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1. 发明专利

JP2017063179A 表面処理剤及び表面処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017063179A
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：JP2016122761
申请日：2016-06-21
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：森大二郎 , 熊澤明
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/16 , G03F7/32 , H01L21/027 , H01L21/304
摘要：【課題】基板上に設けられた無機パターン又は樹脂パターンのパターン倒れを効果的に防止することが可能な表面処理剤、及びそのような表面処理剤を使用した表面処理方法を提供することを目的とする。また、その他の目的として、本発明は、被処理体の表面に対して、高度にシリル化処理を行うことのできる表面処理剤、及びそのような表面処理剤を使用した表面処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】被処理体の表面処理に使用される表面処理剤であって、シリル化剤と、ケイ素原子を含まない含窒素複素環化合物と、を含有する表面処理剤を使用する。【選択図】なし

2. 发明专利

JP2021034548A 充填剤及び基板の処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021034548A
公开(公告)日：2021-03-01
申请号：JP2019152915
申请日：2019-08-23
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：内田江美 , 熊谷智弥 , 熊澤明
IPC分类号： H01L21/304
摘要：【課題】パターン倒壊抑制効果に優れるとともに成膜性及び昇華性が良好な充填剤及び当該充填剤を用いた基板の処理方法を提供する。【解決手段】充填剤21は、固化することで、表面に凹凸のパターンが形成された基板1のパターン凹部11aを固化膜22で充填する充填剤であって、イミダゾール及びイミダゾール誘導体からなる群より選択される少なくとも一種を含有する。【選択図】図1

3. 发明专利

JP2016195230A 表面処理方法及び表面処理液审中-公开
标题翻译：表面处理方法和表面处理液体
公开(公告)号：JP2016195230A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2015225644
申请日：2015-11-18
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：森大二郎 , 熊澤明
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027
摘要：【課題】特にシリコンパターンのパターン倒れを効果的に防止することが可能な表面処理液、及びその表面処理液を用いる表面処理方法を提供する。【解決手段】本発明に係る表面処理液は、撥水化剤及び酸イミド化物を含有する。また、本発明に係る表面処理方法は、基板表面に上記表面処理液を暴露させ、該基板表面を疎水化することを含む。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供可以有效地防止硅图案特别是图案滚动的表面处理液以及使用表面处理液的表面处理方法。溶液：根据本发明的表面处理液本发明含有防水剂和酰亚胺化合物。根据本发明的表面处理方法包括将表面处理液体暴露在基材表面上，使得基材表面被疏水化。选择图：无

4. 发明专利

JP6914059B2 表面処理方法及び表面処理液有权
公开(公告)号：JP6914059B2
公开(公告)日：2021-08-04
申请号：JP2017039819
申请日：2017-03-02
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：白井由利子 , 森大二郎 , 熊澤明
IPC分类号： G03F7/075 , H01L21/027 , H01L21/304 , G03F7/38

5. 发明专利

JP6564312B2 表面処理方法及び表面処理液有权
公开(公告)号：JP6564312B2
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：JP2015225644
申请日：2015-11-18
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：森大二郎 , 熊澤明
IPC分类号： H01L21/304

6. 发明专利

JP6486161B2 シリル化剤薬液の調製方法及び表面処理方法有权
公开(公告)号：JP6486161B2
公开(公告)日：2019-03-20
申请号：JP2015060985
申请日：2015-03-24
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：石川清 , 熊澤明 , 森大二郎
IPC分类号： H01L21/304 , C09K3/18

7. 发明专利

JP6681796B2 シリル化剤溶液、表面処理方法、及び半導体デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JP6681796B2
公开(公告)日：2020-04-15
申请号：JP2016122762
申请日：2016-06-21
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：森大二郎 , 熊澤明
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304

8. 发明专利

JP6681795B2 表面処理剤及び表面処理方法有权
公开(公告)号：JP6681795B2
公开(公告)日：2020-04-15
申请号：JP2016122761
申请日：2016-06-21
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：森大二郎 , 熊澤明
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/16 , G03F7/32 , H01L21/027 , H01L21/304

9. 发明专利

JP2020035793A 表面処理剤及び表面処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020035793A
公开(公告)日：2020-03-05
申请号：JP2018158546
申请日：2018-08-27
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：内田江美 , 並木拓海 , 熊澤明
IPC分类号： H01L21/304
摘要：【課題】接液部の劣化を抑えながら、シリル化剤の種類を選ばす、被処理体の表面を高度に撥水化(シリル化)することが可能な表面処理剤を提供する。【解決手段】シリル化剤(A)と、溶剤(S)とを含有し、前記溶剤(S)が、脂肪族炭化水素(S1)を含む、表面処理剤。【選択図】なし

10. 发明专利

JP2016180055A シリル化剤薬液の調製方法及び表面処理方法有权
标题翻译：化学药剂液体和表面处理方法的制备方法
公开(公告)号：JP2016180055A
公开(公告)日：2016-10-13
申请号：JP2015060985
申请日：2015-03-24
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：石川清 , 熊澤明 , 森大二郎
IPC分类号： H01L21/304 , C09K3/18
CPC分类号： B01D69/02 , B01D15/361 , C07F7/10 , B01D2325/42 , B01D61/02 , B01D61/14
摘要：【課題】加熱により変質しやすいものや加水分解性を有するものもあるため、蒸留精製ができないシリル化剤薬液の、金属不純物の濃度を低減するシリル化剤薬液の調製方法、及び、シリル化剤薬液を用いる表面処理方法の提供。【解決手段】予め有機溶剤に接触させたイオン交換樹脂膜を用いて処理前シリル化剤薬液中の金属不純物を低減する工程を含む、シリル化剤薬液の調製方法。前記金属不純物は、Fe、Cu、Al及びZnより選択される少なくとも1つを含み、前記有機溶剤がアルキレングリコールアルキルエーテルアセテートであり、具体的には、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PEGMEA)である、シリル化剤薬液の調製方法。基板表面に、上記シリル化剤薬液を暴露させ、基板表面を疎水化する表面処理方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于降低不能被蒸馏精制的硅烷化剂化学液体的金属杂质的浓度的硅烷化剂化学液的制备方法，因为可以容易地通过加热或具有可水解性而被改性，一种使用硅烷化剂的液体的表面处理方法。提供了一种硅烷化剂液体的制备方法，包括在处理前通过使用与有机物接触的离子交换树脂膜来还原硅烷化剂化学液体中的金属杂质的方法溶剂提前。提供了硅烷化剂化学液体的制备方法，其中金属杂质含有选自Fe，Cu，Al和Zn中的至少一种，有机溶剂是亚烷基二醇烷基醚乙酸酯，特别是丙二醇单甲醚乙酸酯（PEGMEA）。提供了将硅烷化剂化学液体暴露于基材表面并使基材表面疏水化的表面处理方法。选择图：无

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