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1. 发明专利

JP6539817B2 水素水製造装置及び水素水製造方法有权
公开(公告)号：JP6539817B2
公开(公告)日：2019-07-10
申请号：JP2017100390
申请日：2017-05-19
申请人：株式会社光未来
发明人：水谷祐太 , 張文士 , 熊谷義一
IPC分类号： B01F3/04 , B01F5/00 , B01F1/00 , B01F13/08 , C02F1/68

2. 发明专利

JP2018034148A 水素水製造装置及び水素水製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018034148A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2017100390
申请日：2017-05-19
申请人：株式会社光未来
发明人：水谷祐太 , 張文士 , 熊谷義一
IPC分类号： B01F3/04 , B01F5/00 , B01F1/00 , B01F13/08 , C02F1/68
CPC分类号： Y02E60/366
摘要：【課題】水素を水に溶解させる際にコンプレッサやポンプ等の駆動音の大きな加圧手段を用いることなく、静粛性を確保できるとともに、高濃度の水素水を安定的に得ることのできる水素水製造装置を提供する。【解決手段】水素ガス及び水を気液二相状態で加圧保持する溶解タンクを用いて飲料用水素水を製造する水素水製造装置方法である。溶解タンクに水を供給する給水槽と、水を電気分解して水素ガスを生成し溶解タンクの内部に供給する水素供給機構と、溶解タンクの内部の水を外部に吐出させる取水機構と、を含み、給水槽から溶解タンクに水を供給し溶解タンクを閉空間とした後、水素供給機構から水素ガスを溶解タンクの内部に加圧供給して閉空間を加圧するとともに、閉空間の外部の磁力によって溶解タンクの内部にある攪拌子を回転させて水を攪拌し、攪拌後に閉空間の内部圧力によって取水機構を介して溶解タンクの内部の水を外部に吐出させることを特徴とする。【選択図】図6

3. 发明专利

JP2018034147A 送水ポンプレス水素水製造装置及び水素水製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018034147A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2017099912
申请日：2017-05-19
申请人：株式会社光未来
发明人：水谷祐太 , 張文士
IPC分类号： B01F1/00 , B01F3/04 , C02F1/68 , C01B3/02 , C25B1/04 , C25B9/00 , B01F15/02
CPC分类号： Y02E60/366
摘要：【課題】水素を水に溶解させる際にコンプレッサやポンプ等の加圧手段を用いることなく、静粛性を確保できる送水ポンプレス水素水製造装置及び水素水製造方法を提供する。【解決手段】水素ガス及び水を気液二相状態で加圧保持する加圧溶解タンクを用いて飲料用水素水を製造する水素水製造方法である。加圧溶解タンク内に水を供給し加圧溶解タンクを閉空間とする工程と、電気分解部を備える水素供給機構によって水を電気分解して水素ガスを生成した後、加圧溶解タンクの内部に加圧供給して閉空間を加圧する工程と、加圧溶解タンクの内部圧力によって加圧溶解タンクの内部の水を外部に吐出させる工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】図5

4. 发明专利

JP5865560B1 気体溶解装置及び気体溶解方法有权
标题翻译：气体溶解装置和气体溶解方法
公开(公告)号：JP5865560B1
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：JP2015529952
申请日：2015-05-26
申请人：株式会社光未来
发明人：水谷祐太 , 張文士
IPC分类号： B01F3/04 , B01F5/10 , B01F15/02 , C02F1/68 , C01B3/00 , B01F5/02
CPC分类号： B01F1/00 , B01F3/04 , B01F5/00 , C02F1/68 , Y02E60/324
摘要：気体を過飽和の状態で液体に溶解させ、かかる過飽和の状態を安定に維持でき、さらにウォーターサーバー等へ容易に取付けることができる気体溶解装置を提供することである。水に水素を溶解させて水素水を生成し取出口から吐出させる気体溶解装置である。生成した水素水を導いて加圧し貯留する溶存槽と、溶存槽及び取出口を接続する管状路において取出口からの水素水の吐出動作による管状路内の圧力変動を防止し層流を形成させる降圧移送手段と、を含むことを特徴とする。
摘要翻译：气体溶解在液体中的过饱和的状态下，可以保持这样一种稳定的过饱和的状态，是进一步提供一种可以容易地连接到水分配器等的气体溶解装置。水以溶解氢是用于从出口制备喷出气体溶解装置产生氢的水。并溶解容器引出所产生的氢的水，以加压储存器，以形成防止层由氢水的排放操作而从取出流动管状通道的压力波动在管状通道连接溶解槽和收集由所述出口它其特征在于它包括一个降压传送装置。

