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1. 发明专利

JP5988155B2 廃液処理装置有权
公开(公告)号：JP5988155B2
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：JP2012227258
申请日：2012-10-12
申请人：株式会社リコー
发明人：鈴木章悟 , 宮澤秀之 , 岡田典晃 , 村田省蔵 , 武藤敏之 , 山田茂 , 中島牧人 , 宇津木綾 , 早川謙一 , 青木公生 , 座間優
IPC分类号： C02F1/72 , C02F1/78 , B01J3/00 , B01J3/02 , B01J3/04 , C02F1/74
CPC分类号： C02F1/725 , B01J3/008 , B01J3/03 , B01J3/042 , B01J8/0005 , C02F1/02 , C02F1/72 , B01J2219/00085 , B01J2219/00159 , C02F1/008 , C02F1/444 , C02F1/722 , C02F1/74 , C02F1/78 , C02F2101/16 , C02F2103/28 , C02F2201/003 , C02F2209/001 , C02F2209/005 , C02F2209/03 , C02F2301/066

2. 发明专利

JP2016112505A 流体処理装置及び流体処理方法审中-公开
标题翻译：流体处理装置和方法
公开(公告)号：JP2016112505A
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：JP2014253191
申请日：2014-12-15
申请人：株式会社リコー
发明人：座間優 , 鳥井昭吾 , 宇津木綾 , 武藤敏之 , 鈴木章悟
IPC分类号： B01J23/44 , G01F23/288 , C02F1/74
摘要：【課題】反応槽内に気相領域と液相領域とが併存する方式において、界面の位置を高精度に制御することなく界面変動による諸問題を同時に解消できる流体処理装置を提供する。【解決手段】反応槽5の内部には、上部に気相領域60が形成され、下部には気相領域60に連続して液相領域61が形成されている。反応槽5は、耐圧性の外筒57と耐食性を有する内筒58とを有し、内筒58の内周面には全域に亘って触媒59が配置されている。反応槽5の上部から処理対象流体Wと酸化剤としての空気Aとが導入される。処理対象流体Wに含まれる有機物が酸化反応によって分解され、触媒59によって酸化反応が促進される。気相領域60で析出した無機物は液相領域61に落下して溶解し、あるいはスラリーを形成する。無機物は液相領域61の水と共に排出される。気相領域60と液相領域61の界面BSが変動しても、気相領域60における触媒59の酸化反応の促進機能が低下せず、また、反応槽の腐食が抑制される。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种流体处理装置，其能够同时解决由边界面的波动引起的各种问题，而不以高精度控制边界面的位置，在气相区域和液体相区域共存在反应槽中。溶液：反应槽5的内部在其上部形成有气相区域60，并且在其下部形成有连续气相区域60的液相区域61。反应槽5包括耐压外筒57和具有耐腐蚀性的内筒58，催化剂59设置在内筒58的内周面的整个区域上。待处理的流体W和空气A 作为氧化剂从反应槽5的上部引入。待处理的流体W中含有的有机物质被氧化反应分解，氧化反应由催化剂59.在气相区域60中析出的无机物质落入液相区域61中以溶解或形成浆料。无机物质与液相区域61的水一起排出。即使气相区域60和液相区域61之间的边界面BS波动，催化剂59起促进气相区域中的氧化反应的作用 60没有降低，反应罐的腐蚀被阻止。选择图：图2

