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1. 发明专利

JP6692115B2 ビーム位置監視装置及び荷電粒子ビーム照射システム有权
公开(公告)号：JP6692115B2
公开(公告)日：2020-05-13
申请号：JP2014034015
申请日：2014-02-25
申请人：株式会社日立製作所
发明人：西村荒雄 , 秋山浩 , 品川亮介 , 藤田毅
IPC分类号： G01T1/29 , G21K5/04 , H05H7/10 , H05H13/04 , A61N5/10

2. 发明专利

JP2020081164A 粒子線治療装置およびその制御方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020081164A
公开(公告)日：2020-06-04
申请号：JP2018217424
申请日：2018-11-20
申请人：株式会社日立製作所
发明人：高橋弘樹 , 鈴木正憲 , 八木橋卓人 , 藤田毅 , 古瀬功 , 岡田祐子
IPC分类号： A61N5/10
摘要：【課題】本発明の目的は、粒子線治療装置の操作者への負担を軽減することである。【解決手段】位置姿勢設定器32は、照射ノズル16および治療台18のうちの運動可能な少なくとも一方である可動体を運動させ、照射ノズル16および治療台18の相対位置姿勢を設定する。移動経路決定器44は、複数の規定条件のうちの1つの条件から別の1つの条件に可動体の位置姿勢を適合させるときの可動体の移動経路を求める。評価値決定器46は、可動体の位置姿勢を複数の規定条件のそれぞれに適合させる場合の評価値を求める。この評価値は、可動体を移動経路に従って移動させる場合の評価値である。順序決定器48は、各規定条件に可動体の位置姿勢を適合させる設定順序を評価値に基づいて決定する。位置姿勢設定器32は、移動経路決定器44によって求められた移動経路に従って可動体を移動させて、複数の規定条件のそれぞれに可動体の位置姿勢を適合させる。【選択図】図2

3. 发明专利

JP2015157003A ビーム位置監視装置及び荷電粒子ビーム照射システム审中-公开
标题翻译：光束位置监测装置和充电颗粒光束辐射系统
公开(公告)号：JP2015157003A
公开(公告)日：2015-09-03
申请号：JP2014034015
申请日：2014-02-25
申请人：株式会社日立製作所
发明人：西村荒雄 , 秋山浩 , 品川亮介 , 藤田毅
IPC分类号： G21K5/04 , G01T1/29 , H05H13/04 , H05H7/10 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1075 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N5/1067 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
摘要：【課題】イオンビーム照射の計画外停止を低減して一日あたりに治療できる人数を増加できる荷電粒子ビーム照射システムを提供する。【解決手段】シンクロトロン加速器から出射されたイオンビームを走査制御装置により照射装置の走査電磁石を制御して患部の或る層 i 内のスポット i,j の目標位置P i,j に照射する。目標位置P i,j と実際の照射位置Pa i,j の偏差D j を求める(S6B)。偏差D j を用いて実際の照射位置Pa i,j のシステマチック誤差Es i,j 及びランダム誤差Er i,j を求める(S6C)。システマチック誤差Es i,j がシステマチック誤差Es i,j の第1許容範囲内に存在するかを判定する(S6D)。ランダム誤差Er i,j がランダム誤差Er i,j の第2許容範囲内に存在するかを判定する(S6D)。システマチック誤差Es i,j またはランダム誤差Er i,j が許容範囲から逸脱するとき、イオンビームの患部への照射を停止する。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过降低离子束照射停止频率来增加每天能够治疗的人数的带电粒子束照射系统。解决方案：扫描控制装置控制扫描电磁体照射装置，使得从受同步加速器发射的离子束照射受影响部分的某一层的目标位置Pin。目标位置P与获得的实际照射位置Pais之间的偏差D（S6B）。系统误差和随机误差Erof使用偏差D（S6C）获得的实际照射位置Paare。是否确定系统误差Esis的第一容许范围内的系统误差Esexists（S6D）。是否在随机误差Eris确定的第二容许范围内的随机误差Erexists（S6E）。当系统误差Esor的随机误差从容许范围偏差时，停止对受影响部位的离子束照射。

4. 发明专利

JP2020130539A 粒子線治療装置及び照射野形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020130539A
公开(公告)日：2020-08-31
申请号：JP2019026903
申请日：2019-02-18
申请人：株式会社日立製作所
发明人：島倉智一 , 中島千博 , 遠竹聡 , 富田和雄 , 藤田毅
IPC分类号： A61N5/10
摘要：【課題】粒子線治療装置において、走査部又はそれを含む照射装置の大型化を避けつつ、照射野を拡大する。【解決手段】走査部34の下流側にシフト部36が設けられている。シフト部36は粒子線としての炭素線を偏向して照射野をシフトさせ、これにより拡大照射野を生じさせるものである。シフト部36は、Y方向に照射野をシフトさせる第1シフト電磁石42と、X方向に照射野をシフトさせる第2シフト電磁石44とを含む。走査部34は動的に制御され、シフト部36は静的に制御される。【選択図】図1

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