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1. 发明专利

JP2015073915A 気泡除去方法、気泡除去装置、脱気装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体有权
标题翻译：泡沫拆卸方法，泡沫拆卸装置，加料装置和计算机可读记录介质
公开(公告)号：JP2015073915A
公开(公告)日：2015-04-20
申请号：JP2013209642
申请日：2013-10-04
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：井関智弘 , 船越秀朗 , 戸塚誠也
IPC分类号： H01L21/306 , B01D19/00
CPC分类号： B01D19/0063 , B01D19/0036
摘要：【課題】微小気泡をフィルタから除去することによりフィルタの性能を改善することが可能な気泡除去方法を提供する。【解決手段】気泡除去方法は、供給源からの処理液の脱気を行い、高脱気液を作成するステップ(高脱気液作成)と、作成された高脱気液を、第1の処理液流量でポンプ装置P1からフィルタ装置F1に供給するステップ(仮通液)と、高脱気液を、第1の処理液流量よりも大きな第2の処理液流量でポンプ装置P1からフィルタ装置F1に供給するステップ(初期通液)と、ポンプ装置P1からフィルタ装置F1へと高脱気液を所定時間流したままとするステップ(通液)とを含む。【選択図】図13
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过从过滤器去除微泡来提高过滤器性能的气泡去除方法。解决方案：气泡去除方法包括以下步骤：从供应源进行处理液体的脱气并制备高脱气液体（高脱气液体制剂），以第一处理液体流量（临时渗透）将制备的高脱气液体从泵单元P1供给到过滤器单元F1，将制备的高脱气液体从泵单元P1供给到过滤器单元 F1的第二处理液体流量大于第一处理液体流速（初始渗透），并且将制备好的高沸点液体从泵单元P1供给到过滤器单元F1预定时间（渗透）。

2. 发明专利

JP6905902B2 処理液供給装置有权
公开(公告)号：JP6905902B2
公开(公告)日：2021-07-21
申请号：JP2017174298
申请日：2017-09-11
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：一野克憲 , 中島常長 , 船越秀朗 , 松岡伸明 , 梶原正幸
IPC分类号： B05C11/10 , H01L21/027

3. 发明专利

JP6902601B2 基板処理システム有权
公开(公告)号：JP6902601B2
公开(公告)日：2021-07-14
申请号：JP2019501109
申请日：2018-01-12
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：羽島仁志 , 松岡伸明 , 中島常長 , 安武孝洋 , 船越秀朗 , 中村泰之
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677

4. 发明专利

JP2020037076A フィルタユニット、液処理システム及び液処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020037076A
公开(公告)日：2020-03-12
申请号：JP2018165180
申请日：2018-09-04
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：栗島啓聡 , 船越秀朗 , 一野克憲
IPC分类号： H01L21/027 , B01D24/42 , B01D29/92 , B01D39/16 , B01D29/90 , B01D36/00
摘要：【課題】本開示は、二次側でのパーティクル量を低減することが可能なフィルタユニット、液処理システム及び液処理方法を提供する。【解決手段】フィルタユニットは、互いに着脱可能に構成された第1〜第N(Nは2以上の自然数)のフィルタ装置を備える。第n(nは1〜Nの自然数)のフィルタ装置は、処理液を濾過するように構成された第nのフィルタ本体と、第nのフィルタ本体を内部に保持するように構成された第nの筐体と、第nのフィルタ本体の上流側において第nの筐体に設けられた第nの入口部と、第nのフィルタ本体の下流側において第nの筐体に設けられた第nの出口部とを含む。第m(mは1〜N−1の自然数)のフィルタ装置と、第m+1のフィルタ装置とは、第mの出口部と第m+1の入口部とが水密に連通し且つ第mの筐体と第m+1の筐体とが当接するように組立可能とされている。【選択図】図6

