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1. 发明专利

JP5578191B2 Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5578191B2
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：JP2012083150
申请日：2012-03-30
申请人：株式会社ニコン
发明人：直行小林 , 壮一大和 , 茂蛭川 , 泰弘大村
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68 , H01L21/683
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/7075 , G03F7/70891

2. 发明专利

JPWO2010117047A1 光学材料、光学素子、及びその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2010117047A1
公开(公告)日：2012-10-18
申请号：JP2011508392
申请日：2010-04-08
申请人：株式会社ニコン
发明人：大和　壮一 , 壮一大和 , 俊二渡辺 , 俊二渡辺 , 鈴木　純児 , 純児鈴木 , 木戸　一博 , 一博木戸 , 英光鳥羽 , 英光鳥羽
IPC分类号： G02B1/00
CPC分类号： G02B1/007 , B82Y20/00 , G02B1/14 , G03F7/20 , G03F7/32 , Y10T428/24893
摘要：例えば赤外域又はこれよりも短い波長の光に対して比透磁率が1と異なり、かつ構造的に安定な光学材料、並びにこれを用いた液体及び固体(光学素子)を提供することを目的とする。照明光が照射される液体又は固体の一成分として使用される粉末(12)であって、粉末(12)を構成する多数の共振素子(14)は、それぞれその照明光の波長と同じ程度か又はこれより小さい幅を有する導電体よりなる分割リング共振器(16)の全面を円板状の絶縁体よりなる保護層(18)で覆ったものである。

3. 发明专利

JP4529433B2 Exposure apparatus and an exposure method, device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP4529433B2
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：JP2003412584
申请日：2003-12-10
申请人：株式会社ニコン
发明人：壮一大和 , 直行小林 , 正洋根井 , 大荒井
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

4. 发明专利

JP4514289B2 The light source device 有权
公开(公告)号：JP4514289B2
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：JP2000178460
申请日：2000-06-14
申请人：古河電気工業株式会社 , 株式会社ニコン
发明人：寿太郎三浦 , 壮一大和 , 朋子大槻 , 秀世平松 , 克弥温井
IPC分类号： G02B6/04 , G02F1/37 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light source device which is small in size, easily maintained, provides sufficient output as an exposure light source and is low in cost. SOLUTION: The device is provided with a signal optical light source 1 which outputs monochromatic signal light beams within a wavelength range that covers from an infrared region to a visible ray region, a signal light beams branching means 2 which branches the signal light beams outputted from the source 1 into plural light beams and a polarized wave adjusted output means 10 which is provided with polarization controllers 4a1 to 4an that make the signal light beams branched by the means 2 into linearly polarized light beams having mutually equal polarization surface directions and a polarized wave holding section 5 that arrangement holds the linearly polarized light beams while the direction of the beams are put into a lined up condition. The source 1 and each output end of the means 2 are provided with optical amplifiers 'a' and 3b1 to 3bn. The means 10 lines up the signal light beams as linearly polarized light beams having equal polarization surfaces. The light beams are then made incident on a wavelength converting unit 6 which converts the wavelength of these linearly polarized light beams collectively into ultraviolet light beams.

5. 发明专利

JPWO2008004664A1 マイクロアクチュエータ、光学ユニット及び露光装置、並びにデバイス製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2008004664A1
公开(公告)日：2009-12-10
申请号：JP2008523755
申请日：2007-07-06
申请人：株式会社ニコン
发明人：大和　壮一 , 壮一大和 , 鈴木　純児 , 純児鈴木
IPC分类号： G02B26/08 , B81B3/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , H04N1/036 , H04N1/113
CPC分类号： G02B26/0841 , B81B3/0051 , B81B2201/042 , B81B2203/053 , B81B2203/058 , G02B26/001 , G03F7/70291 , G03F7/70825 , Y10S359/90
摘要：その一部にバネ部を有する一対の支持部材(54A,54B)がミラー素子(52)を支持し、この一対の支持部材それぞれに対応して設けられた一対の駆動機構(66A、66B)が、対応する支持部材のバネ部を変形させることにより、当該支持部材がミラー素子を支持する支持点とベース(BS)との間の距離を変化させる。これにより、全ての駆動機構を駆動することで、ミラー素子を平行移動することができ、また、一部の駆動機構を駆動することで、ミラー素子をベースに対して傾斜させたりすることが可能である。

