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1. 发明专利

JP2020109053A シリカ系複合微粒子分散液、その製造方法及びシリカ系複合微粒子分散液を含む研磨用スラリー审中-公开
公开(公告)号：JP2020109053A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：JP2020043805
申请日：2020-03-13
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：俵迫祐二 , 若宮義憲 , 柏田真吾 , 井上一昭 , 中山和洋 , 小松通郎
IPC分类号： B24B37/00 , H01L21/304 , C09K3/14 , C01B33/146
摘要：【課題】シリカ膜、Siウェハや、難加工材であっても高速で研磨することができ、同時に高面精度(低スクラッチ等)を達成でき、さらに不純物を含まないため、半導体基板、配線基板などの半導体デバイスの表面の研磨に好ましく用いることができるシリカ系複合微粒子分散液の提供。【解決手段】非晶質シリカを主成分とする母粒子の表面に結晶性セリアを主成分とする子粒子が結合し、さらにそれらを覆うシリカ被膜を有している、下記の特徴を備えるシリカ系複合微粒子を含むシリカ系複合微粒子分散液によって、上記課題を解決する。母粒子と子粒子との質量比が特定範囲であること。X線回折に供するとセリアの結晶相のみが検出されること。結晶性セリアの(111)面(2θ=28度近傍)の結晶子径が特定範囲であること。Na等の含有率が低いこと。シリカ被膜のCe原子数%に対するSi原子数%の比が特定範囲であること。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2021165212A シリカ系粒子分散液およびその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021165212A
公开(公告)日：2021-10-14
申请号：JP2020068303
申请日：2020-04-06
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：中山和洋 , 向井達也 , 柏田真吾 , 村上智顕
IPC分类号： B24B37/00 , C09K3/14 , C01B33/152
摘要：【課題】シリカ系基板あるいはNiPメッキされた被研磨基板等に対して、高い研磨速度及び高面精度を達成することが可能なシリカ系粒子群を含むシリカ系粒子分散液の提供。【解決手段】異形シリカ系粒子および非異形シリカ系粒子からなるシリカ系粒子群を含むシリカ系粒子分散液であって、前記異形シリカ系粒子は、内部に細孔を有するコアおよびそれを被覆する被覆シリカ層を有し、前記シリカ系粒子群は下記[1]〜[3]を満たすシリカ系粒子分散液によって上記課題を解決する。[1]重量平均粒子径(D 1 )が60〜600nmであり、比表面積換算粒子径(D 2 )が15〜300nmであること。[2]重量平均粒子径(D 1 )と投影面積相当粒子径(D 3 )との比で表される異形度D(D=D 1 /D 3 )が1.1〜5.0の範囲にあること。[3]体積基準粒子径分布を波形分離すると、分離ピークが3つ以上検出される多峰分布となること。【選択図】図1

3. 发明专利

JP2021134098A シリカ微粒子分散液およびその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021134098A
公开(公告)日：2021-09-13
申请号：JP2020029342
申请日：2020-02-25
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：俵迫祐二 , 田中瞬 , 柏田真吾 , 川上翔大
IPC分类号： C01B33/143
摘要：【課題】研磨剤として好ましく用いることができる、不純物を含まないシリカ微粒子分散液の提供。【解決手段】下記1)および2)を満たすシリカ微粒子が溶媒に分散してなるシリカ微粒子分散液。1)前記シリカ微粒子の窒素吸着法により測定した比表面積(S B )と、前記シリカ微粒子の次式[S C (m 2 /g)=6000/D p (nm)・ρ]で表される比表面積(S C )との比(S B /S C )が0.9〜1.2の範囲にあること。(但し、Dp:シリカ微粒子の透過型電子顕微鏡写真から測定して得られた平均粒子径(nm)、ρ:密度(g/ml)である。)2)前記シリカ微粒子に含まれる下記金属成分のSiO 2 当たりの含有率が、何れも5ppm未満(金属換算)であること。Cu、Ni、Ag、Al、Ca、Cr、Fe、Mg、Na、K、Pb、TiおよびZn。【選択図】図1

4. 发明专利

JP6371193B2 シリカ系複合粒子分散液の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP6371193B2
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：JP2014215724
申请日：2014-10-22
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：俵迫祐二 , 若宮義憲 , 柏田真吾 , 井上一昭
IPC分类号： B24B37/00 , H01L21/304 , C01B33/149

