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    • 8. 发明专利
    • 浸炭制御方法
    • 渗碳控制方法
    • JP2017008403A
    • 2017-01-12
    • JP2015127920
    • 2015-06-25
    • 学校法人トヨタ学園東邦瓦斯株式会社
    • 奥宮 正洋桑山 忠弘清水 誠也三浦 新平
    • C23C8/22
    • 【課題】浸炭処理時における煤の発生を抑制しつつ、表面炭素濃度を制御可能な浸炭制御方法を提供する。 【解決手段】浸炭制御方法では、メタンガスを含む炭化水素ガスと水分が添加されたキャリアガスとをガス浸炭炉内に導入して浸炭処理が行われる。浸炭制御方法は、浸炭処理時におけるガス浸炭炉内の雰囲気ガス中の水素ガス濃度X H2 とメタンガス濃度X CH4 とを得る濃度取得工程と、X CH4 /X H2 2 で規定される炉内成分比を算出する算出工程と、 算出された炉内成分比が予め設定された炉内成分比の設定値よりも大きい場合に、ガス浸炭炉内に導入される炭化水素ガスの流量を減少させ、算出された炉内成分比が上記設定値よりも小さい場合に、ガス浸炭炉内に導入される炭化水素ガスの流量を増加させるように制御する制御工程とを有している。 【選択図】図1
    • 在渗碳处理抑制生成烟灰的同时,它提供了表面碳浓度的可控渗碳控制方法。 进行渗碳控制方法,渗碳处理和载气的烃类气体和水加入含甲烷被引入到气体渗碳炉。 渗碳控制方法中,在获得的甲烷气体浓度XCH4,通过XCH4 / XH22限定的炉成分比率的渗碳和浓度获取步骤计算所述气体渗碳炉内的气氛气体中的氢气浓度的XH2计算步骤 如果,当计算出的炉部件比低于预设炉成分比的设定值时,减少烃类气体的流量被引入到气体渗碳炉,其计算炉部件 如果该比例小于设定值的情况下,和控制,以便增加烃类气体的流量的控制步骤中引入气体渗碳炉。 点域1