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3. 发明专利

JPWO2020194609A1 イオンサプレッサ有权
公开(公告)号：JPWO2020194609A1
公开(公告)日：2021-12-23
申请号：JP2019013389
申请日：2019-03-27
申请人：株式会社島津製作所
发明人：坂本勝正 , 藤原理悟
IPC分类号： G01N30/88 , G01N30/02
摘要：第1および第2の電極液シール部材が、第1の電極と第2の電極との間に配置される。第1および第2のイオン交換膜が、第1の電極液シール部材と第2の電極液シール部材との間に配置される。溶離液シール部材が、第1のイオン交換膜と第2のイオン交換膜との間に配置される。第1の電極液シール部材の第1の電極液流路内には、電荷量が異なる複数の第1のメッシュ部材が積層される。複数の第1のメッシュ部材の各々は、複数の第1の線材からなる第1の線材群と、第1の線材群に交差する複数の第2の線材からなる第2の線材群とにより構成される。複数の第1のメッシュ部材の複数の第1の線材群はそれぞれ異なる方向に延び、複数の第1のメッシュ部材の複数の第2の線材群はそれぞれ異なる方向に延びかつ複数の第1の線材群と異なる方向に延びる。

5. 发明专利

JPWO2020194607A1 イオンサプレッサ审中-公开
公开(公告)号：JPWO2020194607A1
公开(公告)日：2021-12-23
申请号：JP2019013387
申请日：2019-03-27
申请人：株式会社島津製作所
发明人：藤原理悟 , 坂本勝正
IPC分类号： G01N30/88 , G01N30/02
摘要：第1および第2の電極液シール部材が第1の電極と第2の電極との間に配置される。第1および第2のイオン交換膜が、第1の電極液シール部材と第2の電極液シール部材との間に配置される。溶離液シール部材が、第1のイオン交換膜と第2のイオン交換膜との間に配置される。溶離液シール部材の溶離液流路を通過する分離カラムからの溶離液と、第1および第2の電極液シール部材の各々の電極液流路を通過する電極液との間でイオン交換が行われる。第1のイオン交換膜と接触する溶離液シール部材の第1の面には、溶離液流路の縁に沿うように溶離液流路を全周にわたって取り囲みかつ第1のイオン交換膜に向かって突出する第1の突出部が形成される。

7. 发明专利

JPWO2019021353A1 イオンサプレッサーおよびイオンクロマトグラフ审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019021353A1
公开(公告)日：2020-05-28
申请号：JP2017026737
申请日：2017-07-24
申请人：株式会社島津製作所
发明人：坂本勝正
IPC分类号： G01N30/88 , B01D15/36 , B01D61/44 , G01N30/02
摘要：イオンサプレッサー(1)は、一対の電極(21,23)の間にイオン交換膜(41,43)を備える。電極とイオン交換膜の間の空間に再生液流路(71,73)が設けられ、イオン交換膜の間に溶離液流路(75)が設けられている。溶離液流路の下流側での溶離液中のイオンの再交換を抑制することにより、測定対象イオンの検出感度を向上できる。例えば、溶離液流路を折り返し構造とすることにより、溶離液流路下流側の電流量が増加するため、イオンの滞留が抑制され、これに伴って溶離液中のイオンの再交換を抑制できる。

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