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    • 5. 发明专利
    • 研掃装置
    • JP2020157391A
    • 2020-10-01
    • JP2019056466
    • 2019-03-25
    • 株式会社奥村組
    • 石井 敏之栗本 雅裕
    • B24C3/32E01H1/00E04G23/02B24C3/06
    • 【課題】研掃対象の壁面に対して研掃装置が平面視で斜めに配置されたとしても研掃対象の壁面に対して研掃処理を良好に施すことができる。 【解決手段】トンネルの内壁面WSに対してトンネル研掃装置Mの第1のレール11a−1が平面視で斜めに配置されたときには、トンネル研掃装置Mからトンネルの内壁面WSまでの距離を計測するためのセンサSL1,SL2で得られた検出情報に基づいて、トンネルの内壁面WSの研掃時に研掃ヘッド17が内壁面WSに沿って斜めに移動するようにモータ11a−2,11b−2を同時に駆動する。これにより、トンネルの内壁面WSに対してトンネル研掃装置Mの第1のレール11a−1が平面視で斜めに配置されたとしても、研掃処理に際して、研掃ヘッド17を当該内壁面WSに適度に押し当てた状態で移動させることができるので、トンネルの内壁面WSを良好に研掃することができる。 【選択図】図12