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    • 7. 发明专利
    • マイクロレンズパターン製造用ポジ型感光性樹脂組成物
    • 用于生产微型图案的阳性感光树脂组合物
    • JP2016133733A
    • 2016-07-25
    • JP2015009713
    • 2015-01-21
    • 東京応化工業株式会社
    • 松本 直純井上 朋之高橋 和樹磯部 信吾
    • G03F7/039G03F7/004C08F212/14G02B3/00
    • 【課題】優れた解像性及び広いフローマージンのいずれをも備えたマイクロレンズパターン製造用ポジ型感光性樹脂組成物並びにそれを用いたマイクロレンズパターンの製造方法及びマイクロレンズの製造方法を提供する。 【解決手段】本発明に係るマイクロレンズパターン製造用ポジ型感光性樹脂組成物は、酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂(A)と、少なくとも2個のビニルオキシ基を有する化合物(B)と、光酸発生剤(C)とを含有し、上記樹脂(A)は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a1)と、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位における少なくとも1個の水酸基の水素原子が酸解離性溶解抑制基含有基で置換された構成単位(a2)とを有する樹脂(A1)を含む。 【選択図】なし
    • 要解决的问题:提供一种具有优异的分辨率和流动边界的微透镜图案的正型感光性树脂组合物,以及微透镜图案的制造方法以及使用上述组成的微透镜的制造方法。 用于生产本发明的微透镜图案的正型感光性树脂组合物包含具有酸解离溶解抑制基团的树脂(A),通过酸的作用显示与碱的溶解度增加,化合物(B) 具有至少两个乙烯基氧基和光酸产生剂(C)。 树脂(A)包含具有由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a1)的树脂(A1)和基于由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a2),其中至少一个羟基中的氢原子被至少一个羟基取代的结构单元 含有酸解离溶解抑制基团的基团。选择图:无