5. 发明专利

JP2017131822A 水素水生成装置及び水素水生成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017131822A
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：JP2016012543
申请日：2016-01-26
申请人：株式会社光未来
发明人：水谷祐太 , 張文士
IPC分类号： B01F1/00 , B01F5/10 , B01F3/04 , B01F5/02 , C02F1/68
摘要：【課題】水素を過飽和の状態で液体に含ませて、かかる過飽和の状態を安定に維持しでき、さらにウォーターサーバー等へ容易に取付けることができる気体溶解装置を提供することである。【解決手段】水に水素を溶解させて水素水を生成し取出口から吐出させる気体溶解装置である。水素を発生させる水素発生手段と、水素発生手段からの水素を水素バブルとして水に与えて加圧送水する加圧型気体溶解手段と、加圧型気体溶解手段で生成した水素水を導いて貯留する溶存槽と、溶存槽及び取出口を接続する管状路と、管状路から分岐して加圧型気体溶解手段に水素水を循環させる接続路と、を含み、加圧溶解手段、溶存槽、管状路、及び接続路を循環経路として、少なくとも水素を満たした上で水素水を循環させ、水素水に水素を飽和状態で含ませるとともに、加圧型気体溶解手段に繰り返し循環させて水素バブルを圧壊しナノバブルとすることを特徴とする。【選択図】図1

6. 发明专利

JP2017121630A 気体溶解装置及び気体溶解方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017121630A
公开(公告)日：2017-07-13
申请号：JP2017054730
申请日：2017-03-21
申请人：株式会社光未来
发明人：水谷祐太 , 張文士
IPC分类号： B01F3/04 , B01F1/00 , B01F5/00 , C02F1/68 , B01F5/10
CPC分类号： B01F3/04503 , A23L2/54 , B01F3/04808 , B01F3/04815 , B01F3/2261 , B01F5/106 , C02F1/46104 , C02F1/4618 , C02F1/685 , C02F9/00 , A23V2002/00 , B01F2003/04914 , B01F2215/0022 , C02F1/003 , C02F1/283 , C02F1/42 , C02F1/444 , C02F1/68 , C02F2001/4619 , C02F2209/03 , C02F2301/022 , C02F2307/10 , Y02E60/324
摘要：【課題】気体を過飽和の状態で液体に溶解させ、かかる過飽和の状態を安定に維持でき、さらにウォーターサーバー等へ容易に取付けることができる気体溶解装置を提供することである。【解決手段】水に水素を溶解させて水素水を生成し取出口から吐出させる気体溶解装置である。生成した水素水を導いて加圧し貯留する溶存槽と、溶存槽及び取出口を接続する管状路において取出口からの水素水の吐出動作による管状路内の圧力変動を防止し層流を形成させる降圧移送手段と、を含むことを特徴とする。【選択図】図1

