
公开(公告)号：JP2014198898A
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：JP2014036310
申请日：2014-02-27
申请人：群馬県 , Gunma Prefecture , リバストン工業株式会社 , Riverstone Kogyo Kk
发明人： YAMAMOTO RYOICHI , ISHIDA KAZUNARI , KAWAI TAKASHI , ISHIKAWA TETSUYA , ISHIKAWA KOICHI
IPC分类号： C23C4/10 , C23C4/12
摘要：【課題】耐電圧が高く(概ね100MV/m以上)、かつ、熱伝導率が高い(概ね50W/mK以上)金属窒化物の皮膜を形成することができる皮膜付き基材の製造方法の提供。【解決手段】昇華性を備え、溶融相を持たない金属窒化物の粒子を主成分とする原料粉末を、有機溶媒に分散させてスラリーを得るスラリー調製工程と、溶射装置から噴出するフレーム中における前記原料粉末の温度が前記金属窒化物の昇華温度よりも低く、かつ、前記フレーム中における前記原料粉末の速度が500〜1500m/sとなるように、前記フレームへ前記スラリーを供給してフレーム溶射し、基材の表面に皮膜を形成する皮膜形成工程と、を備える、皮膜付き基材の製造方法。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够形成具有约100MV / m以上的高耐电压和约50W / mK的高导热性的金属氮化物的涂层的涂布用基板的制造方法或更高。解决方案：提供涂布基材的方法包括：浆料制备步骤，将具有升华性的原料粉末分散在有机溶剂中的基于没有熔融态的金属氮化物的颗粒，以获得浆料和膜在将火焰喷射装置喷射的火焰中的原料粉末的温度低于金属氮化物的升华温度，并且火焰中的原料粉末的速度为500℃的条件下将浆料供给到火焰的形成步骤 -1,500m / s或更高，以便进行火焰喷涂，从而在基材的表面上形成涂层。

3. 发明专利

JP2014156622A Thin film formation method and thin film formation apparatus by atmospheric pressure induction coupling plasma 审中-公开
标题翻译：大气压感应耦合等离子体薄膜形成方法和薄膜形成装置
公开(公告)号：JP2014156622A
公开(公告)日：2014-08-28
申请号：JP2013027158
申请日：2013-02-14
申请人： Riverbell Kk , リバーベル株式会社 , Gunma Prefecture , 群馬県
发明人： KANEGAE MASAMI , FUKUOKA DAISUKE , WADA YOSHINARI , YAMAMOTO RYOICHI , MIYASHITA KIYOSHI , TOKUDA KEIJI , KAWAI TAKASHI , ONOE KAORU
IPC分类号： C23C16/513
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film formation method and an apparatus therefor capable of forming various thin films on a product to be processed by utilizing atmosphere pressure induction coupling plasma.SOLUTION: Plasma gas 31 is introduced into a plasma generation space 40, and atmosphere pressure induction coupling plasma 10 is generated by plasma generation means 5. Mist 64 of a solution containing a reaction material 61 is generated by mist generation means 2, and the mist is introduced into the plasma generation space together with mist transfer gas 32. While controlling an oxidative atmosphere or a reduction atmosphere in the atmosphere pressure induction coupling plasma by controlling high-frequency power imparted to the plasma generation means, a thin film containing at least a partial component of the reaction material is formed on a product 8 to be processed.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过利用气压感应耦合等离子体在待处理产品上形成各种薄膜的薄膜形成方法及其装置。解决方案：将等离子体气体31引入等离子体产生空间40中，并且通过等离子体产生装置5产生大气压感应耦合等离子体10.由雾产生装置2产生含有反应材料61的溶液的雾64，并且雾与雾转移气体32一起引入等离子体产生空间。通过控制赋予等离子体产生装置的高频功率来控制大气压力感应耦合等离子体中的氧化气氛或还原气氛，在产品8上形成含有反应材料的至少一部分成分的薄膜，处理。

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