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    • 6. 发明专利
    • 透明導電性フィルムの製造方法
    • 生产透明导电薄膜的方法
    • JP2015128070A
    • 2015-07-09
    • JP2015018300
    • 2015-02-02
    • 日東電工株式会社
    • 田部 真理安藤 豪彦菅原 英男
    • B32B7/02B32B15/08G06F3/041H01B13/00
    • 【課題】透明導電体層がパターン化されている透明導電性フィルムにおいて、基材の厚みを80μm以下と小さくした場合でも、透明導電体層のパターン境界が視認されることによる、見栄えの低下を抑止する。 【解決手段】本発明の製造方法は、可撓性透明基材上にパターン化されていない透明導電体層が形成された積層体を準備する積層体準備工程、透明導電体層の一部を除去して可撓性透明基材上に透明導電体層を有するパターン形成部と可撓性透明基材上に透明導電体層を有していないパターン開口部とにパターン化するパターン化工程、および透明導電体層がパターン化された後の前記積層体を加熱する熱処理工程、を有する。熱処理工程における、パターン形成部の寸法変化率H 1 とパターン開口部の寸法変化率H 2 との差H 1 −H 2 の絶対値は0.03%未満であることが好ましい。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:为了抑制透明导电膜中的图案化透明导电层的图案边界的视觉识别导致的外观劣化,即使当透明导电膜的基材的厚度减小到80μm或 本发明的制备方法包括:层压制备步骤,制备包含形成在柔性透明基材上的未图案化的透明导电层的层压体; 图案化步骤,除去透明导电层的一部分,以在柔性透明基材上形成具有透明导电层的图案形成部分和在柔性透明基材上形成不具有透明导电层的图案开口部分; 以及在图案化透明导电层之后加热层压体的热处理步骤。 在热处理步骤中,图案形成部分的尺寸变化率Hat和尺寸变化率Hat之间的图案打开部分的差H-H的绝对值优选小于0.03%。