3. 发明专利

JP2016019942A 流体処理装置有权
标题翻译：流体加工设备
公开(公告)号：JP2016019942A
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：JP2014144292
申请日：2014-07-14
申请人：株式会社リコー
发明人：宇津木綾 , 鈴木章悟 , 宮澤秀之 , 青木公生 , 早川謙一 , 座間優 , 中島牧人 , 武藤敏之
IPC分类号： B01J23/44 , B01J35/04 , B01J3/00 , B01J3/02 , C02F1/74
摘要：【課題】良好な処理効率を維持しながら反応槽のメンテナンス頻度を低下させることができ、ランニングコストや労力の低減にも寄与できる流体処理装置を提供する。【解決手段】反応槽本体部42の内部には、反応槽の内径に沿う筒状の触媒部材50が配置されている。触媒部材50は触媒部材50a、50b、50cを非固定で上方に積み重ねて構成されている。各触媒部材50a、50b、50cは、波板を円筒形にした基材に触媒層を被覆して形成されている。これにより触媒部材50の表面積はこれに対応する反応槽内の表面積より大きく、触媒性能が向上する。反応槽の内周面と触媒部材50との間には空間が存在するため、反応槽の内周面に直接触媒を被覆する構成に比べて触媒部材50の表面で生じる反応熱が反応槽を介して移動しにくい。触媒部材が熱膨張した際には、屈曲部で歪が吸収され、触媒部材50の変形による破損等が防止される。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供能够降低反应槽的维护频率同时保持高处理效率并降低运行成本和劳动的流体处理装置。解决方案：在反应罐的主体42内部，将圆筒形催化剂部件50 沿着反应罐的内径布置。催化剂部件50由非固定状态的催化剂部件50a，50b，50c堆叠构成。催化剂部件50a，50b，50c中的每一个通过用催化剂层覆盖波纹板具有圆筒形状的基板来形成。由此，催化剂部件50的表面积比对应于催化剂部件的反应槽的表面积大，提高了催化剂性能。由于在反应槽的内周面和催化剂部件50之间存在空间，所以与催化剂被覆盖的结构相比，在催化剂部件50的表面产生的反应热几乎不通过反应槽在反应罐的内周面上。当催化剂部件热膨胀时，在弯曲部分中吸收变形，并且防止由于催化剂部件50的变形引起的损坏。图3

4. 发明专利

JP2018147874A 電極、電極素子、非水電解液蓄電素子审中-公开
公开(公告)号：JP2018147874A
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：JP2017117777
申请日：2017-06-15
申请人：株式会社リコー
发明人：柳田英雄 , 竹内重雄 , 座間優 , 広渡杏奈 , 宇津木綾 , 後河内透 , 木村興利
IPC分类号： H01M4/131 , H01M4/136 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M4/58 , H01M4/587 , H01M4/133 , H01M10/0525 , H01M10/0566 , H01M2/26 , H01M4/36 , H01M10/0585 , H01G11/42 , H01G11/26 , H01G11/06 , H01M4/13
摘要：【課題】電解液を用いる蓄電素子の性能の向上を可能とする電極の提供。【解決手段】電極集電体11、21と、電極集電体の一方の側に積層された、リチウムイオンを吸蔵及び放出できる複数の電極材層12、22と、を備えた、蓄電素子40の負極10用又は正極20用の電極10、20であって、電極が負極用である場合には、各々の電極材層は、第1材料と、第1材料よりも負極の表面に前記リチウムイオンを析出させ難い第2材料と、を含み、電極集電体の遠くに配置される電極材層ほど、第1材料と第2材料の合計重量に対する第2材料の重量の比率が大きくなり、電極が正極用である場合には、各々の電極材層は、第3材料と、第3材料よりもリチウムイオンに対する拡散性が高い第4材料と、を含み、電極集電体の遠くに配置される電極材層ほど、第3材料と第4材料の合計重量に対する第4材料の重量の比率が小さくなる電極。【選択図】図1

5. 发明专利

JP6090658B2 廃液処理装置有权
公开(公告)号：JP6090658B2
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：JP2013034436
申请日：2013-02-25
申请人：株式会社リコー
发明人：鈴木章悟 , 武藤敏之 , 宮澤秀之 , 中島牧人 , 宇津木綾 , 早川謙一 , 青木公生 , 座間優
IPC分类号： B01J3/00 , B01J3/04 , C02F1/74 , C02F1/72

6. 发明专利

JP6011916B2 流体浄化装置有权
公开(公告)号：JP6011916B2
公开(公告)日：2016-10-25
申请号：JP2012169825
申请日：2012-07-31
申请人：株式会社リコー
发明人：青木公生 , 鈴木章悟 , 宇津木綾 , 岡田典晃 , 座間優 , 早川謙一 , 宮澤秀之
IPC分类号： C02F1/74

