专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2015232165A ナノ構造薄膜の製造方法审中-公开
标题翻译：纳米结构薄膜的生产方法
公开(公告)号：JP2015232165A
公开(公告)日：2015-12-24
申请号：JP2014119719
申请日：2014-06-10
申请人：高知県公立大学法人 , 積水化学工業株式会社
发明人：村上淳之介 , 山本直樹 , 森澤桐彦
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/0224 , C23C14/34
CPC分类号： Y02P70/521
摘要：【課題】ナノサイズ突起物を広い領域に安定的に形成できるナノ構造薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】スパッタリングにより基板上にナノサイズ突起物を形成するナノ構造薄膜の製造方法であって、前記基板とスパッタリングターゲットとを60mm以上離した状態でスパッタリングを行うことにより、ナノサイズ突起物を広い領域に安定的に形成する、ナノ構造薄膜の製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供能够在宽范围内稳定地形成纳米尺寸的投影的纳米结构薄膜的制造方法。解决方案：在用于形成纳米尺寸投影的纳米结构薄膜的制造方法中，通过溅射形成的基板，通过在基板与溅射靶分离60mm的状态下进行溅射，在宽的区域中稳定地形成纳米尺寸的突起。

2. 发明专利

JP2016046248A 透明導電膜审中-公开
标题翻译：透明导电膜
公开(公告)号：JP2016046248A
公开(公告)日：2016-04-04
申请号：JP2015155403
申请日：2015-08-05
申请人：積水化学工業株式会社
发明人：山本直樹 , 森澤桐彦 , 村上淳之介 , 久保晃一
IPC分类号： H01L31/0224 , H01B5/14
摘要：【課題】透明性にも導電性にも優れ、電子機器用途に好適に用いられる透明導電膜を提供する。【解決手段】基板2と、基板2の表面を被覆率20〜70%で被覆する、酸化インジウムスズナノワイヤからなる導電層3とを有し、全光線透過率が90%以上、表面抵抗が250Ω/sq以下である透明導電膜1。酸化インジウムスズナノワイヤの平均長さが200nm以上であり、酸化インジウムスズナノワイヤの形状が、テーパー状の先端に直径1〜500nmの球を有する形状であり、酸化インジウムスズナノワイヤのSnO 2 含有量が3.0〜50重量%、好ましくは、7.0〜35重量%である透明導電膜1。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供透明性和导电性优异的透明导电膜，适用于电子器件应用。解决方案：提供一种透明导电膜1，其具有基底2和由铟锡氧化物纳米线涂层组成的导电层3 基板2的表面的涂布率为20〜70％，总透光率为90％以上，表面电阻为250Ω/ sq以下。提供了一种透明导电膜1，其具有200nm或更大的氧化铟锡纳米线的平均长度，在作为铟锡氧化物纳米线的形状的锥形尖端上具有直径为1至500nm的球的形状，以及铟锡氧化物纳米线的SnO含量为3.0〜50重量％，优选为7.0〜35重量％。选择的图：图1

3. 发明专利

JP5941452B2 ナノ構造薄膜、ナノ構造透明電極、及び、ナノ構造薄膜の製造方法有权
标题翻译：纳米结构薄膜，纳米结构的透明电极，和纳米结构薄膜的制造方法
公开(公告)号：JP5941452B2
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：JP2013240207
申请日：2013-11-20
申请人：積水化学工業株式会社
发明人：山本直樹 , 森澤桐彦 , 村上淳之介 , 中谷康弘
IPC分类号： H01L31/18 , C23C14/08
CPC分类号： Y02E10/50 , Y02P70/521

4. 发明专利

JP2016048367A 赤外線カットフィルタ及び赤外線カットフィルタの製造方法审中-公开
标题翻译：红外切割过滤器及其制造方法
公开(公告)号：JP2016048367A
公开(公告)日：2016-04-07
申请号：JP2015155404
申请日：2015-08-05
申请人：積水化学工業株式会社
发明人：山本直樹 , 森澤桐彦 , 村上淳之介 , 中谷康弘
IPC分类号： C23C14/08 , G02B5/22
摘要：【課題】近赤外線から遠赤外線までの幅広い波長域において優れた赤外線カット性能を有する赤外線カットフィルタを提供する。また、該赤外線カットフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】基板上に形成された下地層と、前記下地層に接する、前記下地層と同素材からなるナノサイズ突起物とを有し、前記ナノサイズ突起物は、長さが90nm〜150μmである赤外線カットフィルタ。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种红外截止滤波器，其在近红外到远红外的宽波长范围内提供优异的红外阻挡能力，并提供其制造方法。解决方案：红外截止滤光器包括形成的基底层在衬底上，以及与基底层接触并由与基底层相同的材料制成的纳米尺寸的突起，纳米尺寸的突起具有90-150μm的长度。选择图：无

5. 发明专利

JP6581425B2 透明導電膜有权
公开(公告)号：JP6581425B2
公开(公告)日：2019-09-25
申请号：JP2015155403
申请日：2015-08-05
申请人：積水化学工業株式会社
发明人：山本直樹 , 森澤桐彦 , 村上淳之介 , 久保晃一
IPC分类号： H01L31/0224 , H01B5/14

6. 发明专利

JP6568424B2 赤外線カットフィルタ及び赤外線カットフィルタの製造方法有权
公开(公告)号：JP6568424B2
公开(公告)日：2019-08-28
申请号：JP2015155404
申请日：2015-08-05
申请人：積水化学工業株式会社
发明人：山本直樹 , 森澤桐彦 , 村上淳之介 , 中谷康弘
IPC分类号： C23C14/08 , G02B5/22

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式