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    • 3. 发明专利
    • 荷電粒子照射装置及び荷電粒子照射方法
    • 充电颗粒光束辐射装置和充电颗粒光束辐射方法
    • JP2016051524A
    • 2016-04-11
    • JP2014174441
    • 2014-08-28
    • 株式会社豊田中央研究所
    • 紅谷 篤史渡邊 佳英
    • C23C14/32H01L21/265H01J37/317
    • 【課題】 荷電粒子ビームのビーム照射領域における荷電粒子の照射密度の均一化をより簡便な制御でかつ高水準な均一性で達成することが可能となる荷電粒子照射装置を提供すること。 【解決手段】 荷電粒子からなる荷電粒子ビームを出射することが可能な荷電粒子ビーム生成手段と、前記荷電粒子ビームの周囲に配置されX軸方向電極及びY軸方向電極を有しており前記荷電粒子ビームを偏向する対向偏向電極と、前記荷電粒子ビームが照射される基板を保持する台座と、を備える荷電粒子照射装置であって、 前記対向偏向電極に印加するX軸方向電圧とY軸方向電圧の周波数比を無理数とし、かつ、前記荷電粒子ビームが前記基板の荷電粒子照射領域内をリサージュ走査するようにし、前記基板に照射される荷電粒子の密度が均一になるようにしたことを特徴とする荷電粒子照射装置。 【選択図】 図2
    • 要解决的问题:提供一种能够在带电粒子束的束照射区域中获得均匀的照射密度的带电粒子束照射装置,通过更加方便的控制具有高水平的均匀性。解决方案:在带电粒子束照射 装置,其包括能够发射由带电粒子组成的带电粒子束的带电粒子束产生装置,面对设置在带电粒子束周围的偏转电极,并且具有X轴方向电极和Y轴方向电极,用于偏转 带电粒子束和用于保持要被照射带电粒子束的衬底的基座,X轴方向电压和Y轴方向电压的频率比是无理数,带电粒子束执行李萨如扫描 基板的带电粒子束照射区域和带电粒子束的密度, 衬底被照射,使其均匀。选择图:图2