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1. 发明专利

JP6680668B2 蓄熱体の製造方法有权
公开(公告)号：JP6680668B2
公开(公告)日：2020-04-15
申请号：JP2016245176
申请日：2016-12-19
申请人：東京窯業株式会社
发明人：足立修一 , 高木修
IPC分类号： F28D17/02 , F28F21/04 , B28B3/00 , C04B41/85 , C04B38/00 , F28D20/00

2. 发明专利

JP6502702B2 熱交換エレメント有权
公开(公告)号：JP6502702B2
公开(公告)日：2019-04-17
申请号：JP2015036880
申请日：2015-02-26
申请人： JFEスチール株式会社 , 東京窯業株式会社
发明人：桑原雅人 , 高木修 , 足立修一
IPC分类号： F28F21/04 , F28F13/18 , F28F1/00 , F28D7/16

3. 发明专利

JP6346834B2 蓄熱式バーナ用蓄熱体有权
公开(公告)号：JP6346834B2
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：JP2014190402
申请日：2014-09-18
申请人：東京窯業株式会社
发明人：影山健友 , 高木修
IPC分类号： F28D20/00 , F28F21/04 , F23L15/02
CPC分类号： F28D17/02

4. 发明专利

JP2017032267A 蓄熱体有权
标题翻译：储热
公开(公告)号：JP2017032267A
公开(公告)日：2017-02-09
申请号：JP2016126540
申请日：2016-06-27
申请人：東京窯業株式会社
发明人：高木修 , 足立修一
IPC分类号： F28D20/00 , F28D17/02
CPC分类号： Y02E60/142
摘要：【課題】比表面積と熱容量とを調整することができ、且つ、容易な作業でデッドスペースを低減して配置することができる蓄熱体の製造方法を提供する。【解決手段】単一の軸方向Zに延びており、軸方向に直交する断面における形状が円形または楕円形である複数の貫通孔10を、軸方向に直交する断面において(2個〜50個)/平方インチの密度で有するセラミックス製の円柱体50を、軸方向に直交する方向Xに、円筒51で一回くり抜く。更に、軸方向Z及び方向Xに直交する方向に、もう一回円筒51でくり抜くこともできる。【選択図】図2
摘要翻译： A可调节的比表面积和热容量，和一种用于制造蓄热体提供的方法可以被放置，以减少死空间一项容易的任务。甲在单个轴向方向Z上延伸，多个贯通的横截面形状的垂直于轴向方向孔10的横截面为圆形或椭圆形的垂直于轴向的方向（2〜50个）/由陶瓷制成的具有垂直于轴向方向的平方英寸的密度，在X方向，与气缸51挖空一次圆柱体50。此外，在垂直于轴向方向Z和X方向的方向，但也可以挖空一次圆筒51。 .The

5. 发明专利

JP5996195B2 フィルタ,機器装置及び清浄化方法有权
标题翻译：过滤器，设备装置和清洗方法
公开(公告)号：JP5996195B2
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：JP2012011086
申请日：2012-01-23
申请人：東京窯業株式会社 , 明智セラミックス株式会社
发明人：高木修 , 影山健友 , 小笠原真 , 亀嶋哲
IPC分类号： A61L2/03 , A61L9/16 , B01J20/02 , B01J20/34 , C02F1/00 , B01D39/20

6. 发明专利

JP5807083B2 ハニカム構造体有权
公开(公告)号：JP5807083B2
公开(公告)日：2015-11-10
申请号：JP2014054805
申请日：2014-03-18
申请人：東京窯業株式会社
发明人：高木修 , 足立修一
IPC分类号： F28D17/02 , F23L15/02 , B01D39/20 , F28D20/00
CPC分类号： Y02E20/348 , Y02E60/142

7. 发明专利

JP6046989B2 炭化ケイ素焼結体の製造方法有权
标题翻译：一种生产烧结碳化硅方法
公开(公告)号：JP6046989B2
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：JP2012254396
申请日：2012-11-20
申请人：東京窯業株式会社
发明人：影山健友 , 高木修 , 小笠原真
IPC分类号： C04B35/573 , C04B35/565 , H05B3/14 , C04B35/626

