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1. 发明专利

JPWO2017047591A1 ホモアリルハライド組成物およびホモアリルハライドの保存方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017047591A1
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2016076999
申请日：2016-09-13
申请人：株式会社クラレ
发明人：佐藤純子 , 宇治田克爾 , ▲鶴▼田拓大 , 杉岡尚
IPC分类号： C07C21/04 , C07C17/42
CPC分类号： C07C17/42 , C07C21/04 , C08F14/04
摘要：第三級アミン、含窒素複素環式芳香族化合物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩およびアルカリ金属炭酸水素塩からなる群から選択される1種類以上の塩基性化合物と、ホモアリルハライドとを含有する組成物である。

2. 发明专利

JP2016141737A アクリル酸エステル誘導体、混合物、高分子化合物およびフォトレジスト組成物审中-公开
标题翻译：丙烯酸衍生物，混合物，聚合物化合物和光电组合物
公开(公告)号：JP2016141737A
公开(公告)日：2016-08-08
申请号：JP2015018671
申请日：2015-02-02
申请人：株式会社クラレ
发明人：宇治田克爾 , 荒谷一弘
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027 , C07D327/06 , C07D327/02 , C08F20/38
摘要：【課題】ラインウィドゥスラフネス(LWR)が改善され、且つ高解像度のフォトレジストパターンが形成するフォトレジスト組成物、該フォトレジスト組成物を製造し得る高分子化合物及び該高分子化合物を製造する化合物の提供。【解決手段】式(1)で示されるアクリル酸エステル誘導体。 (R 1 はH、メチル基又はトリフルオロメチル基;R 2 はH;X 1 は−S−;X 2 は−O−又は−S−;U 1 及びU 2 は各々独立に単結合、又はメチレン基及びエチレン基から選択されるアルキレン基;該アルキレン基はアルキル基又はシクロアルキル基から選択される少なくとも1つの置換基によって置換されていてもよい。) 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种光致抗蚀剂组合物，其中形成具有改善的线宽粗糙度（LWR）和高分辨率的光致抗蚀剂图案，可以制备上述光致抗蚀剂组合物的高分子化合物和用于制备高分子化合物的化合物。溶液：提供由式（1）表示的丙烯酸酯衍生物。在该式中，R代表H，甲基或三氟甲基; R代表H Xrepresents -S-; X表示-O-或-S-; Uand Ueach独立地表示单键或选自亚甲基和亚乙基的亚烷基，亚烷基可以被至少一个选自烷基和环烷基的取代基取代。选择的图：无

3. 发明专利

JP6655482B2 有機ケイ素化合物および樹脂組成物有权
公开(公告)号：JP6655482B2
公开(公告)日：2020-02-26
申请号：JP2016126219
申请日：2016-06-27
申请人：株式会社クラレ
发明人：竹田明展 , 宇治田克爾
IPC分类号： C08L101/00 , C08K9/06 , C07F7/18

4. 发明专利

JP5998153B2 ビニルアルコール系重合体及びその製造方法、ならびにビニルアルコール系重合体を含む組成物及び塗工剤有权
标题翻译：乙烯醇系聚合物及其制造方法，以及组合物和涂层剂含有乙烯醇系聚合物
公开(公告)号：JP5998153B2
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：JP2013553109
申请日：2012-12-25
申请人：株式会社クラレ
发明人：金島琢真 , 天野雄介 , 森川圭介 , 藤原直樹 , 長嶋謙介 , 宇治田克爾
IPC分类号： C08F220/56 , C08F8/12 , C09D129/04 , C08L29/04 , C08F216/06
CPC分类号： C08F28/02 , C08F216/06 , C08F28/06 , C08F8/00 , C08F8/12 , C08L41/00 , C09D141/00 , D21H17/36 , D21H19/20 , D21H21/16 , C08F2810/20

5. 发明专利

JP5932656B2 ニトリルの製造方法有权
标题翻译：用于制备腈的方法
公开(公告)号：JP5932656B2
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：JP2012539670
申请日：2011-10-06
申请人：株式会社クラレ
发明人：三好慶 , 宇治田克爾 , 浅沼五朗
IPC分类号： C07C255/46 , C07C253/00
CPC分类号： C07C253/00 , C07C2101/14

