专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

4. 发明专利

JP2015126754A 培養基材有权
标题翻译：文化基层
公开(公告)号：JP2015126754A
公开(公告)日：2015-07-09
申请号：JP2015078993
申请日：2015-04-08
申请人：株式会社日立製作所
发明人：高橋亮介 , 久田明子 , 園田浩 , 齊藤拓
IPC分类号： C12M1/00 , C12M3/00
摘要：【課題】培養基材表面に化学物質を塗布することなく、直径の揃った三次元組織を形成させる技術を可能にする培養シートを提供する。【解決手段】培養基材100は、細胞の接着性や遊走性を制御できるナノピラー103が形成された培養シートを、複数のホール101の低面である培養面に配置したことにより、各ホール101の培養面は、仕切り104を設けた構造となるため、播種された細胞の相互作用を制限することができ、形成される細胞の三次元構造の大きさを均一にすることが可能となる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种培养片，其能够形成具有均匀直径的三维组织的技术，而不用化学物质涂覆培养基质的表面。解决方案：培养基底100限制播种细胞和制服的相互作用由于每个孔101的培养面的三维结构的大小具有配备有隔壁104的结构，通过配置具有用于控制培养面上的细胞粘附性和迁移性的纳米柱103的培养片，多个孔101的底面。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB