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1. 发明专利

JP6516459B2 下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法有权
公开(公告)号：JP6516459B2
公开(公告)日：2019-05-22
申请号：JP2014247109
申请日：2014-12-05
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：矢萩真人 , 川上晃也 , 前橋貴哉 , 鈴木一生 , 松宮祐 , 黒澤剛志 , 山野仁詩
IPC分类号： C09D133/04 , C08F112/04 , C08F120/12 , H01L21/027 , C09D125/04

2. 发明专利

JP2018100384A 相分離構造形成用樹脂組成物、及び、相分離構造を含む構造体の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018100384A
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：JP2016248488
申请日：2016-12-21
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：山野仁詩 , 太宰尚宏 , 松宮祐
IPC分类号： C08K5/00 , C08L101/12
CPC分类号： C09D153/00 , C08J3/28 , C08J2353/00 , C09D5/00 , C09D7/20 , G03F7/0002 , G03F7/0048 , G03F7/16 , G03F7/2006 , G03F7/26
摘要：【課題】欠陥の少ない良好な形状のパターンを形成できる、相分離構造形成用樹脂組成物、及びこれを用いる相分離構造体を含む構造体の製造方法を提供する。【解決手段】親水性ブロック及び疎水性ブロックが結合したブロックコポリマーと、沸点200℃以上の有機溶剤(S1)を含む溶剤成分(S)と、を含有する相分離構造形成用樹脂組成物。【選択図】なし

3. 发明专利

JP2016108435A 下地剤組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法有权
标题翻译：基体化合物组成和制备方法包含相分离结构的结构
公开(公告)号：JP2016108435A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014246801
申请日：2014-12-05
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：山野仁詩 , 松宮祐 , 矢萩真人 , 黒澤剛志 , 宮城賢
IPC分类号： C08F212/04 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , B05D7/24 , B32B27/30 , C09D133/04 , C09D125/04
CPC分类号： B05D1/36 , C09D125/14 , C09D153/00 , G03F7/0002 , B82Y40/00
摘要：【課題】下地剤組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法。【解決手段】基板上に、ブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤組成物であって、樹脂成分(N)を含有し、該樹脂成分(N)が、疎水性の構成単位(Nx)と、親水性の構成単位(Ny)とを含有し、前記樹脂成分(N)中の、前記構成単位(Ny)の含有量が、5モル%以下であることを特徴とする下地剤組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种基质剂组合物和含有相分离结构的结构体的制造方法。溶液：提供了一种用于在基材上含有嵌段共聚物的层相分离的基材组合物，其含有具有疏水结构单元（Nx）和亲水结构单元（Ny）的树脂组分（N），并且具有5mol％以下的结构单元（Ny）的含量。选择图：无

4. 发明专利

JP2017226837A 樹脂の製造方法、及び相分離構造を含む構造体の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017226837A
公开(公告)日：2017-12-28
申请号：JP2017119670
申请日：2017-06-19
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：山野仁詩 , 松宮祐
IPC分类号： B01D71/26 , C08F12/08 , C08F6/06
摘要：【課題】不純物をより低減できる、樹脂の製造方法を提供すること、及び、ブロックコポリマーの相分離性能をより高められる、相分離構造を含む構造体の製造方法を提供する。【解決手段】疎水性の構成単位(u1)の繰り返し構造からなる重合体を含有する樹脂組成物を、ポリオレフィン樹脂製の膜を備えたフィルターにより濾過して、精製樹脂を得る濾過工程を有する、樹脂の製造方法。濾過工程で得られた精製樹脂を含有する下地剤を、基板上に塗布して下地剤層を形成する工程と、下地剤層上に、疎水性ポリマーブロックと親水性ポリマーブロックとが結合したブロックコポリマーを含む層を形成する工程と、ブロックコポリマーを含む層を相分離させる工程と、を有する、相分離構造を含む構造体の製造方法。【選択図】なし

5. 发明专利

JP6093590B2 相分離構造を含む構造体の製造方法、ガイドパターン形成方法有权
标题翻译：一种制造结构包括相分离结构的方法，所述引导图案形成方法
公开(公告)号：JP6093590B2
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：JP2013031283
申请日：2013-02-20
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：黒澤剛志 , 塩野大寿 , 宮城賢 , 松宮祐 , 宮下健一郎 , 大森克実
IPC分类号： G03F7/40 , H01L21/027 , G03F7/039

6. 发明专利

JP6027912B2 相分離構造を含む構造体の製造方法、及びパターン形成方法、並びにトップコート材料有权
标题翻译：制造包括相分离结构的结构，并且图案化工艺，以及顶部涂层材料的方法
公开(公告)号：JP6027912B2
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：JP2013033563
申请日：2013-02-22
申请人：東京応化工業株式会社 , 国立大学法人東京工業大学
发明人：松宮祐 , 瀬下武広 , 大森克実 , 宮城賢 , 塩野大寿 , 宮下健一郎 , 黒澤剛志 , 早川晃鏡
IPC分类号： B32B27/30 , C08J7/00 , B82Y40/00 , C08F220/00 , C09D153/00 , C09D133/14 , C09D183/04 , B05D7/24 , B32B27/00
CPC分类号： C09D183/10 , B81C1/00031 , B82Y40/00 , C08G18/61 , C08L53/00 , C09D153/00 , G03F7/0002 , B81C2201/0149 , C08G77/045 , C08G77/442