6. 发明专利

JPWO2020129446A1 炭化水素の製造方法、精製方法及び精製装置有权
公开(公告)号：JPWO2020129446A1
公开(公告)日：2021-02-15
申请号：JP2019043565
申请日：2019-11-06
申请人：株式会社クラレ
发明人：源直也 , 宇治田克爾 , ▲鶴▼田拓大
IPC分类号： C10G29/20 , C10G29/06 , C10G29/24
摘要：炭化水素に含まれる硫化水素及び−SH基を含有する化合物からなる群から選択される少なくとも1つの硫黄化合物と、α、β−不飽和アルデヒド化合物との反応物を、水の存在下で水溶性化合物に変換する工程(Y)と、油分と水分を分離させる工程(Z)とを含む、炭化水素の製造方法。

7. 发明专利

JP2018012674A アルコール誘導体、アクリル酸エステル誘導体、混合物、高分子化合物およびフォトレジスト組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2018012674A
公开(公告)日：2018-01-25
申请号：JP2016144651
申请日：2016-07-22
申请人：株式会社クラレ
发明人：宇治田克爾 , 荒谷一弘
IPC分类号： C08F20/38 , C07D327/02 , G03F7/039 , C07D327/06
摘要：【課題】LWR(ラインウィドゥスラフネス)が改善され、且つ高解像度のフォトレジストパターンが形成され得るフォトレジスト組成物、該フォトレジスト組成物を製造し得る高分子化合物、及び該高分子化合物を製造し得る化合物の提供。【解決手段】式(1)で示されるアルコール誘導体。 (R 1 〜R 10 は夫々独立にH、アルキル又はシクロアルキル;A 1 は単結合又はC1〜10のアルキレン基;y、zは夫々独立に0又は1) 【選択図】なし

8. 发明专利

JPWO2019107252A1 不飽和二重結合含有化合物、それを用いた酸素吸収剤、及び樹脂組成物审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019107252A1
公开(公告)日：2020-12-10
申请号：JP2018043061
申请日：2018-11-21
申请人：株式会社クラレ
发明人：野口大樹 , 福本隆司 , 宇治田克爾 , 久保敬次
IPC分类号： C07C69/54 , C08L101/00 , C08K5/00 , C07C43/178
摘要：塗料等に用いた場合に架橋反応や硬化反応を十分に進行させることができる酸素吸収性能を有する不飽和二重結合含有化合物を提供する。また、この不飽和二重結合含有化合物を含む酸素吸収剤、及びこれを含む樹脂組成物を提供する。一般式(I)で表される不飽和二重結合含有化合物、これを含む酸素吸収剤、及び樹脂組成物。

9. 发明专利

JPWO2017033813A1 アルケニルハライドの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017033813A1
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2016074028
申请日：2016-08-17
申请人：株式会社クラレ
发明人：佐藤純子 , 宇治田克爾 , ▲鶴▼田拓大 , 杉岡尚
IPC分类号： C07C21/04 , C07C19/01 , C07C17/16
CPC分类号： C07C17/16 , C07B61/00 , C07C21/04
摘要：塩基の存在下、溶媒中で下記一般式(1) 【化1】 (Rは水素原子またはメチル基を表し、Wは炭素数2〜10の2価の飽和炭化水素基を表す) で表されるアルケニルアルコールを下記一般式(2) 【化2】 (Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す) で表されるハロゲン化チオニルと反応させる、下記一般式(3) 【化3】 (R、W、Xは前記定義のとおりである) で表されるアルケニルハライドの製造方法であって、前記塩基の使用量がアルケニルアルコール(1)1モルに対して0.001〜0.3モルであり、前記溶媒が炭化水素および/またはハロゲン化炭化水素であり、前記反応における反応温度が60〜140℃であることを特徴とする前記アルケニルハライドの製造方法。

10. 发明专利

JP2018002595A 有機ケイ素化合物および樹脂組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2018002595A
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：JP2016126219
申请日：2016-06-27
申请人：株式会社クラレ
发明人：竹田明展 , 宇治田克爾
IPC分类号： C08L101/00 , C08K9/06 , C07F7/18
摘要：【課題】樹脂に添加する無機充填材の表面処理用のシランカップリング剤として用いた場合にシランカップリング剤層の耐加水分解性に優れる有機ケイ素化合物の提供。【解決手段】下記一般式(I)で表される有機ケイ素化合物。【化1】 (式中、R 1 〜R 3 はそれぞれ独立して塩素原子、メトキシ基、エトキシ基を表し、R 4 は炭素数1〜10のアルキル基を表し、R 5 は炭素数1〜10のアルキレン基を表す。) 【選択図】なし

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