5. 发明专利

JP6013302B2 気泡除去方法、気泡除去装置、脱気装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体有权
标题翻译：气泡去除方法中，气泡清除装置，脱气装置，和计算机可读记录介质
公开(公告)号：JP6013302B2
公开(公告)日：2016-10-25
申请号：JP2013209642
申请日：2013-10-04
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：井関智弘 , 船越秀朗 , 戸塚誠也
IPC分类号： B01D35/22 , B01D19/00
CPC分类号： B01D19/0063 , B01D19/0036

6. 发明专利

JPWO2018154993A1 基板処理システム审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018154993A1
公开(公告)日：2019-11-21
申请号：JP2018000655
申请日：2018-01-12
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：羽島仁志 , 松岡伸明 , 中島常長 , 安武孝洋 , 船越秀朗 , 中村泰之
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677
摘要：基板を処理する処理装置として熱処理装置等を備え、該処理装置にウェハWを搬送するための搬送領域が設けられた基板処理システムにおいて、音波を放射し搬送領域内の浮遊パーティクルが基板に付着することを防止する音波放射装置を備える。音波放射装置は、例えば搬送領域における熱処理装置のウェハの搬出入口に隣接する領域や、基板搬送領域における、カセット載置部に対する基板搬出入口に隣接する領域に設けられる。また、音波反射装置は、基板搬送装置に取り付けられていてもよい。

7. 发明专利

JP2019050311A 処理液供給装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019050311A
公开(公告)日：2019-03-28
申请号：JP2017174298
申请日：2017-09-11
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：一野克憲 , 中島常長 , 船越秀朗 , 松岡伸明 , 梶原正幸
IPC分类号： B05C11/10 , H01L21/027
摘要：【課題】より異物の少ない処理液を供給する。【解決手段】レジスト液供給装置200は、レジスト液中の異物を除去するフィルタ206とレジスト液を送出するポンプ207とが配設された供給経路202を介して、塗布ノズル142にレジスト液を供給する。チューブフラムポンプであるポンプ207およびフィルタ206の上流側に開閉バルブ205が配設され、ポンプ207およびフィルタ206の下流側にサックバックバルブ208が配設されている。制御部Uは、ポンプ207からのレジスト液の送出を停止させる制御と、サックバックバルブ208の作動により塗布ノズル142からのレジスト液の吐出を中断させた後に、開閉バルブ205を閉止することで上記吐出を完全に停止させる制御とを行う。【選択図】図6

8. 发明专利

JP2015115486A 液供給装置审中-公开
标题翻译：液体供应装置
公开(公告)号：JP2015115486A
公开(公告)日：2015-06-22
申请号：JP2013257033
申请日：2013-12-12
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：船越秀朗 , 久保田稔
IPC分类号： B05C5/00 , B05C11/08 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC分类号： B05B9/03 , B05B12/081 , B05B15/025 , H01L21/6715
摘要：【課題】処理液を被処理体に供給するにあたって、装置の複雑化を抑えながら、当該処理液を速やかに吐出させること。【解決手段】レジスト液が貯留された貯留室23と当該レジスト液を吐出するノズル21とをカードリッジ12として一体化すると共に、待機部13からカードリッジ12をウエハWの直上位置に搬送して、このカードリッジ12からレジスト液を直接吐出する。そして、カードリッジ12にレジスト液を補充する補充口28について、レジスト液を吐出するノズル21とは別に設ける。また、カードリッジ12が置かれる待機部13において、カードリッジ12にレジスト液を補充する構成を設ける。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：在将工艺液体提供给工件时，快速地排出处理液体，同时抑制装置的复杂化。存储抗蚀剂液体的储存室23和用于排出抗蚀剂液体的喷嘴21被一体化为盒如图12所示，盒12然后从待机部分13传送到晶片W正上方的位置，并且抗蚀剂液体直接从盒12排出。用于用抗蚀剂液体补充盒12的补充口28是与用于排出抗蚀剂液体的喷嘴21分开设置。放置盒12的备用部分13设置有用于用抗蚀剂液体补充盒12的构造。

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