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1. 发明专利

JP2018130224A 吸入装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018130224A
公开(公告)日：2018-08-23
申请号：JP2017025010
申请日：2017-02-14
申请人：株式会社フェザーグラス , 羽柴智彦
发明人：羽柴智彦
IPC分类号： A61M15/00 , B05B7/06 , A61M11/02
CPC分类号： A61M11/02 , A61M15/00 , B05B7/02 , B05B7/06
摘要：【課題】設定した均一な粒子径で薬液等を噴霧することができ、しかも、当該薬液等の微粒子に徐放性付与等のためのコーティングを容易に施すことが可能な吸入装置を提供すること。【解決手段】微粒子発生ノズル2、微粒子発生ノズル2により発生させた微粒子を分別する分別容器10、分別容器10において微粒子から分別された超微粒子を吐出させる少なくとも1つの吐出部28、吐出部28から吐出させる超微粒子の粒子径を設定する粒子径設定手段、吐出部28から吐出する超微粒子の粒子径を検出する粒子径検出手段、粒子径検出手段により検出された超微粒子の粒子径が粒子径設定手段により設定された超微粒子の粒子径となるように微粒子発生ノズル2に供給される気体の圧力を制御する第1の気体圧制御手段を備え、微粒子発生ノズル2がコア−シェル構造を有する微粒子を発生可能な、吸入装置1。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2018146184A 除熱方法及び除熱システム审中-公开
公开(公告)号：JP2018146184A
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：JP2017042521
申请日：2017-03-07
申请人：株式会社フェザーグラス , 羽柴智彦
发明人：羽柴智彦
IPC分类号： H05K7/20 , G06F1/20 , F25B19/04
CPC分类号： F25B19/04 , G06F1/20 , H01L23/427 , H05K7/20
摘要：【課題】電子機器等の冷却対象を冷却するにあたり、高い冷却効率を発揮することのできる手法を提供すること。【解決手段】少なくとも1種の気化性液体からなる液体微粒子を生成する工程、前記液体微粒子を熱源まで輸送する工程、及び、前記液体微粒子を前記熱源近傍で前記熱源と非接触状態で気化させる工程を含み、前記液体微粒子の気化熱によって前記熱源を除熱する、除熱方法、並びに、当該除熱方法を実施可能な除熱システム。【選択図】図1

3. 发明专利

JP6771407B2 除熱方法及び除熱システム有权
公开(公告)号：JP6771407B2
公开(公告)日：2020-10-21
申请号：JP2017042521
申请日：2017-03-07
申请人：株式会社フェザーグラス , 羽柴智彦
发明人：羽柴智彦
IPC分类号： F25B19/04 , G06F1/20 , H05K7/20

4. 发明专利

JP2015167846A 対象物の処理方法及び処理装置有权
标题翻译：用于处理对象的方法和装置
公开(公告)号：JP2015167846A
公开(公告)日：2015-09-28
申请号：JP2014057121
申请日：2014-03-04
申请人：株式会社ルナエル , 羽柴智彦
发明人：羽柴智彦
IPC分类号： B01J35/02 , C07C47/052 , C07C45/29 , A01N35/02 , A01N25/00 , B01J23/745 , A61L2/20
摘要：【課題】メタノールガスの触媒反応により得られるガスを低濃度で用いて、滅菌処理、ウイルス不活化処理及びアレルゲン不活化処理を効果的に行うことが可能な処理方法及びその処理方法を実施するための処理装置を提供する。【解決手段】本発明の処理方法は、メタノールガスをガス滞留層へ導入し、前記ガス滞留層で滞留させる工程と、筒状の金属触媒が敷き詰められ、350〜600℃に加熱された触媒層に、前記ガス滞留層で滞留させたメタノールガスを通過させることにより処理ガスを発生させる工程と、前記処理ガスを処理室内に送出し、前記処理ガスで前記処理室内の対象物を処理する工程とを含み、前記処理ガスに含まれるホルムアルデヒドの濃度が150〜300ppmに、前記処理室内の温度が20〜50℃に、相対湿度が50〜90%に保持される。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种处理方法，其可以使用通过甲醇气体的低浓度催化反应获得的气体和用于进行处理的处理装置进行灭菌处理，病毒灭活处理和变应原灭活处理方法。处理方法包括以下过程：将甲醇气体引入气体保持层，并将甲醇气体保留在气体保留层中; 将保持在气体保持层中的甲醇气体通过加热至350-600℃的催化剂层，其中分散有圆柱形金属催化剂以产生处理气体; 将处理气体送入处理室并用处理气体处理处理室中的物体。处理气体中所含的甲醛浓度保持在150-300ppm，处理室中的温度保持在20-50℃，处理室中的相对湿度保持在50-90％。

5. 发明专利

JP6234289B2 対象物の処理方法及び処理装置有权
公开(公告)号：JP6234289B2
公开(公告)日：2017-11-22
申请号：JP2014057121
申请日：2014-03-04
申请人：株式会社ルナエル , 羽柴智彦
发明人：羽柴智彦
IPC分类号： B01J35/02 , C07C47/052 , C07C45/29 , A01N35/02 , A01N25/00 , A61L2/20

6. 发明专利

JP6017353B2 電子機器冷却システム有权
公开(公告)号：JP6017353B2
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：JP2013048663
申请日：2013-03-12
申请人：株式会社ウイングターフ , 羽柴智彦
发明人：羽柴智彦
IPC分类号： F25B19/04
CPC分类号： G06F1/20 , F25B19/02 , H05K7/20818 , G06F2200/201

7. 发明专利

JP5721107B2 有機化合物の除染方法有权
标题翻译：有机化合物的去污方法
公开(公告)号：JP5721107B2
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：JP2012060394
申请日：2012-03-16
申请人：株式会社ルナエル , 羽柴智彦
发明人：羽柴智彦
IPC分类号： C01B13/10 , A62D101/02 , A62D101/22 , A62D101/26 , A62D3/30
CPC分类号： A62D3/37 , A62D3/38 , B01D53/68 , B01D53/72 , A62D2101/02 , A62D2101/04 , B01D2251/10 , B01D2253/102 , B01D2253/106 , B01D2253/108 , B01D2257/2064 , B01D2257/55 , B01D2259/4583

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