7. 发明专利

JP6859864B2 正極、電極素子、非水電解液蓄電素子有权
公开(公告)号：JP6859864B2
公开(公告)日：2021-04-14
申请号：JP2017117777
申请日：2017-06-15
申请人：株式会社リコー
发明人：柳田英雄 , 竹内重雄 , 座間優 , 広渡杏奈 , 宇津木綾 , 後河内透 , 木村興利
IPC分类号： H01M4/131 , H01M4/136 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M4/58 , H01M4/133 , H01M10/0525 , H01M10/0566 , H01M50/409 , H01M4/36 , H01M10/0585 , H01G11/26 , H01G11/06 , H01M4/13

8. 发明专利

JP6476622B2 流体処理装置有权
公开(公告)号：JP6476622B2
公开(公告)日：2019-03-06
申请号：JP2014144292
申请日：2014-07-14
申请人：株式会社リコー
发明人：宇津木綾 , 鈴木章悟 , 宮澤秀之 , 青木公生 , 早川謙一 , 座間優 , 中島牧人 , 武藤敏之
IPC分类号： B01J23/44 , B01J35/04 , B01J3/00 , B01J3/02 , C02F1/74

9. 发明专利

JP6048793B2 流体浄化装置有权
公开(公告)号：JP6048793B2
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：JP2012163662
申请日：2012-07-24
申请人：株式会社リコー
发明人：宮澤秀之 , 鈴木章悟 , 岡田典晃 , 宇津木綾 , 早川謙一 , 青木公生 , 座間優
IPC分类号： B01J19/24 , G01N27/10 , C02F1/74

10. 发明专利

JP2016028804A 流体ろ過装置及び流体処理装置审中-公开
标题翻译：流体过滤装置和流体加工装置
公开(公告)号：JP2016028804A
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：JP2015004151
申请日：2015-01-13
申请人：株式会社リコー
发明人：青木公生 , 鈴木章悟 , 宮澤秀之 , 武藤敏之 , 宇津木綾 , 早川謙一 , 座間優 , 中島牧人 , 山田茂
IPC分类号： B01D29/66 , B01D24/48 , B01D29/60 , C02F1/74 , B01D29/11
摘要：【課題】流体処理装置の運転を停止することなくフィルタの目詰まりを均一且つ迅速に行うことができ、処理効率の向上及び労力の低減に寄与する流体ろ過装置を提供する。【解決手段】流体ろ過装置としてのフィルタ手段113は、管状体130と、管状体130の内部に軸方向に延びるように配置された円筒状のフィルタ132と、フィルタ132の内部に配置された洗浄流体吐出部材70とを有している。洗浄流体吐出部材70は逆洗用流体が流入する円柱状の本体部70aと、軸方向に延びるスリット状の開口を有する吐出口70bとを有している。吐出口70bの先端はフィルタ132の内周面に近接しており、フィルタ132に付着した固形物134を逆洗用流体の噴射によって除去する。洗浄流体吐出部材70は360°回転され、全ての固形物134が除去される。【選択図】図10
摘要翻译：要解决的问题：提供一种流体过滤装置，其能够快速均匀地解决过滤器的堵塞而不停止流体处理装置的操作，从而有助于提高加工效率和减少劳动。解决方案：用作流体的过滤装置113 过滤装置包括：管体130; 圆柱形过滤器132，其设置在管体130中，以沿轴向方向延伸; 以及设置在过滤器132中的清洗液排出部件70.清洗液排出部件70具备：反向洗涤用流体流过的柱状体部70a，以及具有沿轴向延伸的狭缝状开口的排出口70b。排出口70b的前端位于过滤器132的内周面附近。附着在过滤器132上的固体物质134通过喷射用于反洗的流体被除去。清洗液排出部件70旋转360°，所有的固体物质被除去。图10

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