会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 7. 发明专利
    • イオン液体修飾基板
    • JP2018181784A
    • 2018-11-15
    • JP2017084167
    • 2017-04-21
    • 国立大学法人 名古屋工業大学
    • 猪股 智彦小澤 智宏北川 竜也増田 秀樹
    • H01M4/02H01M4/60
    • 【課題】 本発明の課題は上記のような先願のイオン液体を用いた外来化合物の固定化方法の問題を解決し、様々な外来性分子を基板表面に漏出することなく固定化し、イオン液体により外来性分子を安定化、および活性化することが可能なイオン液体修飾基板を提供することである。 【解決手段】 基板上に修飾するイオン液体のサイズや性質を厳密に規定することによって、基板上に構築される空間を外来性分子の安定化や反応性の向上を可能な反応場とするイオン液体修飾基板を提供する。化学式[Z-R n -X] + [A] − で表されるイオン液体において、[Z-R n -X] + は、一般式(1)〜(10)で示されることを特徴とするイオン液体が修飾された基板であり、基板上に外来性分子を固定可能な空間を提供することが可能である。また外来性分子の大きさや性質に合わせて最適な反応場を提供することが可能である。固定化された外来性分子は安定化や反応性の向上を示す。 【選択図】図2