7. 发明专利

JP2016108444A 下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法审中-公开
标题翻译：包含相分离结构的基板代理和制造方法
公开(公告)号：JP2016108444A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014247108
申请日：2014-12-05
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：矢萩真人 , 鈴木一生 , 前橋貴哉 , 松宮祐 , 黒澤剛志 , 山野仁詩
IPC分类号： B32B27/00 , B32B27/30 , B05D7/24 , C08F8/34
摘要：【課題】ブロックコポリマーの相分離性能が高められ、簡便に用いることができる下地剤、及びこれを用いた相分離構造を含む構造体の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に形成した、疎水性ポリマーブロック(b11)と親水性ポリマーブロック(b21)とが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分は、疎水性ポリマーブロック(b12)の構成単位、又は親水性ポリマーブロック(b22)の構成単位を有し、かつ、主鎖の少なくとも一つの末端部にチオール基(−SH)を有することを特徴とする下地剤。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种提高嵌段共聚物的相分离性能并能够简单使用的底物，以及含有使用其的相分离结构的结构体的制造方法。溶液：提供了用于含有形成在基材上的疏水性聚合物嵌段（b11）和亲水性聚合物嵌段（b21）的嵌段共聚物的层的相分离，含有具有疏水性聚合物嵌段（b12）的结构单元的树脂成分，或亲水性聚合物嵌段（b22）的结构单元，并且在主链的至少一个末端部分上具有硫醇基（-SH）。选择图：无

8. 发明专利

JP2016108436A 下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法有权
标题翻译：包含相分离结构的基板代理和制造方法
公开(公告)号：JP2016108436A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014246812
申请日：2014-12-05
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：矢萩真人 , 前橋貴哉 , 川上晃也 , 鈴木一生 , 松宮祐 , 黒澤剛志 , 山野仁詩
IPC分类号： H01L21/027 , C08F12/04 , C08F8/00 , C09D5/00 , C09D125/04
摘要：【課題】ブロックコポリマーの相分離性能が高められ、簡便に用いることができる下地剤、及びこれを用いた相分離構造を含む構造体の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に形成した、複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分は、式(u1−1)で表される置換基を有するポリスチレン誘導体である下地剤。 [RはH、C1〜5のアルキル基又はC1〜5のハロゲン化アルキル基;R 1 はハロゲン原子、又はO、ハロゲン原子或いはケイ素原子を含んでいてもよいC1〜20の直鎖状、分岐鎖状、環状或いはこれらの組み合わせによる炭化水素基;pは1〜5の整数] 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种提高嵌段共聚物的相分离性能并能够简单使用的底物，以及含有使用其的相分离结构的结构体的制造方法。溶液：提供了用于包含嵌段共聚物的层的相分离，其中在基材上形成的几种嵌段结合，其含有具有由式（u1-1）表示的取代基的聚苯乙烯衍生物的树脂组分。（u1-1），其中R是H，C1至5的烷基或C1至5的卤代烷基，R是卤素原子或O，C1至20的直链，支链，环状或组合的烃基，其可以含有卤素原子或硅原子，p为1〜5的整数。选择图示：无

9. 发明专利

JP2015070054A 相分離構造を含む構造体の製造方法及びブロックコポリマー組成物审中-公开
标题翻译：用于制造包括相分离结构的结构的方法和嵌段共聚物组合物
公开(公告)号：JP2015070054A
公开(公告)日：2015-04-13
申请号：JP2013201764
申请日：2013-09-27
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：黒澤剛志 , 塩野大寿 , 宮城賢 , 松宮祐 , 宮下健一郎 , 大森克実
IPC分类号： C08L53/00 , B82Y40/00 , B82Y30/00 , B05D7/24 , H01L21/027
CPC分类号： C09D153/00 , C09D183/10 , G03F7/0002 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C08G77/045 , C08G77/442
摘要：【課題】相分離構造を含む構造体の製造方法、相分離構造体及びブロックコポリマー組成物の提供。【解決手段】基板上に、中性化膜を塗布し、該中性化膜からなる層を形成する工程と、前記中性化膜からなる層の上に、周期の異なる複数種類のブロックコポリマーの混合物を含む層を形成する工程と、当該ブロックコポリマーの混合物を含む層を相分離させる工程と、を有することを特徴とする相分離構造を含む構造体の製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供：一种用于制造包括相分离结构的结构的方法; 相分离结构; 和嵌段共聚物组合物。解决方案：一种用于制造包括相分离结构的结构的方法，包括以下步骤：通过将中和膜施加到基底上而形成由中和膜构成的层; 在由中和膜构成的层上形成包含循环不同的嵌段共聚物的混合物的层; 并引起包含嵌段共聚物的混合物的层的相分离。

10. 发明专利

JP6475963B2 下地剤組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法有权
公开(公告)号：JP6475963B2
公开(公告)日：2019-02-27
申请号：JP2014246801
申请日：2014-12-05
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：山野仁詩 , 松宮祐 , 矢萩真人 , 黒澤剛志 , 宮城賢
IPC分类号： C08F212/04 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , B05D7/24 , B32B27/30 , C09D133/14 , C09D125/04

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