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1. 发明专利

JP2017173145A 放射線分析装置、及び放射線分析方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017173145A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2016059811
申请日：2016-03-24
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：永田篤士 , 中山哲 , 田中啓一 , 茅根一夫
IPC分类号： G01N23/225
CPC分类号： G01N23/223 , G01N2223/33
摘要：【課題】放射線の検出効率を容易に向上させることができる放射線分析装置を提供することを目的とする。【解決手段】放射線分析装置は、物体に第1放射線を照射する放射線照射部と、第1放射線が照射された物体から発生する第2放射線を検出する放射線検出部と、当該物体と放射線検出部との間に配置され、第2放射線を放射線検出部に収束させる放射線収束部と、放射線収束部と放射線検出部との相対的な位置関係を可変にする位置可変部と、位置可変部が可変にする位置関係を変化させる駆動部と、を備える。【選択図】図3

2. 发明专利

JP2018162984A 放射線分析装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018162984A
公开(公告)日：2018-10-18
申请号：JP2017059066
申请日：2017-03-24
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：田中啓一 , 茅根一夫
IPC分类号： G01T1/36 , G01T1/26 , G01T1/17 , G01N23/223
CPC分类号： G01N23/2252 , G01N2223/079 , H01J37/244 , H01J37/285 , H01J2237/063 , H01J2237/24507
摘要：【課題】物体の分析に要する時間を低減しつつ、精度の高いエネルギースペクトルを提供することができる放射線分析装置を提供すること。【解決手段】放射線分析装置は、複数の元素を含む物体に第1放射線を照射し、第1放射線が照射された物体から放射される複数の第2放射線を放射線検出部により検出し、放射線検出部が検出した複数の第2放射線それぞれの信号に基づくエネルギースペクトルを導出部により導出し、導出部が導出したエネルギースペクトルに基づいて、基準となる元素である基準元素が吸収したエネルギー又基準元素が放出したエネルギーである検出エネルギーを検出部により検出し、記憶部に予め記憶された情報であって基準元素が吸収するエネルギー又は基準元素が放出するエネルギーである基準エネルギーを示す情報である基準エネルギー情報と、検出部が検出した検出エネルギーとに基づいて、導出部が導出したエネルギースペクトルを補正する。【選択図】図3

3. 发明专利

JP2017181135A 走査型プローブ顕微鏡及びそのプローブ接触検出方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017181135A
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：JP2016065007
申请日：2016-03-29
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：繁野雅次 , 渡辺和俊 , 渡邉将史 , 山本浩令 , 茅根一夫
IPC分类号： G01Q20/02 , G01Q60/36
CPC分类号： G01Q10/02 , G01Q10/065
摘要：【課題】プローブが接触する試料表面が斜面である場合において、プローブと試料表面との接触を検出する押し付け力の値が、水平面と比較して変化する現象を改善可能な、走査型プローブ顕微鏡及びそのプローブ接触検出方法を提供する。【解決手段】試料表面にプローブを接触させて、前記試料表面を前記プローブで走査する走査型プローブ顕微鏡であって、先端に前記プローブを備えるカンチレバーと、前記カンチレバーのたわみ量とねじれ量とを検出する変位検出部と、前記変位検出部により検出された、無変形のカンチレバーにおける全方位のたわみ量とねじれ量とに基づいて前記プローブの前記試料表面への一次の接触を判定する接触判定部と、を備える。【選択図】図1

4. 发明专利

JP2017044557A X線分析装置审中-公开
标题翻译： X射线分析装置
公开(公告)号：JP2017044557A
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2015166549
申请日：2015-08-26
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：中山哲 , 田中啓一 , 永田篤士 , 茅根一夫
IPC分类号： G01N23/223 , G01T7/00 , G01N23/225
CPC分类号： G01N23/223
摘要：【課題】複数の取付ポートを占有することなく、エネルギー分解能が高い検出と計数効率が高い検出とを実現可能なX線分析装置を提供する。【解決手段】X線分析装置10は、電子銃14と、X線光学部材30と、第1検出部および第2検出部と、距離変更機構42と、を備える。X線光学部材30は、試料11から放出される特性X線13を第1検出部および第2検出部の少なくとも何れかに導く。第1検出部は、第2検出部に比べて、相対的に計数効率よりもエネルギー分解能を優先させるように形成されている。第2検出部は、第1検出部に比べて、相対的にエネルギー分解能よりも計数効率を優先させるように形成されている。距離変更機構42は、X線光学部材30の光軸の軸方向における第1検出部および第2検出部とX線光学部材30との間の距離を変更する。【選択図】図1
摘要翻译：甲不占用的多个安装端口，能量分辨率提供高的检测和计数效率高的检测和可行的X射线分析装置。一种X射线分析装置10包括电子枪14，X射线光学元件30，第一检测器和第二检测器，所述距离改变机构42，一个。 X射线光学元件30和引导在所述第一检测器中的至少一个和所述第二检测器从样本11发射的特征X射线13。第一检测器，与所述第二检测单元相比，形成为能量分辨率比相对计数效率的优先级。第二检测单元，与所述第一检测部分相比形成为比相对能量分辨率计数效率优先。距离可变机构42改变第一检测器和第二检测器，并在X射线光学元件30的光轴的轴向方向上的X射线光学元件30之间的距离。 1点域

