专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP5685571B2 硬化性組成物有权
公开(公告)号：JP5685571B2
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：JP2012238367
申请日：2012-10-29
申请人：東亞合成株式会社 , 株式会社豊田自動織機
发明人：さやか大池 , さやか大池 , 昭憲北村 , 昭憲北村 , 鈴木　浩 , 浩鈴木
IPC分类号： C08F290/06 , C08F299/08 , C08G77/20
CPC分类号： C08G77/14 , C08G77/18 , C08G77/20 , C09D183/04

2. 发明专利

JP5590171B2 Production method of the polysiloxane and its cured product 有权
公开(公告)号：JP5590171B2
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：JP2013045014
申请日：2013-03-07
申请人：東亞合成株式会社
发明人：昭憲北村 , 浩鈴木
IPC分类号： C08G77/20 , C08G77/12 , C08L83/05 , C08L83/07
CPC分类号： C08G77/20 , C08G77/045 , C08G77/12 , C08G77/18 , C08G77/80 , C09D183/04

3. 发明专利

JP5263171B2 Production method of the polysiloxane and its manufacturing method, and the cured product 有权
公开(公告)号：JP5263171B2
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：JP2009542533
申请日：2008-11-13
申请人：東亞合成株式会社
发明人：昭憲北村 , 浩鈴木
IPC分类号： C08G77/20 , C08G77/12
CPC分类号： C08G77/20 , C08G77/045 , C08G77/12 , C08G77/18 , C08G77/80 , C09D183/04

4. 发明专利

JP4135638B2 Novel organic silicon compounds as well as an optically active form of the method of manufacturing the same, and the organic silicon compound 有权
公开(公告)号：JP4135638B2
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：JP2003573003
申请日：2003-03-05
申请人：東亞合成株式会社
发明人：昭憲北村 , 祇生吉田 , 洋慈堀江 , 仁治藤田
IPC分类号： C07F7/08 , C07B57/00 , C07F7/10 , C07F7/12 , C07F7/18
CPC分类号： C07F7/12 , C07B2200/07 , C07F7/0818 , C07F7/0896 , C07F7/10 , C07F7/1844

5. 发明专利

JP5527432B2 Method of manufacturing a solvent-soluble reactive polysiloxane 有权
公开(公告)号：JP5527432B2
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：JP2012550817
申请日：2011-12-14
申请人：東亞合成株式会社
发明人：昭憲北村 , 尚正古田 , 浩鈴木
IPC分类号： C08G77/20 , C08F299/08 , C08G77/06
CPC分类号： C08K5/103 , C08G77/06 , C08G77/20

6. 发明专利

JP5282732B2 Production method of the reactive polysiloxane 有权
公开(公告)号：JP5282732B2
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：JP2009292025
申请日：2009-12-24
申请人：東亞合成株式会社
发明人：昭憲北村 , 尚正古田 , 浩鈴木
IPC分类号： C08G77/32 , C08G77/06 , C08G77/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide, in a method for producing a condensate of a silicon compound soluble in a solvent (hereinafter referred to as a reactive polysiloxane), a production method using a safe acid, other than nitric acid, hardly causing gelling when used for neutralization in a neutralization process after hydrolytic condensation by an alkali catalyst and obtaining the stable reactive polysiloxane. SOLUTION: The production method uses an organic acid in a neutralization process in a method in which neutralization is performed with an acid after performing co-hydrolytic condensation of at least two silicon compounds in alkaline conditions. More preferably, in the method for producing a reactive polysiloxane, a carboxylic acid having pKa of 5 or less is used, and liquid properties of the neutralization liquid after the neutralization has pH of 2 or more and less than 7. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

7. 发明专利

JPWO2009131038A1 硬化性組成物及び有機ケイ素化合物の製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2009131038A1
公开(公告)日：2011-08-18
申请号：JP2010509149
申请日：2009-04-14
申请人：東亞合成株式会社
发明人：さやか大池 , さやか大池 , 昭憲北村 , 昭憲北村 , 鈴木　浩 , 浩鈴木
IPC分类号： C08F299/08 , C08G77/06 , C08G77/20
CPC分类号： C08G77/14 , C08G77/18 , C08G77/20 , C09D183/04
摘要：安定性に優れた有機ケイ素化合物を含有し且つ硬化性、耐傷性及び基材に対する密着性に優れる硬化物を与える硬化性組成物、並びに、製造中又は製造後のゲル化が抑制され、安定性に優れるとともにラジカル硬化性に優れる有機ケイ素化合物の製法を提供する。本発明の組成物は、(A)ケイ素化合物R0Si(R1)nX13−n(R0は(メタ)アクリロイル基、X1は加水分解性基)及び(B)ケイ素化合物SiY14(Y1はシロキサン結合生成基)を、アルカリ性条件で化合物(A)1モルに化合物(B)0.3〜1.8モルの割合で加水分解共重縮合させることにより得られた有機ケイ素化合物を含有する。本発明の有機ケイ素化合物の製法は、ケイ素化合物SiY24(Y2はシロキサン結合生成基)を、1−プロパノール中でアルコール交換反応させる反応工程と、アルカリ性条件下、得られた組成物に、ケイ素化合物R0Si(R1)nX23−n(R0は(メタ)アクリロイル基、X2は加水分解性基)を添加し加水分解共重縮合させる縮合工程とを備える。

