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    • 7. 发明专利
    • 磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法
    • 铝合金基片和磁盘及其制造方法
    • JP2017031507A
    • 2017-02-09
    • JP2016143017
    • 2016-07-21
    • 株式会社UACJ古河電気工業株式会社
    • 北脇高太郎村田拓哉日比野旭北村直紀太田裕己高橋英希森高志
    • C22C1/02C22F1/047B22D21/04B22D11/00G11B5/73G11B5/84C22C21/06
    • 【課題】めっき表面の平滑性及び強度に優れる磁気ディスク用アルミニウム合金基板を提供する。 【解決手段】Mg:4.5〜10.0mass(以下、%と記す)%、Be:0.00001〜0.00200%、Cu:0.003〜0.150%、Zn:0.05〜0.60%、Cr:0.010〜0.300%、Si:0.060%以下、Fe:0.060%以下を含有し、残部Al及び不可避的不純物からなるアルミニウム合金からなり、Mg系酸化物の含有量が50ppm以下であり、めっき前処理を施す前において、グロー放電発光分析装置による表面深さ方向におけるBeの最大発光強度を(I Be )とし、アルミニウム合金の母材内部におけるBeの平均発光強度を(I bulk )とし、上記Be含有量を(C Be )%として、(I Be /I bulk )×(C Be )≦0.1000%であることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法。 【選択図】図1
    • 对于具有镀覆表面的平滑性优异且强度磁盘提供的铝合金基板。 加入Mg:4.5〜10.0mass(下文中,被称为%)%,BE:0.00001〜0.00200%以下,Cu:0.003〜0.150%以下,Zn:0.05〜0.60%以下,Cr:0.010〜0.300%以下,Si:0.060 %以下,铁:含0.060%或更少,铝合金和余量的Al及不可避免的杂质,Mg系氧化物的含量在50ppm以下,进行预镀覆处理前,辉光放电发光分光分析 的最大发射强度是由设备和(IBE),在基材和(Ibulk)内的铝合金的平均发光强度的面深度方向上,随着是内容(CBE)%,(IBE / Ibulk)×(CBE)铝合金基体和一种磁盘及其制造方法,其特征在于一个≦0.1000%。 点域1