6. 发明专利

JP4232449B2 An exposure method, an exposure apparatus, and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP4232449B2
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：JP2002357956
申请日：2002-12-10
申请人：株式会社ニコン
发明人：清内川 , 壮一大和 , 康弘日高
IPC分类号： G02B13/24 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341

7. 发明专利

JP4232130B2 Laser device and light irradiation apparatus and an exposure method using the laser device 有权
公开(公告)号：JP4232130B2
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：JP6325699
申请日：1999-03-10
申请人：株式会社ニコン
发明人：壮一大和 , 朋子大槻
IPC分类号： H01L21/027 , G02F1/37 , G03F7/20 , H01S3/06 , H01S3/10 , H01S3/108
CPC分类号： G03F7/70575
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small type ultraviolet type laser device, with which ultraviolet rays, having both sufficient output as the light source of an exposing device, etc., and low coherence, can be stably generated and a maintenance operation can be performed, and to provide an exposure system. SOLUTION: A laser beam generating part has a single wavelength oscillation laser 21, a light modulator 22 and a time-division light branching means 23, and a light-modulated pulse beam is branch-outputted to each channel of each single pulse. A light amplifier has fiber light amplifiers 24 and 25, each branched channel laser beam is amplified and outputted. The output terminal 29 of the light amplifier is formed by bundles of desired number and shape of one end of fiber. This wavelength of the bundle output is changed by a wavelength changing part and the ultraviolet ray laser of required wavelength is obtained. By the above-mentioned constitution, the diameter of the output terminal becomes 2 mm or smaller when the fiber bundle is formed in one bundle, and the wavelength changing part is composed of a pair of non-linear optical crystals.

8. 发明专利

JPWO2004112108A1 露光方法、基板ステージ、露光装置、及びデバイス製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2004112108A1
公开(公告)日：2006-07-27
申请号：JP2005507005
申请日：2004-06-11
申请人：株式会社ニコン
发明人：大和　壮一 , 壮一大和 , 伸貴馬込 , 伸貴馬込 , 茂蛭川 , 茂蛭川 , 芳彦工藤 , 芳彦工藤 , 井上　次郎 , 次郎井上 , 博高河野 , 博高河野 , 正洋根井 , 正洋根井 , 今井　基勝 , 基勝今井 , 長坂　博之 , 博之長坂 , 健一白石 , 健一白石 , 康文西井 , 康文西井 , 宏明高岩 , 宏明高岩
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/58 , G03F7/2041 , G03F7/707 , G03F7/70716
摘要：投影光学系PLと液体1とを介してパターンの像を基板P上に投影することによって基板Pを露光する際、基板Pの側面PB、裏面PCを撥液処理する。このような構成により基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成し、液体の基板ステージ外部への流出を抑えた状態で露光できる露光方法を提供する。

9. 发明专利

JPWO2003036695A1 露光装置にパージガスを供給する方法、露光装置、及びデバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2003036695A1
公开(公告)日：2005-02-17
申请号：JP2003539085
申请日：2002-10-23
申请人：株式会社ニコン
发明人：仁西川 , 仁西川 , 大和　壮一 , 壮一大和
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/70883 , G03F7/70933
摘要：露光光の光路から吸光物質を高効率で経済的にパージする方法。光源11及び露光装置本体12の立ち上げ時に、パージガスを大流量で露光装置に供給する。光源11に比較的近い照明光学系20において露光光の照度を検出し、光源11から比較的遠い基板Wの近傍において露光光の照度を検出する。検出された両照度の比が所定の範囲になったとき、パージガスの供給モードを小流量に変更する。

10. 发明专利

JP5440541B2 Immersion exposure apparatus, liquid immersion exposure method, and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5440541B2
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：JP2011089259
申请日：2011-04-13
申请人：株式会社ニコン
发明人：直行小林 , 昭一谷元 , 恭志水野 , 健一白石 , 勝志中野 , 壮一大和
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03B27/52 , G03F7/00 , G03F7/2041 , G03F7/70316 , G03F7/70341 , G03F7/70775 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70958 , G03F9/7015 , G03F9/7088 , G03F9/7096
摘要： There is provided an exposure apparatus capable of forming a desirable device pattern by removing unnecessary liquid when performing exposure by projecting a pattern onto the substrate via a projection optical system and the liquid. The exposure device projects an image of the pattern onto the substrate P via the projection optical system and the liquid so as to expose the substrate P. The exposure device includes a liquid removing mechanism 40 which removes the liquid remaining on a part 7 arranged in the vicinity of the image plane of the projection optical system.

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