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1. 发明专利

JP2018049985A 基板処理装置および基板処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018049985A
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：JP2016185657
申请日：2016-09-23
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：三浦丈苗
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306
摘要：【課題】構成要素を移動させる機構の増加を抑制しつつ、複数種類の密閉空間を形成する。【解決手段】基板処理装置1では、第1カップ部161は、基板9の周囲に形成される環状開口81の径方向外側に全周に亘って位置し、回転する基板9から飛散する処理液を受ける。カップ部移動機構162は、第1カップ部161を、環状開口81の径方向外側の第1位置と、第1位置よりも下方の第2位置との間で上下方向に移動する。第2カップ部164は、第1カップ部161の上側に配置され、第1カップ部161が第2位置に位置する状態で環状開口81の径方向外側に全周に亘って位置し、回転する基板9から飛散する処理液を受ける。第2カップ部164は、チャンバ開閉機構131またはカップ部移動機構162により上下方向に移動する。これにより、基板処理装置1の構成要素を移動させる機構の増加を抑制しつつ、複数種類の密閉空間を形成することができる。【選択図】図4

2. 发明专利

JP6220503B2 基板処理装置及び基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6220503B2
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：JP2012157399
申请日：2012-07-13
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：樋口鮎美 , 三浦丈苗 , 武明励
IPC分类号： H01L21/304

3. 发明专利

JP6238741B2 基板処理方法および基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6238741B2
公开(公告)日：2017-11-29
申请号：JP2013271592
申请日：2013-12-27
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：小林健司 , 泉本賢治 , 岩▲崎▼ 晃久 , 西東和英 , 三浦丈苗
IPC分类号： B08B3/02 , H01L21/304

4. 发明专利

JP6352895B2 細胞剥離装置および細胞剥離方法有权
公开(公告)号：JP6352895B2
公开(公告)日：2018-07-04
申请号：JP2015252750
申请日：2015-12-25
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：三浦丈苗
IPC分类号： C12M3/00

5. 发明专利

JP6163315B2 基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6163315B2
公开(公告)日：2017-07-12
申请号：JP2013026224
申请日：2013-02-14
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：泉本賢治 , 三浦丈苗 , 小林健司 , 西東和英 , 岩▲崎▼ 晃久
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306

6. 发明专利

JP6118595B2 基板処理装置および基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6118595B2
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：JP2013052879
申请日：2013-03-15
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：小林健司 , 三浦丈苗
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/304

7. 发明专利

JP5890198B2 基板処理装置及び基板処理方法有权
公开(公告)号：JP5890198B2
公开(公告)日：2016-03-22
申请号：JP2012035298
申请日：2012-02-21
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：樋口鮎美 , 藤谷佳礼 , 三浦丈苗 , 武明励
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67248 , B08B3/024 , B08B3/04 , B08B3/10 , B08B3/108 , H01L21/67051 , H01L21/67057 , H01L21/67086 , H01L21/67253

8. 发明专利

JP2015126194A 基板処理方法および基板処理装置有权
标题翻译：基板处理方法和基板处理装置
公开(公告)号：JP2015126194A
公开(公告)日：2015-07-06
申请号：JP2013271592
申请日：2013-12-27
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：小林健司 , 泉本賢治 , 岩▲崎▼ 晃久 , 西東和英 , 三浦丈苗
IPC分类号： B08B3/02 , H01L21/304
摘要：【課題】表面に凹部がある基板を効率的に処理できる技術を提供する。【解決手段】表面に凹部がある基板9を処理する基板処理方法であって、次の工程を備える。a)水平姿勢で保持されて水平面内で回転される基板9の表面に、処理液を供給して、当該表面を覆う処理液の液膜を形成する工程。b)基板9の表面を覆う処理液の液膜を維持しつつ、基板9の回転速度を、第1回転速度と第2回転速度との間で、2回以上、切り替える工程。ただし、a)工程とb)工程とは並行して行われる。【選択図】図6
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够有效地处理其表面上具有凹部的基板的技术。解决方案：用于处理其表面上具有凹部的基板9的基板处理方法包括以下步骤：a）处理液体的液膜通过将处理液体供给到基板的表面而覆盖保持在水平姿态并且在水平面中旋转的基板9的表面; 以及b）在保持处理液体的液膜覆盖基板9的表面的同时，在第一旋转速度和第二旋转速度之间切换基板9的旋转速度两次或更多次。然而，步骤a）和步骤 b）并行执行。

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