7. 发明专利

JP2016101585A 気体溶解装置及び気体溶解方法有权
标题翻译：气体解析装置和气体解析方法
公开(公告)号：JP2016101585A
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：JP2015255409
申请日：2015-12-25
申请人：株式会社光未来
发明人：水谷祐太 , 張文士
IPC分类号： B01F1/00 , B01F3/04 , C02F1/68 , B01F5/10 , C01B3/00 , B01F5/00
CPC分类号： B01F3/04503 , A23L2/54 , B01F1/00 , B01F3/04 , B01F3/04808 , B01F3/2261 , B01F5/00 , B01F5/106 , C02F1/46104 , C02F1/68 , C02F1/685 , A23V2002/00 , B01F2003/04914 , B01F2215/0022 , Y02E60/324
摘要：【課題】気体を過飽和の状態で液体に溶解させ、かかる過飽和の状態を安定に維持でき、さらにウォーターサーバー等へ容易に取付けることができる気体溶解装置を提供することである。【解決手段】水に水素を溶解させて水素水を生成し取出口から吐出させる気体溶解装置1である。生成した水素水を導いて加圧し貯留する溶存槽4と、溶存槽及び取出口10を接続する管状路において取出口からの水素水の吐出動作による管状路内の圧力変動を防止し層流を形成させる降圧移送手段5と、を含むことを特徴とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种气体溶解装置，其中气体溶解在过饱和状态的液体中，并且可以稳定地维持过饱和状态，并且可以容易地将其附着到水服务器等。解决方案：气体溶解装置1通过将氢溶解在水中并从取出口排出而产生氢水，包括：溶解槽4，其中产生的氢水被引入，加压和储存; 以及压力降低传递装置5，其中防止了由连接溶出槽到取出口10的管状路径中的取出口的氢水排出作用引起的管路中的压力波动，形成层流图1

8. 发明专利

JP2020116575A 気体溶解装置及び気体溶解方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020116575A
公开(公告)日：2020-08-06
申请号：JP2020069035
申请日：2020-04-07
申请人：株式会社光未来
发明人：水谷祐太 , 張文士
IPC分类号： B01F1/00 , B01F3/04 , B01F5/10 , C02F1/68 , A23L2/00 , A23L2/52 , C25B9/00 , B01F5/00
摘要：【課題】気体を過飽和の状態で液体に溶解させ、かかる過飽和の状態を安定に維持でき、さらにウォーターサーバー等へ容易に取付けることができる気体溶解装置を提供することである。【解決手段】水に水素を溶解させて水素水を生成し取出口から吐出させる気体溶解装置である。生成した水素水を導いて加圧し貯留する溶存槽と、溶存槽及び取出口を接続する管状路において取出口からの水素水の吐出動作による管状路内の圧力変動を防止し層流を形成させる降圧移送手段と、を含むことを特徴とする。【選択図】図1

9. 发明专利

JP2018050805A 浴槽用気泡発生容器审中-公开
公开(公告)号：JP2018050805A
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：JP2016188551
申请日：2016-09-27
申请人：株式会社光未来
发明人：水谷祐太 , 張文士
IPC分类号： B01J7/02 , B01F3/04 , B01F5/06 , A47K3/00
摘要：【課題】気体発生剤を内部に収容させこれを浴槽内に沈めて、浴槽内に多数の微細気泡を広範囲に亘って与えることのできる気泡発生容器の提供。【解決手段】気体発生剤を内部に収容させこれを浴槽内に沈めることで気体発生剤と水とを反応させて生じる気体を浴槽中に気泡として与える気泡発生容器である。上部開口を有する本体部と、上部開口を覆うとともに複数の貫通穴を設けられて気体発生剤からの気体を分散通過させて気泡を形成させる蓋体と、を有し、蓋体の背面である本体部側には貫通穴に対応させて凹状の気体溜まりを設けたことを特徴とする。【選択図】図2

10. 发明专利

JP6116658B2 気体溶解装置及び気体溶解方法有权
公开(公告)号：JP6116658B2
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：JP2015255409
申请日：2015-12-25
申请人：株式会社光未来
发明人：水谷祐太 , 張文士
IPC分类号： B01F3/04 , B01J3/02 , C02F1/68 , B01F1/00
CPC分类号： B01F3/04503 , A23L2/54 , B01F3/04808 , B01F3/04815 , B01F3/2261 , B01F5/106 , C02F1/46104 , C02F1/4618 , C02F1/685 , C02F9/00 , A23V2002/00 , B01F2003/04914 , B01F2215/0022 , C02F1/003 , C02F1/283 , C02F1/42 , C02F1/444 , C02F1/68 , C02F2001/4619 , C02F2209/03 , C02F2301/022 , C02F2307/10 , Y02E60/324

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