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1. 发明专利

JP6242283B2 成膜方法有权
公开(公告)号：JP6242283B2
公开(公告)日：2017-12-06
申请号：JP2014093799
申请日：2014-04-30
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 岩谷産業株式会社
发明人：矢部和雄 , 清水亮 , 泉浩一 , 古谷政博
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/455 , H01L21/316
CPC分类号： H01L21/67017 , C23C16/402 , C23C16/45534 , H01L21/02164 , H01L21/022 , H01L21/02236

2. 发明专利

JP2015211193A 成膜方法有权
标题翻译：电影制作方法
公开(公告)号：JP2015211193A
公开(公告)日：2015-11-24
申请号：JP2014093799
申请日：2014-04-30
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 岩谷産業株式会社
发明人：矢部和雄 , 清水亮 , 泉浩一 , 古谷政博
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/455 , H01L21/316
CPC分类号： H01L21/67017 , C23C16/402 , C23C16/45534 , H01L21/02164 , H01L21/022 , H01L21/02236
摘要：【課題】基板への原料の吸着と、当該原料の酸化とからなるサイクルを繰り返し行って前記基板に酸化膜を成膜するにあたり、基板を加熱する加熱機構を用いずに前記酸化を十分に行い、良好な性質の酸化膜が得られる技術を提供すること。【解決手段】真空雰囲気中で基板の表面に酸化物の分子層を積層して薄膜を得る成膜方法において、原料を含む原料ガスを真空容器内の前記基板に対して供給し、基板に原料を吸着させる原料ガス供給工程と、次いで、真空容器内に連鎖分解反応を起こす濃度以上の濃度のオゾンを含む雰囲気を形成するオゾン雰囲気形成工程と、続いて、前記オゾン雰囲気にエネルギーを供給してオゾンを強制的に分解させることにより酸素の活性種を発生させ、当該活性種により前記基板の表面に吸着されている原料を酸化して前記酸化物を得る酸化工程と、からなるサイクルを複数回繰り返し行う。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种充分进行原料氧化的技术，以获得具有优异性能的氧化膜，而没有任何加热基材的加热机理，当包括将原料吸附到基材上的循环和氧化重复进行原料以在基材上形成氧化膜。溶液：在真空气氛下在基板表面上层压氧化物分子层以形成薄膜的方法重复多次，包括原料气体在真空容器内将含有原料的原料气体供给到基板上，使原料吸附在基板上的臭氧气氛形成工序，在真空容器内形成浓度不低于臭氧的气氛比引起链分解反应的浓度，以及向臭氧气氛供给能量的氧化步骤强制二氧化碳分解臭氧并产生活性物质的氧，并通过活性物质氧化吸附在基体表面上的原料，得到氧化物。

3. 发明专利

JP6334928B2 金属基材の表面処理方法、金属コード及び伝動ベルト有权
公开(公告)号：JP6334928B2
公开(公告)日：2018-05-30
申请号：JP2014010760
申请日：2014-01-23
申请人：岩谷産業株式会社 , 東京製綱株式会社
发明人：小池国彦 , 井上吾一 , 古谷政博 , 奥村治樹 , 蜂須賀俊次 , 劉兆方 , 青木幸子
IPC分类号： F16G1/08 , D07B1/06 , B05D3/10 , B05D7/14 , C23C28/00 , C23C22/05 , C23C22/78

4. 发明专利

JP6267879B2 オゾンガスに含まれる窒素酸化物除去方法有权
公开(公告)号：JP6267879B2
公开(公告)日：2018-01-24
申请号：JP2013136231
申请日：2013-06-28
申请人：岩谷産業株式会社
发明人：小池国彦 , 井上吾一 , 泉浩一 , 古谷政博 , 中村貞紀
IPC分类号： B01D53/04 , C01B13/10

5. 发明专利

JP2017057128A オゾンガスの供給方法、およびオゾンガスの供給システム审中-公开
公开(公告)号：JP2017057128A
公开(公告)日：2017-03-23
申请号：JP2015185747
申请日：2015-09-18
申请人：岩谷産業株式会社
发明人：牧平尚久 , 泉浩一 , 古谷政博
IPC分类号： C01B13/11
CPC分类号： C01B13/11 , B01D53/04
摘要：【課題】窒素酸化物が除去されたオゾンガスを安定した濃度で供給する。【解決手段】オゾンガスの供給方法は、オゾンガス源10からのオゾンガスを第2の流路85,87,102を介して供給する工程と、窒素酸化物濃度上昇情報を検知した場合に、オゾンガスを、第1の流路85,86,91A,92A,96,102を介して供給する状態に切り替えて、窒素酸化物の濃度が低下したオゾンガスを供給する工程とを備える。オゾンガスを第2の流路85,87,102を介して供給する工程は、オゾンガスの一部を第1容器20Aに導入して第1吸着剤のオゾン吸着能を抑制する工程を含む。オゾンガスを第1の流路85,86,91A,92A,96,102を介して供給対象物に供給する工程では、オゾン吸着能が抑制された第1吸着剤を保持する第1容器20Aをオゾンガスが通過する。【選択図】図1