5. 发明专利

JP2015063451A 金属酸化物粒子およびその製造方法ならびに用途审中-公开
标题翻译：金属氧化物颗粒及其生产方法和应用
公开(公告)号：JP2015063451A
公开(公告)日：2015-04-09
申请号：JP2014171727
申请日：2014-08-26
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：柏田真吾 , 井上一昭 , 俵迫祐二 , 三好真美 , 吉田聡 , 小松通郎
IPC分类号： C01B33/149 , C01B39/20 , B24B37/00 , H01L21/304 , C01B13/14
摘要：【課題】ガラスハードディスク、石英ガラス、水晶、アルミニウムディスク、半導体デバイスのSiO 2 酸化膜、珪素半導体ウエハー、化合物半導体ウエハー等の基板に対する研磨特性に優れた金属酸化物粒子及びその製造方法の提供。【解決手段】下記の工程(a)および(b)を含んでいる金属酸化物粒子の製造方法。(a)正又は負の表面電位(V A )を有し、平均粒子径(D A )が40〜600nmである基体用金属酸化物粒子(A)と、これと反対の正又は負の表面電位(V B )を有し、平均粒子径(D B )が4〜60nmの範囲にある被覆用金属酸化物粒子(B)との混合分散液を調製する工程、(b)混合分散液を陰イオン交換樹脂で処理する工程。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供抛光特性优良的金属氧化物颗粒，例如玻璃硬盘，石英玻璃，岩石晶体，铝盘，半导体器件的SiO 2膜，硅半导体晶片，化合物半导体晶片并提供其制造方法。解决方案：金属氧化物颗粒的制造方法包括以下步骤（a）和（b）。（a）制备包含具有正或负表面电位（V）和平均粒径（D）为40-600nm的基体的金属氧化物颗粒（A）和金属氧化物颗粒的混合分散体的步骤（B），其具有与表面电位（V）相反的正或负表面电位（V），平均粒径（D）在4-60nm的范围内，以及处理混合分散体与阴离子交换树脂。

6. 发明专利

JP2021059490A シリカ系粒子分散液およびその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021059490A
公开(公告)日：2021-04-15
申请号：JP2020168315
申请日：2020-10-05
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：中山和洋 , 向井達也 , 柏田真吾 , 三輪勇樹
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/304 , C01B33/141
摘要：【課題】シリカ系基板あるいはNiPメッキされた被研磨基板等に対して、高い研磨速度及び高面精度を達成することが可能なシリカ系粒子群を含むシリカ系粒子分散液の提供。【解決手段】異形シリカ系粒子および非異形シリカ系粒子からなるシリカ系粒子群を含むシリカ系粒子分散液であって、前記シリカ系粒子群は下記[1]〜[3]を満たすシリカ系粒子分散液。[1]重量平均粒子径(D 1 )が60〜400nmであり、比表面積換算粒子径(D 2 )が20〜300nmであること。[2]重量平均粒子径(D 1 )と投影面積相当粒子径(D 3 )との比で表される異形度D(D=D 1 /D 3 )が1.1〜5.0の範囲にあること。[3]体積基準粒子径分布を波形分離すると、分離ピークが3つ以上検出される多峰分布となること。【選択図】なし

7. 发明专利

JP6385307B2 板状粒子、及び該板状粒子を含む研磨用組成物审中-公开
公开(公告)号：JP6385307B2
公开(公告)日：2018-09-05
申请号：JP2015070676
申请日：2015-03-31
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：俵迫祐二 , 柏田真吾 , 小松通郎
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/00 , C01B33/46

8. 发明专利

JP2015199652A 板状粒子、及び該板状粒子を含む研磨用組成物审中-公开
标题翻译：片状颗粒和包含片状颗粒的抛光组合物
公开(公告)号：JP2015199652A
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：JP2015070676
申请日：2015-03-31
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：俵迫祐二 , 柏田真吾 , 小松通郎
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/00 , C01B33/46
摘要：【課題】研磨速度と研磨面の平滑性がともに良好な研磨粒子、研磨材を提供する。【解決手段】画像解析法で測定された平均長径(D)が200〜400nm、平均短径(S)が70〜300nm、平均厚み(H)が20〜100nmの範囲にあり、平均長径(D)と平均厚み(H)との比(D)/(H)の値が4〜10の範囲にあり、平均長径(D)と平均短径(S)との比(D)/(S)の値が1.2〜10の範囲にあり、XRDパターンが無定形であり、そのモル比組成がAl 2 O 3 :Na 2 O:SiO 2 =100:1〜10:200〜25000で表されることを特徴とする板状粒子。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供抛光速度和抛光面平滑度都令人满意的抛光颗粒和抛光材料。解决方案：提供一种片状颗粒，其特征在于，通过图像分析方法测量的平均长轴（D）为200〜400nm，平均采矿轴（S）为70〜300nm，平均厚度（H）在20〜100nm的范围内，平均长径（D）），平均厚度（H），（D）/（S）在1.2〜10的范围内，XRD图案为无定形，其摩尔比组成由AlO：NaO:SiO = 100:1〜 200至25,000。

9. 发明专利

JP6730254B2 シリカ系複合微粒子分散液及びシリカ系複合微粒子分散液を含む研磨用スラリー有权
公开(公告)号：JP6730254B2
公开(公告)日：2020-07-29
申请号：JP2017510150
申请日：2016-03-30
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：俵迫祐二 , 若宮義憲 , 柏田真吾 , 井上一昭 , 中山和洋 , 小松通郎
IPC分类号： B24B37/00 , H01L21/304 , C09K3/14 , C09G1/02 , C01B33/146

10. 发明专利

JP6598719B2 シリカ系複合粒子分散液の製造方法有权
公开(公告)号：JP6598719B2
公开(公告)日：2019-10-30
申请号：JP2016069721
申请日：2016-03-30
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：俵迫祐二 , 若宮義憲 , 柏田真吾 , 井上一昭
IPC分类号： C01B33/18 , B24B37/00 , C01B33/14

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