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1. 发明专利

JP6281162B2 処理液供給管、処理液供給装置及び液処理装置有权
公开(公告)号：JP6281162B2
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：JP2014245922
申请日：2014-12-04
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：稲田博一 , 木下尚文 , 岡本芳樹
IPC分类号： H01L21/304 , B05C11/08 , H01L21/027

2. 发明专利

JP6680096B2 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体有权
公开(公告)号：JP6680096B2
公开(公告)日：2020-04-15
申请号：JP2016117221
申请日：2016-06-13
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：安倍昌洋 , 稲田博一 , 東徹 , 中島常長 , 木下尚文 , 梶原英樹
IPC分类号： B05D1/40 , H01L21/683 , H01L21/027

3. 发明专利

JP2017224653A 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体审中-公开
公开(公告)号：JP2017224653A
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：JP2016117221
申请日：2016-06-13
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：安倍昌洋 , 稲田博一 , 東徹 , 中島常長 , 木下尚文 , 梶原英樹
IPC分类号： B05D1/40 , H01L21/683 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/6715 , G03F7/16
摘要：【課題】ノズル載置領域と、複数の基板載置領域上の各処理位置との間でノズルの搬送が行われる液処理装置について、ノズルに接続される配管へのダメージを抑えると共に、スループットの低下を抑えること。【解決手段】基板載置領域の列の後方に設けられ、ノズル41が載置されるノズル載置領域と、アーム54を旋回軸の周りに水平方向に旋回させ、また前記旋回軸を左右方向に移動させるための駆動部とを備えるように装置を構成する。そして、ノズル載置領域から、各処理位置に対応して設定された待機位置20A、20Bのうち、搬送先の処理位置に対応する待機位置にその後方から前記ノズルを搬送し、次いで、当該待機位置にて当該ノズルを待機させ、然る後、前記処理位置に当該ノズルを搬送する。前記待機位置は、基板載置領域の外側であり、前後方向で見て処理位置とノズル載置領域との間に位置している。【選択図】図10

4. 发明专利

JP6344277B2 液処理装置有权
公开(公告)号：JP6344277B2
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：JP2015056612
申请日：2015-03-19
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：木下尚文 , 坂井勇治
IPC分类号： G03F7/16 , B05C11/08 , H01L21/027

5. 发明专利

JP6053656B2 液処理装置有权
公开(公告)号：JP6053656B2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：JP2013212412
申请日：2013-10-10
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：吉村好貴 , 木下尚文 , 滝口靖史
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027

6. 发明专利

JP6020271B2 液処理装置有权
公开(公告)号：JP6020271B2
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：JP2013055605
申请日：2013-03-18
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：木下尚文 , 坂井勇治
IPC分类号： H01L21/304 , B05C11/08 , B05C11/10 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67051 , B05C11/08 , G03F7/162 , H01L21/68714 , H01L21/68735 , H01L21/68785

7. 发明专利

JP2016178192A 液処理装置有权
标题翻译：液体加工设备
公开(公告)号：JP2016178192A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：JP2015056612
申请日：2015-03-19
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：木下尚文 , 坂井勇治
IPC分类号： G03F7/16 , B05C11/08 , H01L21/027
摘要：【課題】互いに横方向に並ぶカップモジュールと、これらカップモジュールに対して共通に用いられる処理液供給用のノズルとを備える液処理装置において、装置の大型化を抑えること。【解決手段】カップモジュール201、202を互いに左右に並ぶように配置し、これらカップモジュール201、202の左右両側に第1のノズル群301及び第2のノズル群302を夫々待機させる。第1のノズル群301の第1の給液管群341はカップモジュール201の後方領域17まで引き回され、更に右側に屈曲されて右方向に向かって伸びる。第2のノズル群302の第2の給液管群342は後方領域17まで引き回され、更に左側に屈曲されて左方向に向かって伸びる。後方領域17には、第1及び第2の給液管群341、342が左右方向に分けて配列されるため、装置の大型化を抑制することができる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：抑制包括沿侧向相互排列的杯模块的液体处理装置的尺寸增加和用于杯模块共同使用的处理液供给喷嘴。解决方案：杯模块201,202并排布置 ; 第一喷嘴组301和第二喷嘴组302分别在一对杯模块201,202的左侧和右侧分别搁置。第一喷嘴组301的第一液体供给管组341被抽吸到杯模块201后面的后部区域17，并且进一步向右侧弯曲以向右方向延伸。第二喷嘴组302的第二液体供给管组342被抽吸到后部区域17，并且进一步向左侧弯曲以向左方向延伸。在后部区域17中分配成左右两个方向的第一和第二液体供给管组341,342的布置使得可以抑制装置的尺寸增加。图示：图1

8. 发明专利

JP2016111132A 処理液供給管、処理液供給装置及び液処理装置有权
标题翻译：处理液体供应管，处理液体供应装置和液体处理器
公开(公告)号：JP2016111132A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014245922
申请日：2014-12-04
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：稲田博一 , 木下尚文 , 岡本芳樹
IPC分类号： H01L21/304 , B05C11/08 , H01L21/027
摘要：【課題】処理液供給管2に温調液を流すことによりレジストノズル部101から温調されたレジスト液を供給するにあたり、処理液供給管2の縮径化を図ることができる技術を提供すること。【解決手段】レジストノズル部101にその先端側が接続された処理液供給管2を、レジスト液の流路を形成する内管41と、通液空間を介してこの内管41を囲む外管42と、からなる二重管構成としている。そして内管41と外管42との間を区画部により、例えば2分割に分割して往路用の流路40A及び復路用の流路40Bに割り当てるか、あるいは、4等分に分割して往路用の流路40A及び復路用の流路40Bを周方向に交互に割り当てる。【選択図】図6
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过使温度调节液体流入处理液供给管2而从抗蚀剂喷嘴部101供给温度调节抗蚀剂液体时能够实现加工液供给管2的直径减小的技术解决方案：公开了一种处理液供给管2，其末端侧与抗蚀剂喷嘴部101连接，其中处理液供给管2具有由形成抗蚀剂液体的通道的内管41和双层管构成的双管结构，经由液体通过空间围绕内管41的外管42。然后，内管41与外管42之间的空间被划分成例如分成两个分隔部的分隔部，其中一个分配给用于接近路径的通道40A，而另一个分配给用于返回路径的通道40B 或者分别交替地分配到用于接近路径的通道40A和用于沿圆周方向的返回路径的通道40B的四个部分中。图6

9. 发明专利

JP5909218B2 基板液処理装置有权
标题翻译：底物溶液处理装置
公开(公告)号：JP5909218B2
公开(公告)日：2016-04-26
申请号：JP2013190984
申请日：2013-09-13
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：吉村好貴 , 木下尚文 , 滝口靖史
IPC分类号： H01L21/304 , G03F7/30 , B05C11/08 , H01L21/027

10. 发明专利

JP5779168B2 周縁部塗布装置、周縁部塗布方法及び周縁部塗布用記録媒体有权
标题翻译：周涂敷装置，所述周涂敷方法和涂敷的周边记录介质
公开(公告)号：JP5779168B2
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：JP2012265395
申请日：2012-12-04
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：畠山真一 , 佐藤好友 , 田代和之 , 木下尚文
IPC分类号： B05C11/08 , B05D1/40 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/02282 , H01L21/6715

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