8. 发明专利

JP2016160103A ハニカム構造体审中-公开
标题翻译：蜂窝结构
公开(公告)号：JP2016160103A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：JP2015036879
申请日：2015-02-26
申请人： JFEスチール株式会社 , 東京窯業株式会社
发明人：桑原雅人 , 足立修一 , 高木修
IPC分类号： F23L15/00 , C04B38/00 , C04B41/85
CPC分类号： Y02E20/348
摘要：【課題】気体の透過が生じにくいハニカム構造体を提供する。【解決手段】ハニカム構造体1は、セラミック製の隔壁2aで多角柱状に区画されたセル10の複数がハニカム状に配列された基体2を有し、該複数のセル10の一部に高温のガスを導入し、他部に低温のガスを導入して、高温のガスと低温のガスとの間で連続的に熱交換を行う熱交換エレメントに用いられる。また、ハニカム構造体1は、隔壁2aの表面に被覆されたガラス層3を備える。ガラス層3の質量は基体2の質量の20質量%以上である。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供几乎不引起气体渗透的蜂窝结构体。解决方案：蜂窝结构体1包括由陶瓷隔壁2a分隔成具有多边形柱状并且以蜂窝形状布置的多个单元10的基体2，并且用作将高温气体引入到多个电池单元10的一部分中的热交换元件，并且将低温气体引入到其另一部分中以在高温气体和低温气体。蜂窝结构体1还包括涂覆在分隔壁2a的表面上的玻璃层3。玻璃层3的质量基于基体2的质量为20质量％以上。图示：图1

9. 发明专利

JP2015175586A ハニカム構造体有权
标题翻译：蜂窝结构
公开(公告)号：JP2015175586A
公开(公告)日：2015-10-05
申请号：JP2014054804
申请日：2014-03-18
申请人：東京窯業株式会社
发明人：高木修 , 足立修一
IPC分类号： F28D20/00 , F23L15/02
CPC分类号： Y02E20/348 , Y02E60/142
摘要：【課題】多数のハニカム構造体を配置する場合であっても、容易な作業でデッドスペースを低減して配置することができるハニカム構造体を提供する。【解決手段】単一の軸方向に延びて列設された隔壁30により区画された複数のセル31を備えるハニカム構造体1を、セル31が開口している端面20の少なくとも外周縁部が湾曲面(円弧面20b)で形成されているものとする。また、ハニカム構造体1は、ハニカム構造体1の中心と交差し、軸方向と直交する第一断面と、ハニカム構造体1の中心と交差し、軸方向と平行である任意の断面のうち最も面積が大きい第二断面の面積とが、非同一である形状を有するものとすることができる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种蜂窝结构体，其中即使在布置许多蜂窝结构体的情况下，也可以减少死空间，并且许多蜂窝结构体易于加工。解决方案：在包括多个蜂窝结构由分隔壁30分隔成一排以沿单一轴线方向延伸的单元31的至少一个端面20的外周边缘部分形成为弯曲表面（弧形表面20b ）。此外，在蜂窝结构体1中，与蜂窝结构体1的中心交叉且与轴向正交的第一横截面的区域与任何截面中具有最大面积的第二横截面的面积不同与蜂窝结构体1的中心交叉并平行于轴向。

10. 发明专利

JP2020070208A 無機焼結体审中-公开
公开(公告)号：JP2020070208A
公开(公告)日：2020-05-07
申请号：JP2018205176
申请日：2018-10-31
申请人：東京窯業株式会社
发明人：高木修 , 山田知幸
IPC分类号： C04B41/86
摘要：【課題】工業炉において排ガスの熱を回収し、回収された熱によって新たに供給されるガスを予熱するために使用される蓄熱体や、工業炉の炉壁などの構造体として使用される無機焼結体の放射率を高める。【解決手段】セラミックス焼結体または耐火レンガの基体を、単体ケイ素を含有するケイ酸系ガラスの層である高放射率コーティング層で被覆する。この高放射率コーティング層は、コバルト成分を含まないことが望ましく、コバルト成分を含有するとしても、酸化コバルト(III)換算でケイ素原子100重量部に対して2.2重量部以下とすることが望ましい。【選択図】図1

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