6. 发明专利

JP6545589B2 オゾンガスの供給方法、およびオゾンガスの供給システム有权
公开(公告)号：JP6545589B2
公开(公告)日：2019-07-17
申请号：JP2015185747
申请日：2015-09-18
申请人：岩谷産業株式会社
发明人：牧平尚久 , 泉浩一 , 古谷政博
IPC分类号： C01B13/11

7. 发明专利

JP6404116B2 窒素酸化物の除去方法、オゾンガスの供給方法、およびオゾンガス供給装置审中-公开
公开(公告)号：JP6404116B2
公开(公告)日：2018-10-10
申请号：JP2014265587
申请日：2014-12-26
申请人：岩谷産業株式会社
发明人：泉浩一 , 古谷政博
IPC分类号： C01B13/11 , B01D53/04

8. 发明专利

JP6936714B2 被処理対象物の内壁面の処理方法有权
公开(公告)号：JP6936714B2
公开(公告)日：2021-09-22
申请号：JP2017230351
申请日：2017-11-30
申请人：岩谷産業株式会社
发明人：泉浩一 , 古谷政博 , 山本剛
IPC分类号： C23C8/12

9. 发明专利

JP6179934B2 オゾン含有ガス中のNOxガス検出方法およびその装置有权
公开(公告)号：JP6179934B2
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：JP2013032903
申请日：2013-02-22
申请人：岩谷産業株式会社 , 国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：古谷政博 , 西村宏 , 中村貞紀 , 井上吾一 , 小池国彦 , 黒河明
IPC分类号： G01N21/59 , G01N30/00 , G01N30/88 , G01N21/64 , G01N21/33 , G01N21/03

10. 发明专利

JP2016123915A 窒素酸化物の除去方法、オゾンガスの供給方法、およびオゾンガス供給装置审中-公开
标题翻译：氮氧化物的除去方法，臭氧供给方法和臭氧气体供应装置
公开(公告)号：JP2016123915A
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：JP2014265587
申请日：2014-12-26
申请人：岩谷産業株式会社
发明人：泉浩一 , 古谷政博
IPC分类号： C01B13/11 , B01D53/04
摘要：【課題】窒素酸化物が除去されたオゾンガスを継続的にかつ安定した濃度で供給することを可能とする窒素酸化物の除去方法を提供する。【解決手段】窒素酸化物の除去方法は、第1容器51にオゾンガスを導入する工程と、第1容器51内の第1吸着剤の窒素酸化物吸着能を回復させるとともに、第2容器52にオゾンガスを導入する工程と、第3容器52にオゾンガスを導入しつつ、第1容器51にオゾンガスを導入して窒素酸化物吸着能が回復した第1吸着剤のオゾン吸着能を抑制する工程と、第1容器51にオゾンガスを導入して窒素酸化物吸着能が回復し、かつオゾン吸着能が抑制された第1吸着剤に窒素酸化物を吸着させ、窒素酸化物の濃度が低下したオゾンガスを第1容器51から吐出する工程と、を備える。【選択図】図6
摘要翻译：要解决的问题：提供能够以稳定浓度连续供给除去氮氧化物的臭氧气体的氮氧化物的除去方法。解决方案：氮氧化物的除去方法包括：将臭氧气体引入到第一容器51; 回收第一容器51中的第一吸收剂的氮氧化物吸收能力并将臭氧气体引入第二容器52的过程; 在第三容器52中引入臭氧气体的同时，将臭氧气体引入第一容器51中并抑制回收氮氧化物吸收能力的第一吸收剂的臭氧吸收能力的过程; 以及将臭氧气体引入到第一容器51中的工序，使得回收氮氧化物吸收能力并抑制臭氧吸收能力的第一吸收剂吸收氮氧化物，并将其中的臭氧气体排出来自第一容器51的氮氧化物的浓度降低

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