5. 发明专利

JP2016142729A X線分析装置审中-公开
标题翻译： X射线分析仪
公开(公告)号：JP2016142729A
公开(公告)日：2016-08-08
申请号：JP2015021592
申请日：2015-02-05
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：田中啓一 , 茅根一夫
IPC分类号： G01N23/223 , G01T7/00 , H01J37/244 , G01N23/225
CPC分类号： G01N23/2252 , G01T1/1606 , H01L39/00 , G01N2223/3103
摘要：【課題】可視光および赤外光を遮蔽し、並びにX線窓を最小限に薄くすることができ、その結果、1keV以下のX線を効率よく取得する。【解決手段】X線分析装置10は、電子銃14と、超伝導転移端センサ(TES)15と、コリメータ33と、第1X線窓31および第2X線窓32と、第1熱シールド21および第2熱シールド22と、を備える。電子銃14は、分析対象である試料11を励起して特性X線13を放出させる。TES15は、特性X線13を検出する。第1X線窓31および第2X線窓32における全てのアルミニウム膜の累積した膜厚は、150nm以上かつ300nm未満に形成されている。コリメータ33の大きさは、第1X線窓31および第2X線窓32が存在しない場合での雰囲気温度のTES15への熱輻射量を10μW以下にする大きさに形成されている。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：通过截取可见光和红外光并尽可能减少X射线窗口来有效地获得1keV以下的X射线。解决方案：X射线分析仪10包括电子枪 14，超导转移端传感器（TES）15，准直器33，第一X射线窗口31，第二X射线窗口32，第一隔热屏21和第二隔热罩22.电子枪14激发作为从而允许样品放出特征X射线13.TES15检测特征X射线13.第一X射线窗31和第二X射线窗32上的全部铝膜的累积膜厚度等于或大于150nm并且低于300nm。在第一X射线窗口31和第二X射线窗口32不是的情况下，将准直仪33的尺寸设定为限制在大气温度下照射到TES 15的散热量的尺寸存在，等于或小于10μW。选择图：图1

6. 发明专利

JP6930721B2 放射線分析装置有权
公开(公告)号：JP6930721B2
公开(公告)日：2021-09-01
申请号：JP2017094056
申请日：2017-05-10
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：永田篤士 , 中山哲 , 田中啓一 , 茅根一夫
IPC分类号： G01N23/223 , G01T7/00 , G01N23/2252

7. 发明专利

JP6745621B2 放射線分析装置、及び放射線分析方法有权
公开(公告)号：JP6745621B2
公开(公告)日：2020-08-26
申请号：JP2016059811
申请日：2016-03-24
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：永田篤士 , 中山哲 , 田中啓一 , 茅根一夫
IPC分类号： G01N23/2252

8. 发明专利

JP6422791B2 X線分析装置审中-公开
公开(公告)号：JP6422791B2
公开(公告)日：2018-11-14
申请号：JP2015021592
申请日：2015-02-05
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：田中啓一 , 茅根一夫
IPC分类号： G01T7/00 , H01J37/244 , H01J37/252 , G01N23/2252
CPC分类号： G01N23/2252 , G01N2223/3103 , H01L39/10 , H01L39/16

9. 发明专利

JP2021060432A 走査型プローブ顕微鏡及びそのプローブ接触検出方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021060432A
公开(公告)日：2021-04-15
申请号：JP2021009827
申请日：2021-01-25
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：繁野雅次 , 渡辺和俊 , 渡邉将史 , 山本浩令 , 茅根一夫
IPC分类号： G01Q60/36
摘要：【課題】プローブが接触する試料表面が斜面である場合において、プローブと試料表面との接触を検出する押し付け力の値が、水平面と比較して変化する現象を改善可能な、走査型プローブ顕微鏡及びそのプローブ接触検出方法を提供する。【解決手段】試料表面にプローブを接触させて、前記試料表面を前記プローブで走査する走査型プローブ顕微鏡であって、先端に前記プローブを備えるカンチレバーと、前記カンチレバーのたわみ量とねじれ量とを検出する変位検出部と、前記変位検出部により検出された、カンチレバーにおける全方位のたわみ量とねじれ量とに基づいて前記プローブの前記試料表面への一次の接触を判定する接触判定部と、を備える。【選択図】図1

10. 发明专利

JP6589461B2 X線分析装置有权
公开(公告)号：JP6589461B2
公开(公告)日：2019-10-16
申请号：JP2015166549
申请日：2015-08-26
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：中山哲 , 田中啓一 , 永田篤士 , 茅根一夫
IPC分类号： G01N23/223 , G01T7/00 , H01J37/252 , H01J37/244 , G01N23/2252

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