8. 发明专利

JPWO2003074536A1 新規な有機ケイ素化合物ならびにその光学活性体、および該有機ケイ素化合物の製造方法ならびにその用途有权
公开(公告)号：JPWO2003074536A1
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：JP2003573004
申请日：2003-03-05
申请人：東亞合成株式会社
发明人：洋慈堀江 , 洋慈堀江 , 昭憲北村 , 昭憲北村 , 貴義内田 , 貴義内田 , 仁治藤田 , 仁治藤田 , 祇生吉田 , 祇生吉田
IPC分类号： C07F7/12 , C07C29/48 , C07C29/88 , C07C33/22 , C07D307/20 , C07F7/18 , G01N30/06 , G01N30/88
CPC分类号： C07F7/1844 , C07B2200/07 , C07C29/48 , C07C2602/02 , C07D307/20 , C07F7/12 , C12C11/02 , C07C33/18
摘要：光学分割剤などに有用な式(1)で表される化合物を提供する。また、式(1)で表される化合物から誘導される式(4)で表される化合物を提供する。Ar1とAr2は異なっていて、置換基を有していてもよいフェニル基などを;R1はアルキル基などを;R2はアルコール化合物由来のものを;Xはハロゲンを示す。

9. 发明专利

JPWO2014157070A1 活性エネルギー線硬化型塗料組成物有权
标题翻译：可辐射固化的涂料组合物
公开(公告)号：JPWO2014157070A1
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：JP2015508473
申请日：2014-03-24
申请人：東亞合成株式会社
发明人：絹子小倉 , 絹子小倉 , 昭憲北村 , 昭憲北村 , 尚正古田 , 尚正古田
IPC分类号： C09D183/07 , C08F290/06 , C08F299/08 , C09D4/00 , C09D175/16
CPC分类号： C09D175/16 , C08F230/08 , C08F290/068 , C08G18/672 , C08G18/73 , C08G77/20 , C08G77/442 , C08L83/10 , C09D4/00 , C08F226/02
摘要：本願発明の活性エネルギー線硬化型塗料組成物は、下記(A)−(C)成分を特定の割合で含有する。(A):一般式(1)で表される(メタ)アクリロイル基含有ケイ素化合物(a1)1モルに対して、SiY4(Yはシロキサン結合生成基)で表されるケイ素化合物(a2)0.3〜1.8モルの割合で、加水分解共重縮合させて得られる有機ケイ素化合物。(B):各々3価以上の脂肪族多価アルコールから誘導され、(メタ)アクリロイル基を2個以上有し、水酸基を1個以上有する(メタ)アクリレートとポリイソシアネートとの付加反応で得られるウレタンアダクト化合物(b1)、及び、(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、水酸基を有さない(メタ)アクリレート(b2)、から構成される、(メタ)アクリレート混合物。(C):分子内に窒素原子を有するラジカル重合性不飽和化合物。
摘要翻译：含有以特定比例的组分（C） - 本发明中，以下的（A）的可辐射固化的涂料组合物。（A）：通式（1）所表示的（甲基）丙烯酰基相对于硅化合物（A1）1个摩尔，SiY4（Y硅氧烷键生成基团）通过（A2）0.3〜表示的硅化合物含有基团的以1.8摩尔的比例，通过水解共缩聚得到的有机硅化合物。（B）：从每个三元以上的脂肪族多元醇衍生的，由（甲基）加成反应得到具有丙烯酰基的两个或更多，羟基具有一个或多个（甲基）丙烯酸酯和多异氰酸酯氨基甲酸酯加合物化合物（b1）和具有丙烯酰基三个或更多个，无羟基的（甲基）丙烯酸酯（B2）（甲基），（甲基）丙烯酸酯混合物组成。（C）：在分子中具有氮原子的自由基聚合性不饱和化合物。

10. 发明专利

JPWO2013099909A1 ポリシロキサンの製造方法有权
标题翻译：聚硅氧烷的制造方法
公开(公告)号：JPWO2013099909A1
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：JP2013551719
申请日：2012-12-26
申请人：東亞合成株式会社
发明人：絹子小倉 , 絹子小倉 , 昭憲北村 , 昭憲北村
IPC分类号： C08G77/06 , C08G77/20
CPC分类号： C08G77/20 , C08G77/06 , C08G77/80 , C09D183/04
摘要：本発明は、下記の式(1)で表されるポリシロキサンの製造方法であって、炭素原子数4〜6の第2級アルコール及び炭素原子数4〜6の第3級アルコールから選ばれた少なくとも1種のアルコールを含む反応溶媒中で、構成ユニットを形成する原料モノマーの加水分解・重縮合反応を行う縮合工程を備える。本発明のポリシロキサンの製造方法に拠れば、製造中に生じるゲル化、並びに製造後の保存時等に見られる分子量増大又はゲル化等の不具合が抑制される。
摘要翻译：本发明是一种生产由下式（1）表示的聚硅氧烷的方法，从叔醇的仲醇中选择，并具有4-6个碳原子的4-6个碳原子在包括至少一种醇的反应溶剂包括用于形成构成单位进行原料单体的水解和缩聚反应的缩合步骤。根据本发明的聚硅氧烷的制造方法，制造，以及分子量的增加，凝胶化或在等时存储看出制造缺陷被抑制后等过程中发生凝胶化。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式